「ion beam tube」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To provide an ion beam guide tube which is arranged in the vicinity of a semiconductor wafer implanted in an ion implanter.例文帳に追加

イオン注入装置内で注入されている半導体ウェハの付近に配置されるイオンビーム用のガイド管を提供する。 - 特許庁

The guide tube has an outwardly tapering central bore, thereby alleviating problems of beam strike as the ion beam passes through the guide tube.例文帳に追加

好都合なことに、ガイド管は、外方にテーパー付けされた中央ボアを有し、これにより、イオンビームがガイド管を通過するときにビームが衝突する問題を軽減する。 - 特許庁

In the ion beam guide tube in the ion implanter, the guide tube 16 is arranged in the vicinity of the semiconductor wafer being implanted in the ion implanter.例文帳に追加

イオン注入装置に係り、より詳細には、イオン注入装置のイオンビーム用のガイド管であって、注入装置内で注入されている半導体ウェハの付近に配置されるガイド管１６に係る。 - 特許庁

To provide a means to steadily extract an ion beam including an indium ion from an ion source, while reducing contamination of a furnace, a vapor-inducing tube and a plasma generator vessel.例文帳に追加

加熱炉、蒸気導入管およびプラズマ生成容器の汚れを抑えつつ、イオン源からインジウムイオンを含むイオンビームを安定して引き出す手段を提供する。 - 特許庁

The ion implanter for implanting ions into an object of ion implantation, by impressing a voltage on an acceleration electrode 5 contained in an accelerating tube 3 to accelerate an ion beam 51 taken out from an ion source by generating an acceleration electric field, is provided with an X-ray shielding material 6 in vacuum in the accelerating tube 3 so as to cover an orbit of the ion beam 51.例文帳に追加

イオン源から取出されたイオンビーム５１を、加速管３内に収められた加速電極５に電圧を印可して加速電場を生成することにより加速し、イオン注入対象物へイオン注入するイオン注入装置に、加速管３内の真空中にイオンビーム５１の軌道を覆うようにＸ線遮蔽材６を設置する。 - 特許庁

To allow a sample stage to operate with good operability without any erroneous operations in a composite charged-particle processing and observation apparatus having a focused ion beam lens tube and an electron beam lens tube that are arranged orthogonal to each other.例文帳に追加

それぞれ直交に配置された集束イオンビーム鏡筒と電子ビーム鏡筒を有する複合荷電粒子加工観察装置において、試料ステージを、誤操作なく操作性の良い動作をさせる。 - 特許庁

This apparatus is provided with an ion gun 6 for ejecting an ion beam and a treatment room 4, through a mass separation machine 2 for selecting ions, a post-acceleration tube 3, a Q lens system 15 and a deflector 16.例文帳に追加

イオンビーム６を放出するイオン源と、イオン選別用質量分離２、後段加速管３、Ｑレンズ系１５、偏向器１６などを経て処理室４が設置されている。 - 特許庁

The ion injection method enables an ion beam 52 to go through a plasma shower at the transportation area in front of a wafer 55 when the ion beam 52 extracted from an ion source is transported and injected to the wafer 55, and a plasma shower consisting of an arc chamber 10 and a shower tube 11 is placed near a resolving aperture body 54 at the downstream.例文帳に追加

イオン源から引き出されたイオンビーム５２を輸送してウエハ５５に注入するに際し、該イオンビームをウエハの手前の輸送区間においてプラズマシャワーを経由させるようにしたイオン注入方法であり、アークチャンバー１０とシャワーチューブ１１とによるプラズマシャワーをリゾルビングアパチャー体５４の下流側の直近位置に配置した。 - 特許庁

Ions generated from an irradiation part 4 of the particle beam on the sample 3 are collected by an ion transport tube 7 and sent to a mass spectrometry part.例文帳に追加

そして、試料３上の粒子線の照射部位４から発生したイオンをイオン輸送管７で収集して質量分析部に送る。 - 特許庁

By making in a large caliber an insulating tube constituting a vacuum boundary of the draw-out part and the initial-step accelerating part in a negative ion source against an outside of the negative ion source, and preparing a large gas exhaust channel between the beam passage area and the insulating tube, gas pressure in the beam passage area is lowered and the negative ion of high current density is generated in high efficiency.例文帳に追加

負イオン源における引き出し部及び初段加速部と負イオン源外部との真空境界を構成する絶縁管を大口径とし、ビーム通過領域と絶縁管の間に大きなガス排気経路を用意することによって、ビーム通過領域のガス圧を低減し、高い電流密度の負イオンを高効率で生成する負イオン源。 - 特許庁

The receiving part 118 is used for protecting the tube 117 by continuing extraction of an ion beam IB in the waiting state turning off the operation of a magnet 116 the most effective for power saving and by accepting the straightly advancing ion beam IB by the accepting part 118.例文帳に追加

ビーム受容部１１８は、省電力に最も効果的なマグネット１１６の稼動をオフする待機状態にイオンビームＩＢの引き出しは継続され、直進するイオンビームＩＢをビーム受容部１１８で受け、質量分析管１１７を保護する。 - 特許庁

To provide an ion beam analyzer capable of reducing the noise resulting from low energy ions scattered in an analyzing tube in a case that a magnetic field type energy analyzer is used in a general ion beam analyzing device such as a high resolution RBS device.例文帳に追加

高分解能ＲＢＳ装置等のイオンビーム分析機器一般において、磁場型のエネルギー分析器を使用する場合に、分析管内で散乱した低エネルギーイオンに由来するノイズを低減することが可能なイオンビーム分析装置を提供する。 - 特許庁

The etalon substrate 11 is installed in a sample chamber 12 of an ion beam radiator, and the mixture of gaseous CHF_3 and gaseous Ar is introduced into an ion gun chamber 13 from a gas introduction tube 15 as a reactive etching gas.例文帳に追加

エタロン基板１１をイオンビーム照射装置の試料室１２に設置し、ガス導入管１５より反応性エッチングガスとしてCHF_3ガスとArガスの混合ガスをイオン銃室１３内に導入する。 - 特許庁

Ion beam IB is deflected by a control of a prescribed scan electrode of a scan mechanism 15 corresponding to a setting of acceleration condition of an accelerating tube 13, and the central region of the beam passes through a prescribed beam restricting slit S2 and reaches a faraday cup FC.例文帳に追加

加速管１３の加速条件の設定に応じたスキャン機構１５の所定の走査電極制御によりイオンビームＩＢは偏向され、所定のビーム制限スリットＳ２によりビーム中心領域が通過しファラディーカップＦＣに到達される。 - 特許庁

The ion implantation device includes a gas introduction means 30 for introducing an inert gas 36 arranged in the transportation path of the ion beam 4 downstream of the acceleration tube 8 and upstream of the analysis slit 12.例文帳に追加

このイオン注入装置は、加速管８よりも下流側かつ分析スリット１２よりも上流側におけるイオンビーム４の輸送経路に不活性ガス３６を導入するガス導入手段３０を備えている。 - 特許庁

After a gas is ionized by an ion generator 11, the gas containing ions is introduced into a plane-scanned area on a sample by a gas introduction tube 16 while irradiating it with an electron beam.例文帳に追加

イオン生成器１１でガスをイオン化した後に、イオンを含むガスをガス導入管１６で、試料上の電子ビームを照射しつつ平面走査する領域に導入する。 - 特許庁

When the protection membrane is formed, firstly the ion beam 7 is scanned by a diameter larger than the inner diameter 21 of the capillary tube 5, and after the protection membrane 19 is formed, the scanning inner diameter is gradually made small.例文帳に追加

保護膜形成の際、まず、キャピラリーチューブ５の内径２１より大きな径でイオンビーム７を走査し、表面保護膜１９が形成された後、徐々に走査内径を小さくする。 - 特許庁

To provide an X-ray tube capable of uniformizing temperature distribution of a coil-like filament in a length direction and prolonging its life by preventing it from ion impact from an electron beam irradiation area.例文帳に追加

コイル状のフィラメントの長手方向の温度分布を均一にできて，かつ，フィラメントが電子ビーム照射領域からのイオン衝撃を受けないようにして，フィラメントの寿命を長くする。 - 特許庁

To provide a method for measuring mislanding of an electron beam in a cathode-ray tube that properly adjusts the white uniformity to optimum level, based on measurements of the mislanding ion the red, green and blue three colors.例文帳に追加

従来のミスランディング測定方法、測定装置５００では緑色のミスランディングを測定しつつ、それが最適となるように調整するため、赤色、青色については最適になるとは限らない。 - 特許庁

This production method for the amorphous nanoscale carbon tube comprises performing an excitation treatment selected from a group consisting of light-, plasma-, electron beam- and ion beam-irradiation treatments of a specific halogen-containing or chalcogen-containing resin in the presence of a catalyst comprising a metal powder and/or a metal salt.例文帳に追加

特定のハロゲン含有樹脂又はカルコゲン含有樹脂を、金属粉および／または金属塩からなる触媒の存在下に、光照射処理、プラズマ照射処理、電子線照射処理及びイオンビーム照射処理からなる群から選ばれる励起処理に供する。 - 特許庁

To provide a focused ion beam forming device in which downsizing is realized by integrating an accelerator and a focusing lens system and the reduction ratio of the total device is maximized by making the accelerating tube of the accelerator as a part of the focusing lens system to form a nano beam.例文帳に追加

集束イオンビーム形成装置において、加速器と集束レンズ系を一体化とすることにより小型化を実現するとともに、加速器の加速管も集束レンズ系の一部とすることで装置全体の縮小率も最大化することで、ナノビームを形成する。 - 特許庁

In the ion source, the space between the opening part 28 of the vapor generating furnace 24 and the cover part 38 of the vapor introducing tube 36 is provided with a ring 46 made of carbon sealing the space therebetween, and an aluminum ion beam 22 is generated by using aluminum trifluoride as the solid raw material 32.例文帳に追加

このようなイオン源において、蒸気発生炉２４の開口部２８と蒸気導入管３６の蓋部３８との間に両者間をシールするカーボン製リング４６を設けておき、固体原料３２として三フッ化アルミニウムを用いて、アルミニウムイオンビーム２２を発生させる。 - 特許庁

Mass spectrometry in which only target ions are selected out of the ions extracted by applying an extraction voltage by an ion source 1 is carried out only one time by a mass spectrometer 2, and ions are implanted into a treating object in an end station 5 by making shaping and scanning of ion beams in a beam line 3 and applying acceleration voltage in an acceleration tube 4.例文帳に追加

イオン源１で引出電圧をかけて引き出したイオンのうち目的とするイオンのみを選別する質量分析を質量分析器２で１回のみ行ない、ビームライン３にてイオンビームの整形及び走査をし、加速管４にて加速電圧をかけてエンドステーション５にて被処理体にイオン注入する。 - 特許庁

To prevent the sticking of a vapor introducing tube to the opening part of a vapor generating furnace on the stop of the driving in the vapor generating furnace when an aluminum ion beam is generated while the advantages in the use of aluminum trifluoride as a solid raw material are made the most of.例文帳に追加

アルミニウムイオンビームを発生させる場合に、固体原料として三フッ化アルミニウムを用いることの利点を生かしつつ、蒸気発生炉の運転停止時に蒸気導入管が蒸気発生炉の開口部に固着することを防止する。 - 特許庁

The ion injection device further has: an ion source 7 ionizing an impure gas; a mass analyzer 8 extracting the impure ions to be injected into the wafer 2 among ionized impure ions; an acceleration tube 9 accelerating the extracted impure ions; and a lens 10 forming the accelerated impure ions in a desired beam shape.例文帳に追加

前記イオン注入装置は、不純物ガスをイオン化するイオン源７と、イオン化された不純物のうちウェーハ２に打ち込む不純物イオンを抽出する質量分析器８と、抽出された不純物イオンを加速させる加速管９と、加速された不純物イオンを所望のビーム形状に成形するレンズ１０とを更に具備する。 - 特許庁

The ion beam generating device is composed of a high frequency discharge tube 1 to generate helium plasma by high frequency discharge, a laser generating device 13 capable of adjusting a wavelength and carrying out optical pumping, a laser irradiating device to irradiate laser light from the laser generating device to the inside of the high frequency discharge tube, and an observing device to observe the wavelength of laser light.例文帳に追加

イオンビーム発生装置は、高周波放電によりヘリウムプラズマを発生させる高周波放電管１と、波長調整可能で光ポンピングが可能なレーザ発生装置１３と、レーザ発生装置からのレーザ光を高周波放電管内に照射するレーザ照射装置と、レーザ光の波長を観察する観察装置とからなる。 - 特許庁

Since the accelerator is a folding type tandem accelerator, a 180° analysis electromagnet is arranged at a high voltage terminal part, and a slit having an energy analysis and diffusion restricting slit function is installed at the entrance part of the acceleration tube on high energy side, and once again the beam is accelerated by the accelerator having a single hole lens effect, and by focusing, an MeV region high energy ion nano beam is formed.例文帳に追加

加速器が、折り返し型タンデム加速器であるため、高電圧ターミナル部に１８０°分析電磁石を置き、高エネルギー側の加速管の入口部にエネルギー分析及び発散制限スリット機能を有するスリットを設置し、再度、単孔レンズ効果を有する加速管によりビームを加速するとともに、集束を行い、ＭｅＶ領域高エネルギーイオンナノビームを形成する。 - 特許庁