「film projection」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a laser anneal device for manufacturing a polycrystalline semiconductor film, whereby a highly reliable transistor free of characteristic variations can be obtained by preventing inclusion of impurities to a polycrystalline semiconductor film and reducing projection of a grain part of polycrystalline silicon, when a polycrystalline semiconductor film is formed by laser annealing method.例文帳に追加

レーザアニール法により多結晶半導体膜を形成する際、不純物の多結晶半導体膜への混入を防ぎ、かつ多結晶シリコンの粒界部の突起を低減して、特性変動がなく信頼性の高いトランジスタが得られる多結晶半導体膜を作製するレーザアニール装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

An LED chip 10 (semiconductor light-emitting device) includes a semiconductor light-emitting element layer 4 and a porous film 8 formed on a surface of the semiconductor light-emitting element layer 4 on a side of a projection direction (C2 direction) of light, wherein the porous film 8 has a plurality of pores 8 formed extending along the thickness of the film (C1 direction).例文帳に追加

このＬＥＤチップ１０（半導体発光装置）は、半導体発光素子層４と、半導体発光素子層４の光の出射方向（Ｃ２方向）側の表面上に形成された多孔質膜８とを備え、多孔質膜８は、膜の厚み方向（Ｃ１方向）に延びるように形成された複数の細孔８を含む。 - 特許庁

To provide a liquid crystal device in which an insulating film having a continuous flat surface on the upper layer side of a pixel electrode, is formed throughout an element substrate, and an insulating film having a uniform film thickness is also formed on each pixel electrode, and also to provide a method for manufacturing the liquid crystal device, and a projection display device.例文帳に追加

素子基板全体にわたって、画素電極の上層側に連続した平坦面を備えた絶縁膜を形成することができるとともに、各画素電極上に均等な膜厚の絶縁膜を設けることができる液晶装置、液晶装置の製造方法、および投射型表示装置を提供すること。 - 特許庁

A buried layer 34 is formed through a process of applying material of low viscosity on the ferroelectric film 32 formed through an MOCVD method, then the whole surface of the buried layer 34 is subjected to anisotropic etching to remove projection tops on the surface of the ferroelectric film 32, and then the buried layer 34 left on the surface of the ferroelectric film 32 is removed.例文帳に追加

ＭＯＣＶＤにより形成した強誘電体膜３２上に、低粘度の材料を塗布して埋め込み層３４を形成し、次いで、全面を異方性エッチングして強誘電体膜３２表面の凸部頂上を除去し、次いで、強誘電体膜３２表面に残存する埋め込み層３４を除去する。 - 特許庁

At this time, the end form of the material 5a for forming the light absorbing coating film deposited onto the projection parts 3 can be formed accurately by managing the size of the droplet of the material 5a for forming the light absorbing coating film to be discharged to be small in the vicinity of the boundary to the light reflective coating film 4.例文帳に追加

このとき、吐出させる光吸収性被覆膜形成用材料５ａの液滴の大きさを、光反射性被覆膜４との境界近傍では小さく管理することにより、凸部３に着弾される光吸収性被覆膜形成用材料５ａの端部形状を精度よく形成することができる。 - 特許庁

To provide a film deposition method, a film deposition apparatus, an optical element, and a projection aligner of high time efficiency for omitting an atmosphere opening step of a vacuum vessel to exchange a masking means, and exchanging the masking means according to a thin film material and a substrate while evacuating the vacuum vessel.例文帳に追加

遮蔽手段を交換するための真空容器の大気開放工程を排除し、真空容器を減圧したまま薄膜用材料や基板に応じた遮蔽手段を交換する、時間効率の高い成膜方法、成膜装置、光学素子および投影露光装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The resist pattern forming method is provided with a process, wherein a pattern formed in a reticle is imprinted on a resist film in the status that optical path medium in which acid is added to fluorine solvent has been interposed between a projection column 33 and a substrates 10, a process which heats the resist film on which a latent image was formed, and a process which develops the heated resist film.例文帳に追加

投影レンズ系３３と基板１０との間に、フッ素溶剤に酸を添加した光路媒質を介在させた状態でレチクルに形成されたパターンをレジスト膜に転写する工程と、潜像が形成されたレジスト膜を加熱する工程と、加熱されたレジスト膜を現像する工程を含む。 - 特許庁

The source electrode of a TFT in a reflection region 101 of an active matrix substrate 40 is used as a reflecting film in common and a transparent electrode film 11 in a transmission region 102 is extended to a surface of a projection transparent organic film 9 on the TFT and electrically connected to the source electrode 7 through a contact hole.例文帳に追加

アクティブマトリクス基板４０の反射領域１０１のＴＦＴのソース電極７を反射膜として兼用し、透過領域１０２の透明電極膜１１をＴＦＴ上の凸状の透明有機膜９表面に延設してコンタクトホールを介してソース電極７に電気的に接続する。 - 特許庁

In the manufacturing method of the electrode for the lithium secondary battery formed by depositing the thin film of the active material on the current collector 1 with a thin film forming device indicated in Fig 1, the height of the projection formed on the surface of the electrode is lowered by applying pressure treatment after the deposition of the thin film.例文帳に追加

図１に示されるような薄膜形成装置を用い、集電体１上に活物質の薄膜を堆積させるリチウム二次電池用電極の製造方法において、前記薄膜の堆積後に加圧処理を行うことによって、電極の表面に形成された突起の高さを低減せしめることを特徴とする。 - 特許庁

A communicating hole 76 for communicating the second orifice flow passage is arranged in a nonoverlapping position to the openings of the film part 66B, and a projection 78 compressed between opposed wall surfaces 68A and 68B of the valve storage chamber when the film part 66B is deflectively deformed, is arranged on a film surface of the nonoverlapping position.例文帳に追加

膜部分６６Ｂの上記開口に対して重ならない位置に第２オリフィス流路を連通させる連通穴７６を設けるとともに、当該重ならない位置の膜面に、膜部分６６Ｂが撓み変形することで弁収容室の対向する壁面６８Ａ，６８Ｂとの間で圧縮される突起７８を設ける。 - 特許庁

The protected substrate includes: the electrically conductive substrate 15; a protective film 50 which covers the surface of the electrically conductive substrate 15 and comprises a diamond-like carbon layer; and a carbon particle C which is the electrically conductive carbon particle C dispersed in the protective film 50 and has a contact portion contacted with the electrically conductive substrate 15 and a projection portion projected from the protective film.例文帳に追加

保護基板は、導電性の基板１５と、該基板１５の表面を被覆するダイヤモンドライクカーボン層からなる保護膜５０と、保護膜５０中に分散される導電性の炭素粒子１５であって、１５基板に接触する接触部と、保護膜から表出する表出部とを有する炭素粒子Ｃと、を備える。 - 特許庁

To provide a method of easily manufacturing a surfacing type magnetic head slider for reducing quantity of projection of a protecting film without giving bad influence to a property of the magnetic head element.例文帳に追加

製造が容易でありかつ磁気ヘッド素子の特性に悪影響を与えることなく保護膜の突出量を低減することができる浮上型磁気ヘッドスライダの製造方法を提供する。 - 特許庁

In the buff treatment, after a film forming substrate 43 is peeled off, recession/projection at the back surface Q_0 side is removed by a buff material while press-contacting a flat surface of a press-contact roller 65 with a surface P_0 of a skin layer 4.例文帳に追加

バフ処理では、成膜基材４３を剥離後、スキン層４の表面Ｐ_０に圧接ローラ６５の平坦な表面を圧接しながら、バフ材で裏面Ｑ_０側の凹凸が除去される。 - 特許庁

An open diameter A of an opening 46a of the projection 46 is set to be not smaller than 1/2 of a diameter B of a diaphragm 45a as a deflection deformable part of the film member 45.例文帳に追加

突起４６の開口４６ａの開口径Ａは、フィルム部材４５のうち撓み変形可能な部分であるダイヤフラム４５ａの直径Ｂの１／２以上に設定されている。 - 特許庁

The lubricating oil spouted from a lubricating oil ejection hole 26 stagnates on the upper surface of the projection 11, and a lubricating oil film is formed on the outer peripheral surface, following to the rotation of the roller 14.例文帳に追加

潤滑油噴出孔２６から噴出された潤滑油は凸部１１上面に滞留し、ローラ１４の回転に伴いローラ１４の外周面上に潤滑油膜を形成する。 - 特許庁

To provide a disc-type grinder capable of preventing breakage of a grinder chip even when the grinder chip collides with a projection during film removal work.例文帳に追加

本発明では、塗膜等の除去作業において、砥石チップが突起物と衝突しても、砥石チップの破損を防止することができるディスク状砥石を提案することを目的とする。 - 特許庁

To provide a simpler manufacturing method of a microlens, the microlens having excellent optical characteristics, an optical film, a screen for projection, a projector system, an electrooptical apparatus and electronic equipment.例文帳に追加

より製造方法が簡単なマイクロレンズの製造方法、光学特性の良好なマイクロレンズ、及び光学膜、プロジェクション用スクリーン、プロジェクターシステム、電気光学装置、電子機器を提供する。 - 特許庁

When a longer battery is housed in the lens-fitted photo film unit, the supporting projection 35 is cut away, and a supporting member 61 is fixed instead, to produce a second main body portion 59.例文帳に追加

レンズ付きフイルムユニットに軸長の長い電池を収納するときには、保持突起部３５を削除して、その代わりの保持突起片６１を固着して第２の本体基部５９を形成する。 - 特許庁

To provide a thin film magnetic head in which a recording operation can be secured stably by preventing collision with a recording medium by decreasing the extent of projection of a recording shield layer.例文帳に追加

記録シールド層の突出量を減少させることにより記録媒体との衝突を防止し、記録動作を安定に確保することが可能な薄膜磁気ヘッドを提供する。 - 特許庁

A video provided by irradiating a film surface S13 with light is made incident from the object side on the 2nd lens group and the 1st lens group in this order and projected to the screen for projection.例文帳に追加

フィルム面Ｓ１３に光を照射することにより提供された映像は、第２のレンズ群、第１のレンズ群の順に物体側から入射し、投影用のスクリーンに投影される。 - 特許庁

To provide a projection screen using a light control film having high light diffusion and further providing an image with high quality over a wide angle range without sacrificing light transmittance.例文帳に追加

光透過性を犠牲にすることなく、光拡散性の高い光制御膜を用い、しかも広い角度範囲にわたって画質の高い画像を与えるプロジェクション用スクリーンを提供する。 - 特許庁

This image synthesizer and optical deviation compensator of a full color hologram is provided with: a light emission unit 1; a spectral unit 3; a compensation unit 4; a projection unit 5; a photographic unit 6; and a film 7.例文帳に追加

フルカラーホログラムの画像合成装置及び光偏移補償装置は、発光ユニット１、分光ユニット３、補償ユニット４、投影ユニット５、撮影ユニット６及びフィルム７を備える。 - 特許庁

To provide a plastic fastener mounted with a slider, in which the plastic film of the base of a projection provided the plastic fastener is neither elongated nor cut and in which opening strength from the inside of the fastener does not deteriorate.例文帳に追加

プラスチックチャックに設けた突起の基部のプラスチックフイルムが伸びたり切れたりせず、チャックの内側からの開口強度が低下しないスライダーを装着したプラスチックチャックを提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a thin-film transistor in which a pattern of a semiconductor layer made of an organic semiconductor material can be formed highly finely while suppressing projection at its end.例文帳に追加

有機半導体材料からなる半導体層のパターンをその端部での突起の発生を抑制しつつ、高精細に形成することができる薄膜トランジスタの製造方法を提供する。 - 特許庁

It is configured that the conductor layer 16 protrudes outward in projection in a direction vertical to the glass substrate 15, with the polyester film 11 superposed on the glass substrate 15.例文帳に追加

ポリエステルフィルム１１にガラス基板１５を重ねた状態で、該ガラス基板１５に対して垂直方向への投影において、導電体層１６が外方向に食み出すように構成する。 - 特許庁

An extension 34 is formed on a metal pad 26 connected to an pixel electrode, and a projection 36 is formed on the SC line SC, with both facing each other via a layer insulator film in between.例文帳に追加

画素電極に接続されるメタルパッド２６には、延長部分３４が形成され、ＳＣラインＳＣには、突出部３６が形成され、これらは層間絶縁膜を介し対向している。 - 特許庁

The electrode 20 may be a movable electrode by removing the insulating film 16, and in this case, a projection part for sticking prevention may be provided on an undersurface of an extension part 20Q of the electrode 20.例文帳に追加

絶縁膜１６を除去して電極２０を可動電極としてもよく、その場合には電極２０の延長部２０Ｑの下面にスティッキング防止用の凸部を設けてもよい。 - 特許庁

Light beam L3 reflected by a projection optical system after transmitted through a counter substrate 40 is never made incident on the polycrystalline silicon film since the light beam L3 is reflected by the upper light shielding layer.例文帳に追加

また、対向基板４０を透過した後、投射光学系によって反射された光Ｌ３も、上部遮光層で反射されるため、多結晶シリコン膜に入射することがない。 - 特許庁

In a resist push-in process, a pressing tool 104 having a projection 104A is used to push the dry film resist 102 on a through groove 101a into a through groove 101a.例文帳に追加

レジスト押込み工程では、突出部１０４Ａが設けられた押圧冶具１０４を用いて貫通溝１０１ａ上のドライフィルムレジスト１０２を貫通溝１０１ａの中へ押込む。 - 特許庁

The conductor 40# is formed to extrude from the vertical projection area of the semiconductor chip 22#, and an insulating film 42# and a snubber resistor 18# are stacked in the extruded part.例文帳に追加

導体４０＃は、半導体チップ２２＃を垂直投影した投影領域からはみ出すようにして形成されており、はみ出した部分には絶縁膜４２＃およびスナバ抵抗体１８＃が積み重ねられている。 - 特許庁

The solid etalon filter 9 is formed by providing a reflective film 11 formed of a dielectric etc., on a light incidence/projection surface on a substrate obtained by processing the LiTaO3 substrate to a designated plate thickness.例文帳に追加

ソリッドエタロンフィルタ９は、ＬｉＴａＯ３基板を所定の板厚に加工した基板１０に、光の入出射面に誘電体等からなる反射膜１１を施したものである。 - 特許庁

To obtain an acrylic resin plastisol suitable for obtaining a thin film, having a low viscosity and good casting ability without causing projection or bleeding on the surface of the molded product caused by undispersed polymer particles.例文帳に追加

未分散重合体粒子による成形物表面の突起やブリードのない、薄物シートを得うのに適した、低粘度で流延性の良いアクリル樹脂プラスチゾルを提供すること。 - 特許庁

The film 3 can easily vary its shape according to the recess/projection of the fingerprint and at the projecting part of the fingerprint, the thickness of the layer is reduced and a light absorbing quantity is reduced.例文帳に追加

ゲル光吸収膜３は、指紋の凹凸に従って容易にその形状を変化させることができ、指紋の凸部においてその層厚が薄くなり、光の吸収量が小さくなる。 - 特許庁

The light shield film has an opening end extended to right above the photodetection portions 12 and has a larger projection width on a channel stop side (outside) than on the side of the readout gate 14 (inside).例文帳に追加

遮光膜は、開口端が受光部１２の直上位置にまで延び、チャネルストップ側（外側）の張り出し幅が読み出しゲート１４側（内側）の張り出し幅より大きく形成されている。 - 特許庁

To efficiently correct projection defects and to provide a light diffusing member and a transfer film to be used for a diffusing reflector or the like of a reflection type LCD having preferable reflection characteristics.例文帳に追加

突起欠陥を効率良く修正し、良好な反射特性を有する反射型ＬＣＤ用拡散反射板等に使用される光拡散部材、転写フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of color filter capable of thinly forming the film thickness of a projection-like colored pixel of a part overlapping a resin black matrix and the colored pixel each other.例文帳に追加

樹脂ブラックマトリクスと着色画素がオーバーラップする部位の突起状の着色画素の膜厚を薄く形成できるカラーフィルタの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a blasting method of a surface of a plastic film whereby the generation of an electrostatic pattern is prevented, adhesion of an abrasive material on a non-projection surface is restrained, and a mat surface is evenly blasted.例文帳に追加

静電気模様の発生がなく、非投射面に研掃材の付着が少なく、マット面の面状が均一にブラスト加工されるプラスチックフイルム表面のブラスト加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal device and a projection type display device which has excellent durability with a high opening ratio and is capable of preventing a switching characteristic of a thin film transistor from deteriorating.例文帳に追加

高い開口率で優れた耐久性を有し、薄膜トランジスタのスイッチング特性の低下を防止することができる液晶装置並びに投射型表示装置を提供する。 - 特許庁

A part of the base film 11, the wiring 12 and the reinforcing plate 16 are deformed by the spacer 16 to form a projection portion 18 complying with the shape of a recessed portion 22a of the upper die 22.例文帳に追加

ベースフィルム１１，配線１２および補強板１５の一部が、スペーサ１６によって変形させられて、上型２２の凹部２２ａに倣った形状の凸部１８が形成される。 - 特許庁

Foundation roughness is controlled for eliminating remarkable minute projection on a surface after the chemical conversion treatment film is worn out to provide the material having sufficient seizure resistance.例文帳に追加

上記下地粗さを抑える事により、化成処理被膜がなくなった後でも表面に著しい微小突起が存在しない様にして、十分な耐焼き付き性を有する部材を得る。 - 特許庁

Since the grain diameter of Cu of the plating 21 is rough, a projection part 21a is produced in a surface thereof and a first air oxide film 25 of an irregular thickness is formed thereon.例文帳に追加

無電解Ｃｕめっき２１はそのＣｕの粒子径が粗いために表面に突部２１ａが生じ、その上に不均一な厚みの第１の空気酸化皮膜２５が形成される。 - 特許庁

The covering member comprises a metallic base material having ruggedness formed by projecting a ceramics based projection material on the surface and a carbon based hard film formed integrally with the ruggedness.例文帳に追加

被覆部材は、表面にセラミックス系投射材を投射して形成された凹凸をもつ金属製の基材と、凹凸に一体的に形成される炭素系硬質膜と、を有する。 - 特許庁

An amorphous silicon film 41 of a transfer electrode 40 is formed to have a bump 41A by a projection part 30 formed between adjacent transfer electrodes 40.例文帳に追加

隣り合う転送電極４０同士の間に形成された凸部３０によって、転送電極４０のアモルファスシリコン膜４１が、隆起部４１Ａを有するように形成されている。 - 特許庁

The sliding member for a clutch comprises: a metallic base material having ruggedness formed by projecting a ceramics based projection material on the surface; and a hard film formed integrally with the ruggedness.例文帳に追加

クラッチ用摺動部材は、表面にセラミックス系投射材を投射して形成された凹凸をもつ金属製の基材と、凹凸に一体的に形成される硬質膜と、を有する。 - 特許庁

The nano imprint device is also used to form a final protective film aperture and a bump electrode mask, thereby reducing the number of the reduction projection aligners so as to reduce the cost price of the semiconductor device.例文帳に追加

また最終保護膜開口やバンプ電極用マスク形成にもナノインプリント装置を使用し縮小投影露光装置の使用台数を減らし半導体装置の原価低減を図る。 - 特許庁