例文 (853件) |
film projectionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 853件
Its production method comprises: a rough surface forming stage where a ceramics based projection material is projected on the surface of a metallic base material so as to form ruggedness; and a hard film forming stage where a carbon based hard film is formed on the surface of the ruggedness.例文帳に追加
また、その製造方法は、金属製の基材の表面にセラミックス系投射材を投射して凹凸を形成する粗面形成工程と、凹凸の表面に炭素系硬質膜を形成する硬質膜形成工程と、からなる。 - 特許庁
To provide a projection exposure apparatus that can form adjoining conductor patterns in an equidistant layout on a film even when an alignment mark formed on the film is displaced from an originally assumed position.例文帳に追加
フィルム上に形成されたアライメントマークが、本来想定している位置と異なる位置に変位しているような場合であっても、隣接する導体パターンを等間隔にフィルムに形成することができる投影露光装置を提供する。 - 特許庁
A laser beam having a wavelength of 340-900nm is projected a plurality of times upon an amorphous silicon film from a solid-state laser so that a molten area may be formed in at least part of the silicon film at every projection.例文帳に追加
アモルファス相のシリコン膜に、固体レーザから、波長が340nmより大きく900nmより小さいレーザビームを複数回照射し、1回ごとの照射において前記シリコン膜の少なくとも一部に溶融領域を形成する。 - 特許庁
Even when a projection grows on the semiconductor layer 11, insulation between a gate insulating film 18 and the inside of the insulated area 16 on the semiconductor layer 11 can be surely secured by the gate insulating film 18 and the insulated area 16.例文帳に追加
半導体層11上に突起が成長してもゲート絶縁膜18による半導体層11の絶縁化領域16より内側の領域との間の絶縁性を、ゲート絶縁膜18および絶縁化領域16にて確実に確保できる。 - 特許庁
Then, reactive ion etching is carried out by O_2/CF_4, the second carbon and silicon films not covered with the resist pattern for forming the projection are removed, and a third carbon film is formed on the first carbon film exposed in the removed parts.例文帳に追加
次に、O_2/CF_4による反応性イオンエッチングを行い、突起形成用レジストパターンで覆われていない第2カーボン膜及び第2シリコン膜を除去し、除去部分に露出した第1カーボン膜上に第3カーボン膜を形成する。 - 特許庁
To provide an optical polyester film having good optical performance, wherein when the film is used as a member for an LCD, a PDP, an organic EL, a projection display and the like, it has no unevenness and defects, achieves high luminosity and can provide high-quality images.例文帳に追加
LCD、PDP、有機EL、プロジェクションディスプレイなどの部材として使用した際に、ムラや欠陥がなく、高度な輝度を実現し、高品質な画像を与えることができる、光学的性能の良好なポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁
Next, a material 5a for forming a light absorbing coating film is dropped onto part of the surface of the projection parts 2 except for a region where the light reflective coating film 4 is formed from the nozzle N of a droplet discharge head of the droplet discharge device.例文帳に追加
次に、凸部3の表面の、光反射性被覆膜4が形成された領域を除いた部分に、液滴吐出装置の液滴吐出ヘッドのノズルNから光吸収性被覆膜形成用材料5aを滴下する。 - 特許庁
On a glass substrate 1, a projection array group 3 is formed and coated with a reflection film 5 having light passing holes 4 and further color filters 6, an overcoat layer 7, a transparent electrode 8, and an alignment film 9 are formed.例文帳に追加
ガラス基板1上に凸状配列群3を形成し、この凸状配列群3上に光通過孔4を有する反射膜5を被覆し、さらにカラーフィルタ6とオーバーコート層7と透明電極8と配向膜9を形成する。 - 特許庁
A Fresnel lens sheet 110 comprises a glass substrate 10, a Fresnel lens film 11 arranged on a light projection surface side of the glass substrate 100, a functional film 12 arranged on a light incidence side of the glass substrate 10, a black tape 50, etc.例文帳に追加
フレネルレンズシート110は、ガラス基板10と、ガラス基板10の出光面側に配置されたフレネルレンズフィルム11と、ガラス基板10の入光面側に配置された機能性フィルム12と、黒テープ50等とを備えている。 - 特許庁
A second interlayer insulating film 5 is formed on all the surface, and then the surface of the second interlayer insulating film 5 is polished through a chemical mechanical polishing method until the surface of the first metal wiring layer 4 formed on the projection 3 is exposed.例文帳に追加
全面に第2の層間絶縁膜5を形成した後、突出部3上に形成された第1の金属配線層4の表面が露出するまで、化学機械研磨法により第2の層間絶縁膜5表面を研磨する。 - 特許庁
To provide a base material with a paste projection for which a filling amount is stabilized by reducing the amount of paste brought away at the time of peeling off a cover film, even when a hole diameter is reduced at the time of filling the paste to the hole of a planar base material through the cover film.例文帳に追加
カバーフィルムを介して平板状基材の孔にペースト充填を行う際、孔径を小さくしてもカバーフィルム剥離時に持ち去られるペーストの量を少なくし、充填量が安定したペースト突起付基材を提供する。 - 特許庁
A recessed film non-supporting part 157 reaching from a periphery of the projection part 155 to a position facing to the slits 15 of the synthetic resin film 10 is formed on a surface facing to a first mold 100 side around the projected part 155 of the second mold 150.例文帳に追加
第2金型150の凸部155の周囲の第1金型100側を向く面に凸部155の周囲から合成樹脂フイルム10のスリット15に対向する位置に至る凹状のフイルム非挟持部157を設ける。 - 特許庁
To obtain a print result allowing clear projection of the whole image printed on an OHP film, and to obtain a print result allowing processing with a proper position to a normal image of the printed OHP film as a filing position.例文帳に追加
OHPフィルムに印刷された画像全面を鮮明に投影できる印刷結果を得るとともに、印刷されたOHPフィルムの正像に対して適正な位置を綴じ込み位置として処理できる印刷結果を得ることである。 - 特許庁
When the projection 52 is detected in the first process, an interface part between the transparent substrate 54 and the opaque film 56 is observed from the opposite surface side opposite to the film-formation surface by the second camera 16.例文帳に追加
第1工程で突起52が検出された場合に、その突起52の位置において、第2カメラ16により、成膜表面とは反対の反対面側から透明な基板54と不透明な膜56との界面部を観察する。 - 特許庁
Heaters (transparent conductive film heaters 5, 6, 20, 25, metal reflecting film 28) are installed on lamp components other than a lamp lens 4 (reflecting face 10 of the upper reflector 8 of the lamp unit 2, projection lens 13 of the lamp unit 2, inner lens 19, inner panel 23).例文帳に追加
ランプレンズ4以外のランプ部品(ランプユニット2の上側リフレクタ8の反射面10、ランプユニット2の投影レンズ13、インナーレンズ19、インナーパネル23)にヒータ(透明導電膜ヒータ5、6、20、25、金属反射膜28)を設ける。 - 特許庁
To provide a biaxially oriented polyester film, which exhibits low rough rate of its surface, excellent optical property (appropriate transparency), excellent characteristic features in production/processing, does not have large projection on the film surface and forms no surface defect in coating.例文帳に追加
表面粗度が低く、優れた光学的性質(適度な透明性)を有し、製造・加工特性に優れ、フィルム表面に大きな突起が無く、塗布を行った際に表面欠陥が生じない二軸延伸ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁
A desired key top surface part 17 is formed by inserting a projection part 155 (a punch 151) into a recessed part 101 in supporting the synthetic resin film 10 by first and second molds 100, 150, and drawing the synthetic resin film 10.例文帳に追加
第1,第2金型100,150によって合成樹脂フイルム10を挟持した際に凹部101に凸部155(ポンチ151)を挿入して合成樹脂フイルム10を絞り加工して所望のキートップ表面部17を形成する。 - 特許庁
When reflection display is performed, incident light passes through the color filter 10 or color filter aperture part 10a and is reflected at a reflection area part of the reflecting film 11 and projected through the color filter 10 or color filter aperture part 10a again, so composite projection light of uncolored projection light and color projection light is generated to obtain light display.例文帳に追加
反射表示時には、入射光が、カラーフィルタ10あるいはカラーフィルタ開口部10aを通り、反射膜11の反射領域部で反射され、再び、カラーフィルタ10あるいはカラーフィルタ開口部10aを通過し出射されるので、着色のない出射光と着色された出射光の合成出射光となり、明るい表示が得られる。 - 特許庁
A battery pack 1 houses a polymer battery 100 and includes a sharp projection structure (projection 3) facing in the inner direction and provided at a location so as to surround the polymer battery 100, and the projection 3 is enough sharp to come into contact with an aluminum exterior package laminate film 101 of the polymer battery 100 and make a hole when the polymer battery 100 swells.例文帳に追加
ポリマー電池100を収納したバッテリパック1であって、ポリマー電池100を取り囲む所定の箇所に、内側を向いた鋭利な突起構造(突起3)を有し、突起3は、ポリマー電池100に膨れが生じた場合にポリマー電池100のアルミニウム外装ラミネートフィルム101に突き当たり、穴を開ける程度に鋭利である。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a multilayer printed wiring board having a via hole filled with conductive paste, wherein a masking film is prevented from being peeled and also made easy to peel by suitably controlling adhesive strengths of the masking film and an adhesive film, and a projection of conductive paste is prevented from being defective when the masking film is peeled.例文帳に追加
導電性ペーストが充填されたビアホールを有する多層プリント配線板の製造方法において、マスキングフィルムと接着材フィルムとの密着力を適切にコントロールすることにより、マスキングフィルムの剥がれを防止し、かつ、マスキングフィルムの剥離が容易とし、マスキングフィルムを剥離させたときに導電性ペーストの突起に不良が生じることを防止する。 - 特許庁
A projection 21 is provided on the concentric circles with the negative pole 2 on the surface of the negative pole 2 of the cylindrical battery that contacts with an electrical apparatus using the battery, and the outer circumference including the projection 21 on the surface of the negative pole 2 is covered by an electrically insulating resin film 41.例文帳に追加
円筒型電池において、電池使用機器と接触する負極端子2面に該負極端子2面と同心円上に突起21を設け、負極端子2面の前記突起21を含む外周部を電気絶縁性の樹脂フィルム41により被覆した。 - 特許庁
A distal end surface 35a of the projection part 35 comes into contact with a heat transmission thin film layer 17b on the anti-mounting plane 5b of the printed board 5, and the flat part 37 surrounding the projection part 35 comes into contact with the inside surface 13a of a cover 13 formed in a planar manner, similarly.例文帳に追加
突出部35の先端面35aは、プリント基板5の反搭載面5b上の熱伝導薄膜層17bに接しており、突出部35の周囲の平坦部37は、同様に平面状に形成されたカバー13の内側面13aに接している。 - 特許庁
A projection 13 for the orientation control is composed of a projection base 13A for the orientation control, an overlapping part 13B of a colored pixel provided while forming the colored pixel thereon, and the insulation layer 3B formed through the transparent conductive film thereon.例文帳に追加
配向制御用突起13が、配向制御用突起土台13Aと、その上に着色画素の形成と同時に設けられた着色画素の重なり部分13Bと、その上に透明導電膜を介して形成された絶縁層3Bで構成されていること。 - 特許庁
An insulating substrate is constituted of the projection 22 for a common electrode formed on the surface of an alumina substrate 21 by a thick film process, projected glaze glass layers 24a1, 24a2 having the projection 22 as apexes and the glaze glass layers 24a, 24b formed on the alumina substrate 21.例文帳に追加
アルミナ基板21の表面に厚膜プロセスで形成された共通電極用突起22と、この突起を頂点とする凸状のグレーズガラス層24a1、24a2と、アルミナ基板21上に形成されたグレーズガラス層24a、24bとを備えた構成とした。 - 特許庁
The nonaqueous electrolyte battery can prevent short circuit between the negative electrode 2 and the positive electrode 1 since the positive electrode 1 has the insulating film 10 even though the projection piece 20 is bent so as to come in contact with the positive electrode 1 upon connecting the negative electrodes 2 mutually by connecting the projection pieces 20 mutually.例文帳に追加
この非水電解質電池は、突片20同士を接続して負極2同士を接続する際など、突片20を正極1と接触するように折り曲げたとしても、絶縁膜10を備えることで、負極2と正極1とが短絡することを防止できる。 - 特許庁
The manufacturing method comprises a step for forming a fin-shaped projection 5 using plasma etching on a single-crystal silicon layer 3 of the SOI wafer, a step for forming a sacrificial oxide film 6 on the top surface containing the damage arising on the projection 5, a step for eliminating the sacrificial oxide film 6 by wet-etching, and a reflow step for heating a buried oxide layer 2 for reflow.例文帳に追加
SOIウエハにおける単結晶シリコン層3にプラズマエッチングを施して、フィン状の突起部5を形成する工程と、突起部5に生じたダメージを含む表面に犠牲酸化膜6を形成する工程と、犠牲酸化膜6をウエットエッチングにより除去する工程と、埋め込み酸化物層2を加熱してリフローさせるリフロー工程とを含む。 - 特許庁
An optical sheet includes a base film 110; a first primer layer 130 disposed on the surface of the base film 110; and a projection 120 disposed on the first primer layer 130, wherein the thickness of the first primer layer 130 is in the range of about 5 nm to 300 nm.例文帳に追加
本発明による光学シートはベースフィルム110と、ベースフィルム110上に位置する第1プライマー層130と、第1プライマー層130上に位置する突出部120を含み、第1プライマー層130の厚さは5〜300nmである。 - 特許庁
An insulating film 7 is formed on the inner surface of the pixel substrate 4 and a seal width regulating groove 7a is formed by removing the insulating film 7 of a part corresponding to the frame-like part 5a and the projection part 5c of the seal material 5 and corresponding to the seal width of the seal material 5.例文帳に追加
画素基板4の内面には、絶縁膜7が形成され、シール材5の枠状部5aと突出部5cに対応し、且つそのシール幅に相当する部分の絶縁膜7を除去してシール幅規定溝7aを形成する。 - 特許庁
To make a screen film usable as a projection screen for a liquid crystal projector, overhead projector, slide projector, etc., and simultaneously to make the film usable as a so-called marker board which allows writing with a marker without spilling and is easily erasable by an eraser, etc.例文帳に追加
液晶プロジエクター、オーバーヘッドプロジエクター、スライド映写機等の投影スクリーンとして使用できると同時に、マーカーではじけずに書け、イレーザ等で容易に消去できるいわゆるマーカーボードとしても使用できる、マーカーが使用できるスクリーンフイルムを提供する。 - 特許庁
In the TFT substrate 100 of the liquid crystal display element 300, a reflection film 3 is formed only in the prescribed area of a projection part 2 formed on a glass substrate 1, and an area in which the film 3 is not formed is made to be a notch part 16.例文帳に追加
液晶表示素子300のTFT基板100において、ガラス基板1上に形成された凸部2の所定領域のみに反射膜3を設けるとともに、反射膜3を形成しない領域を切り欠き部16とする。 - 特許庁
In the photograph processing device 10 for printing an image of a negative film 12 on a sheet of photographic paper 14 by exposing the photographic paper 14 with the image of the negative film 12 by projection, the exposure is performed in time-division manner when the exposure time exceeds a predetermined time.例文帳に追加
ネガフィルム12の画像を印画紙14に投影露光することによってネガフィルム12の画像を印画紙14に焼き付ける写真処理装置10において、露光時間が所定時間を超えるとき露光を時分割して行う。 - 特許庁
In its subsequent process, the plurality of fine projections 28 covered with the conductive film 14 are irradiated with a laser beam one by one to locally remove the desired part of the conductive film 14 located in the top region 28a of each fine projection 28.例文帳に追加
その後工程で、第1導電膜14に覆われた複数の微小突起28に、1つずつ個別にレーザ光を照射して、各微小突起28の頂点領域28aにある第1導電膜14の所望部分を局所的に除去する。 - 特許庁
Firm connection between the projection section 56 and a base section 52 can be maintained since a deposition film 60 is formed by carbon and the deposition film 60 has a sufficiently high melting point against temperature rise of the electron emission section 48 at a used state of the electron source 10.例文帳に追加
デポジション膜60は、カーボンによって形成され、電子源10の使用状態における電子放出部48の昇温に対して十分に高い融点を有しているため、突起部56と基部52との強固な接合が保たれる。 - 特許庁
A thin-film antenna in which a difference between the maximum height of a projection portion existing on a surface of the smoothing layer and a maximum depth of a recess portion is equal to or less than 1 μm, less than a film thickness of an antenna, or radio wave is transmitted/received via a surface of the smoothing layer is formed.例文帳に追加
平滑層の表面に存在する凸部の最大高さと凹部の最大深さとの差が1μm以下か、またはアンテナの膜厚よりも小さく、該平滑層の表面に電波を送受信する薄膜状のアンテナを形成する。 - 特許庁
The fine structure has base materials (10, 12) with recess and projection, an extremely thin film pattern (18) consisting of organic compound with amino group or thiol group on a recessed part of the base material, and a layer pattern (20) based on the extremely thin film pattern.例文帳に追加
凹凸を有する基材(10、12)と、該基材の凹部上にアミノ基又はチオール基を有する有機化合物からなる極薄膜パターン(18)と、該極薄膜パターンに基づいた層パターン(20)を有することを特徴とする微細構造体。 - 特許庁
The head slider design of this form decides a relation of the metal film volume and the temperature sensitivity of the head element projection quantity, and further, decides a relation of an ABS shape and the head element structure prescribing metal film volume based on the relation.例文帳に追加
本形態のヘッド・スライダ設計は、金属膜体積とヘッド素子部突出量の温度感度との関係を決定し、さらに、その関係に基づいて、ABS形状と金属膜体積を規定するヘッド素子部構造との関係を決定する。 - 特許庁
A stencil or a scattering-material mask, used together with a charged particle beam lithography as a projection electron beam lithography is provided with a film layer made of a material, having Young's modulus of at least about 400 GPa and provided with a supporting strut for supporting the surface of the film.例文帳に追加
投影電子ビームリソグラフィなど荷電粒子ビームリソグラフィと共に使用するステンシルまたは散乱体マスクは、少なくとも約400GPaのヤング率を有する材料の膜層と、膜の表面を支持する支持ストラットとを備える。 - 特許庁
To provide a polishing composition for a semiconductor substrate and a method for polishing the semiconductor substrate, with and by which the semiconductor substrate having an insulating film layer wherein recess and projection patterns are different in size can be planarized at high level in an interlayer insulating film and element separating process for a semiconductor device.例文帳に追加
半導体デバイスの層間絶縁膜や素子分離工程における、凹凸パターンのサイズが異なる絶縁膜層を持つ半導体基板を高度に平坦化できる半導体基板研磨組成物、半導体基板の研磨方法を提供する。 - 特許庁
In this application method of the reagent for applying the capturing reagent onto the film member for capturing a measuring object in a specimen sample provided in a flow through type assay device, the tool for application equipped with a projection part on the abutting surface to the film member is used.例文帳に追加
フロースルー型アッセイ装置に備えられる検体試料中の被測定物を捕捉するための膜部材に対し、捕捉試薬を塗布する試薬の塗布方法において、前記膜部材との当接面に突出部を備える塗布用治具を用いる。 - 特許庁
After a photosensitive resist of a resist film is laminated on a conductor layer of an insulative base material, a carrier film is further peeled off to have the photosensitive resist exposed in the air, and, under such conditions, projection exposure is carried out using a photosensitive resist with absorbance of 0.25-0.45.例文帳に追加
レジストフィルムの感光性レジストを絶縁性基材の導体層上に積層した後、更にキャリアフィルムを剥離して感光性レジストを空気中に暴露した状態で、吸光度が0.25〜0.45の感光性レジストを用い且つ投影露光する。 - 特許庁
To provide a continuous electrolytic plating apparatus and a continuous electrolytic plating method in which the occurrence of projection in a metal layer is suppressed in the deposition of the metal layer on a long substrate such as resin film with a metal thin film by continuous electrolytic plating.例文帳に追加
金属薄膜付樹脂フィルムなどの長尺基板上に連続電解めっきにより金属層を成膜する際に、金属層での突起の発生を抑制することができる連続電解めっき装置及び連続電解めっき方法を提供する。 - 特許庁
To provide a liquid crystal device which can be prevented from having a defect in the alignment of liquid crystal due to abnormality of alignment film caused by a defective vapor-deposition area of an inorganic material occurred at a slope and its vicinity of a projection or recessed part of a base layer of an alignment film.例文帳に追加
配向膜の下地層の凸部又は凹部の斜面及びその近傍に生じた無機材料の蒸着不良領域による配向膜異常に起因して液晶の配向不良が起こることを防止できる液晶装置の提供。 - 特許庁
To provide a mold releasing polyester film wherein defects such a pinhole and the like derived from a film surface projection are not generated in a green sheet, and generation of defects of the green sheet caused by flaws and a working process can be suppressed.例文帳に追加
グリーンシートにフィルム表面突起由来のピンホール等の欠点を発生させず、かつ製造工程や加工工程で発生する傷や削れに起因するグリーンシートの欠点の発生を抑制することができる離型ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁
The translucent liquid crystal display device 22 is characterized by that a projection array group 19 is formed on a glass substrate 12, the projection array group 19 is covered with a light reflecting film 18 having a translucent part, and striped transparent electrodes 8 are formed thereupon to form an electrode group 20.例文帳に追加
半透過型液晶表示装置22において、ガラス基板12上に凸状配列群19を形成し、この凸状配列群19上に光透過部を有する光反射膜18を被覆し、その上部にストライプ状透明電極8を形成、電極群20を成す。 - 特許庁
The first optical element includes: a recessed and projection section 50 including a plurality of faces 50a which tilt at about the same angle to the one face or the other face of the first substrate, and which are arranged in one direction; and an optical film 52 with negative uniaxial optical anisotropy, which covers the recessed and projection section.例文帳に追加
上記した第1光学素子は、第1基板の一面又は他面に対して略同一の角度で傾斜し、かつ一方向に配列された複数の面50aを有する凹凸部50と、凹凸部を覆って設けられており、負の一軸光学異方性を示す光学膜52と、を含む。 - 特許庁
The imaging element is arranged opposite the unavailable surface, and images the image by using the light that is reflected on the surface to be projected, is made incident to the color separation/composition unit through the projection optical system, is transmitted or reflected by the optical film surface, and is emitted from the unavailable surface, out of the projection light.例文帳に追加
撮像素子は、非有効面に対向配置され、投射光のうち被投射面で反射して投射光学系を通って色分解合成ユニットに入射し、光学膜面で透過又は反射して非有効面から射出した光を用いて上記画像を撮像する。 - 特許庁
The second resin projection section 15 mounts the electronic component 1 on the base material 3 in the state that goes along with the three-dimensional shape 17 and junction electrodes 33, 34 by making the conductive section in the coating film 25, 26 to conductively contact to the junction electrodes 33, 34 by elastic deformation of the first resin projection section 24.例文帳に追加
第2の樹脂突起部15は、第1の樹脂突起部24の弾性変形により被覆膜25,26における導電部を接続電極33,34に導電接触させ、立体形状17と接続電極33、34に倣った状態に電子部品1を前記基材3に実装する。 - 特許庁
A projection member 11 projecting from the surface of a substrate 10 is formed, a film is formed over it to form the fixed part 13 for optical modulation, a sacrifice layer 14, and the movable part 15 for optical modulation in order, and on the fixed part 13 for optical modulation, a spacer 21 conforming with the shape of the projection member 11 is formed.例文帳に追加
基板10の表面から突出した突部材11を形成し、その上から成膜を行なって光変調用固定部13、犠牲層14および光変調用可動部15をこの順に形成し、光変調用固定部13の上に、突部材11の形状に倣ったスペーサ21を形成する。 - 特許庁
A film thickness measuring instrument 1 includes line light lighting 5 having light sources 51 and a light projection rod 52 for outputting light emitted from the light sources 51 toward a measurement region A in the shape of a line, and a line camera 6 arranged so as to face the light projection rod 52 across the measurement region A.例文帳に追加
膜厚測定装置1は、光源51及び光源51から発せられた光を測定領域Aに向けてライン状に出射する投光ロッド52を有するライン光照明5と、測定領域Aを挟んで投光ロッド52と対向するように配置されたラインカメラ6と、を備えている。 - 特許庁
Through opening/closing control over a shutter 3 by the controller 14 and driving control over the liquid crystal blind 17, the size precision of a resist pattern image formed by projection exposure on a resist film surface of a semiconductor wafer 13 passing through a projection area (in an exposure shot surface) of the reticle 10 is improved.例文帳に追加
コントローラ14によるシャッタ3の開閉制御、液晶ブラインド17の駆動制御に伴い、レチクル10の投影領域内(露光ショット面内)を通る半導体ウエハ13のレジスト膜面上の投影露光によるレジストパターン像の寸法精度が向上する。 - 特許庁
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