「ion monitor」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To provide a portable ion concentration monitor, using a compact constitution.例文帳に追加

コンパクトな構成で、持ち運び可能なイオン濃度モニターを提供する。 - 特許庁

To monitor gas ions without directly examining any ion generating source of an electrical-charging section.例文帳に追加

帯電部のイオン発生源を直接調べることなしにガスイオンをモニタする。 - 特許庁

An electric charge neutralizing monitor 300 monitors the operation of the electric charge neutralizing device 120 for an ion implanting device 100.例文帳に追加

電荷中和モニター300 は、イオン注入装置100 のための電荷中和装置120 の作業を監視する。 - 特許庁

This invention generally provides methods and the apparatus to monitor an ion dose during the plasma processing.例文帳に追加

本発明は、一般に、プラズマプロセス中にイオンドーズ量を監視する方法及び装置を提供する。 - 特許庁

This is the beam profile monitor 10 which has an irradiation face 10a opposing to an ion beam source and measures intensity distribution of an ion beam in an irradiation face.例文帳に追加

イオンビーム源に対向する照射面１０ａを有し照射面におけるイオンビームの強度分布を計測するビームプロファイルモニター１０。 - 特許庁

This ion beam irradiation device is equipped with an ion source to generate an ion beam 4, an electron beam source G to emit an electron beam two-dimensionally scanned in the ion source 2, a power supply 14 for it, an ion beam monitor 10 to measure the two-dimensional beam current distribution of the ion beam 4 at a position equivalent to the substrate, and a control device 12.例文帳に追加

このイオンビーム照射装置は、イオンビーム４を発生するイオン源２と、イオン源２内で２次元で走査される電子ビームを放出する電子ビーム源Ｇと、それ用の電源１４と、基板相当位置におけるイオンビーム４の２次元のビーム電流分布を測定するイオンビームモニタ１０と、制御装置１２とを備えている。 - 特許庁

In this ion monitor, a cell 10 partitioned by two ion exchange membranes 11, 12 is provided between a set of a negative electrode 20 and a positive electrode 30, and the inside of the cell 10 is filled with an ion exchange resin 13.例文帳に追加

一組の陰極２０と陽極３０との間に、２枚のイオン交換膜１１，１２で仕切られたセル１０を配設し、このセル１０の内部にはイオン交換樹脂１３が充填してある。 - 特許庁

To provide an ionizer control system for automating the evaluation, monitoring and ion-balance control of the performance of an ionizer and an ion monitor and their operating conditions by using short-distance radio communication means such as the Bluetooth (a registered trademark) provided for each of the ionizer, the ion monitor and a server.例文帳に追加

イオナイザ、イオンモニタ及びサーバの相互間でブルートゥース（登録商標）等による近距離無線通信手段を構築し、この無線通信手段を用いて、イオナイザ，イオンモニタの性能や動作状態の評価、監視、並びにイオンバランスの調整等を自動的に行うイオナイザ制御システムを提供する。 - 特許庁

An amount of wear of an ion beam current detecting plate at a replacement time for the ion beam current detecting plate is preliminarily set and inputted to a set value input circuit 10 of an ion beam current detecting plate wear monitor 8.例文帳に追加

あらかじめイオンビーム電流検出板削れモニタ８の設定値入力回路１０に、イオンビーム電流検出板２の交換時期のイオンビーム電流検出板２の削れ量を設定入力する。 - 特許庁

This ion implanting device includes an ion source 100 for generating an ion beam 50, an electron beam source Gn for emitting an electron beam 138 scanned in the Y direction in the ion source 100, a power source 114 for the electron beam source, an ion beam monitor 80 for measuring the Y direction beam current distribution of the ion beam 50 in the vicinity of the implanting position, and a control device 90.例文帳に追加

このイオン注入装置は、イオンビーム５０を発生するイオン源１００と、イオン源１００内でＹ方向に走査される電子ビームを放出する電子ビーム源Ｇｎと、それ用の電源１１４と、注入位置近傍におけるイオンビーム５０のＹ方向のビーム電流密度分布を測定するイオンビームモニタ８０と、制御装置９０とを備えている。 - 特許庁

To monitor blow stop or drop or other blast trouble of a blower, in a blast type ion generator.例文帳に追加

送風型イオン発生器において、送風機の送風停止や低下やその他の送風異常を監視することができるようにする。 - 特許庁

The method for using the ion-sensitive field-effect transistor to monitor properties of a medium includes the step of biasing the ion-sensitive field-effect transistor in a weak inversion region, exposing the ion-sensitive field-effect transistor to the medium, and analyzing the output of different ion-sensitive field-effect which depends on the properties.例文帳に追加

イオン感応電界効果トランジスタを用いて媒体の性質をモニタする方法は、弱反転領域のイオン感応電界効果トランジスタにバイアスをかけるステップと、イオン感応電界効果トランジスタを前記媒体に露出するステップと、前記性質に依存して異なるイオン感応電界効果の出力を分析するステップとを含む。 - 特許庁

This ion implanting device includes an ion source 100 for generating an ion beam 50, an electron beam source Gn for emitting an electron beam 138 scanned in the Y direction to generate plasma 12, a power source 114 for the electron beam source, an ion beam monitor 80 for measuring the Y direction beam current density distribution of the ion beam 50 in the vicinity of the implanting position, and a control device 90.例文帳に追加

このイオン注入装置は、イオンビーム５０を発生するイオン源１００と、Ｙ方向に走査される電子ビーム１３８を放出してプラズマ１２４を生成する電子ビーム源Ｇｎと、それ用の電源１１４と、注入位置近傍におけるイオンビーム５０のＹ方向のビーム電流密度分布を測定するイオンビームモニタ８０と、制御装置９０とを備えている。 - 特許庁

An image pick-up element 13 to monitor move of the float is provided, so that the tilt angle of the platen can be monitored, thereby quality of ion implantation is improved.例文帳に追加

また、浮子の動きを監視する撮像素子１３を設けることによってプラテンの傾斜角度をモニタし、イオン注入の品質が向上させる。 - 特許庁

The ionizer 200, the ion monitor 300 and the server 100 each have radio communication means such as the Bluetooth (the registered trademark) based on a short-distance radio communication standard.例文帳に追加

イオナイザ２００、イオンモニタ３００及びサーバ１００はブルートゥース（登録商標）等の近距離無線通信規格に準拠した無線通信手段を備える。 - 特許庁

Ionizer control data, operating condition data or the like including the size and time of positive/ nagative voltage applied to an emitter is transmitted/received between the server 100 and the ionizer 200, and ion monitor control data, operating condition data, or the like including charge starting voltage finishing voltage on a charge plate is transmitted/received between the server 100 and the ion monitor 300.例文帳に追加

サーバ１００とイオナイザ２００との間では、エミッタに印加する正負電圧の大きさや時間を含むイオナイザ制御データ、動作状態データ等を送受信し、サーバ１００とイオンモニタ３００との間では、帯電プレートへの帯電開始電圧、終了電圧等のイオンモニタ制御データ、動作状態データ等を送受信する。 - 特許庁

Failure of the section relating ion current detection and the ignition system for the internal combustion engine or the like is diagnosed based on a signal after time TA longer than noise mask time NM2 elapses from monitor cylinder changeover time P1-P3 out of the signals from which noise is removed by providing noise mask time NM2 to signals provided from an ion current detection means detecting ion current generated in the monitor cylinder.例文帳に追加

モニタ気筒内で発生するイオン電流を検出するイオン電流検出手段から得られる信号に対してノイズマスク時間ＮＭ２を設けてノイズを除去した信号のうち、モニタ気筒切替時Ｐ１〜Ｐ３からノイズマスク時間ＮＭ２よりも長い時間ＴＡが経過した後の信号に基づいて、内燃機関の点火系やイオン電流検出に関連する部位などの故障を診断する。 - 特許庁

The inflow side of an ion exchange resin purifier 1 is connected to an ultrapure water production system 4, and a discharge pipe 3 is provided with a TOC monitor 5.例文帳に追加

イオン交換樹脂精製装置１の流入側は、超純水製造システム４に接続されている一方、排出管３にはＴＯＣモニター５が設けられている。 - 特許庁

The ion detector counts the incident recoil ions in every energy level to display the distribution of counted values hereinbefore with respect to the energy as energy spectra to a monitor.例文帳に追加

このイオン検出器３４は、エネルギーの大きさ毎に入射した反跳イオンを計数し、エネルギーに対する計数値の分布をエネルギースペクトルとして図示しないモニタに表示させる。 - 特許庁

To provide an incident angle monitor element of charged particles in an ion beam device using a silicon plate with an opening formed and a silicon plate with a line-space pattern formed.例文帳に追加

開口が形成されたシリコン板とライン・スペースパターンが形成されたシリコン板とを用いた、イオンビーム装置における荷電粒子の入射角モニタ素子を提供する。 - 特許庁

The patterns 8 for process monitor are formed by ion milling processing with the same stage as the stage for previously forming the film having an ion milling rate higher than that of the MR elements 6 to a film thickness thicker than the film thickness of the MR elements 6 and patterning the MR elements 6.例文帳に追加

加工モニタ用パターン８は、磁気抵抗効果素子６よりもイオンミリングレートが大きな膜を磁気抵抗効果素子６の膜厚よりも厚く形成しておき、磁気抵抗効果素子６をパターン化する工程と同じ工程でイオンミリング処理によってパターン形成する。 - 特許庁

Accordingly, ion generated by plasma discharge can be made stably incident into the pin member 10, and self-bias voltage can be detected stably to properly monitor the plasma discharge state.例文帳に追加

これにより、プラズマ放電によって発生したイオンをピン部材１０に安定して入射させることができ、セルフバイアス電圧を安定して検出してプラズマ放電の状態を適正に監視することができる。 - 特許庁

To evaluate the overlay accuracy of ion implantation processes directly with high precision and high reproducibility while minimizing the impact of process variation other than overlay or the impact of parasitic resistance component using a monitor element.例文帳に追加

イオン注入工程同士の重ね合わせ精度を、モニター素子を用いて重ね合わせ以外の工程変動や寄生抵抗成分の影響を最小に抑えつつ直接的に高精度かつ高再現性で評価する。 - 特許庁

A specimen is picked up from a processed substrate by the use of a focused ion beam in an in-line monitor, and the processed substrate which has been subjected to processing is cleaned to satisfy the cleanliness level required for the following substrate treatment and then returned to a semiconductors production line.例文帳に追加

インラインモニタにおいて被処理基板を集束イオンビーム加工して試験片をピックアップし、加工後の被処理基板を、次段の基板処理工程において要求される清浄度にクリーニングしてから半導体製造ラインに戻す。 - 特許庁

To improve a percutaneous monitor method and an instrument therefor using a preceding technique by providing an ion induction sampling instrument having an integrated sensor for monitoring the blood concentration of a target substance or of a configuration element in terms of non-invasion.例文帳に追加

目標物質または構成要素の血液濃度を非侵入的にモニタするための一体センサーを有するイオン導入サンプリング装置を提供することによって、先行技術の経皮モニタ方法および装置を改良すること。 - 特許庁

Then, the lithium ion capacitor comprises at least two or more cells, and the LED flash device includes: a monitor circuit for monitoring full charge voltage of each cell when charging the cells; and a second switching element capable of opening and closing connection of the cells.例文帳に追加

そして、前記リチウムイオンキャパシタが少なくとも２個以上のセルからなり、該セルの充電時に各々のセルの満充電電圧を監視する監視回路と、該セルの接続を開閉可能な第二のスイッチング素子とを有する。 - 特許庁

An energization monitor determination zone where effects of ion current change are not given can thus be set, thereby energization abnormality in the ignition coil or ignition abnormality such as smoking abnormality in the ignition plug can be correctly detected.例文帳に追加

これにより、イオン電流変化の影響を受けることのないよう通電モニタ判定区間を設定することができるため、点火コイルにおける通電異常や点火プラグにおけるくすぶり異常等の点火系異常を正確に検出することができる。 - 特許庁

Displacement of the reference positions is determined for the plurality of ion implantation processes based on the measurement of the electric characteristics for the first active region 13 from a plurality of unit monitor elements of the first and second active regions 13 and 15, each having a differentiated relative position.例文帳に追加

第１活性領域１３と第２活性領域１５との相対位置を異ならせた複数の単位モニター素子からの、第１活性領域１３に対する電気特性測定結果に基づいて、複数のイオン注入工程の基準位置同士のずれ量を求めるようにした。 - 特許庁

The application part 112 opens a digital camera category window 601 and a printer category window 602 on a picture 182 of a monitor 180 based on the information, and simultaneously makes the window 601 display the device icon of the digital camera, and makes the window 602 display the device ion of the printer (a step S112).例文帳に追加

アプリケーション部１１２はそれらに基づいて、モニタ１８０の画面１８２上にデジタルカメラカテゴリウインドウ６０１とプリンタカテゴリウインドウ６０２とをそれぞれ開き、ウインドウ６０１にはデジタルカメラのデバイスアイコンを、ウインドウ６０２にはプリンタのデバイスアイコンをそれぞれ同時に表示させる（ステップＳ１１２）。 - 特許庁

A wafer support (clamp ring) 133 for retaining and supporting the peripheral edge of the wafer has one or more cuts, i.e., empty regions OPN1, OPN2, into which ions are implanted to form monitor regions for evaluation while ion implanting is being conducted into element regions of the wafer.例文帳に追加

ウェハの支持部（クランプリング）１３３は、ウェハの周縁部を押えつけて支持するものであるが、一箇所以上の切れ目、すなわち空き領域ＯＰＮ１，ＯＰＮ２が設けられ、ウェハの素子領域におけるイオン注入時、同じくイオン注入がなされ、評価用のモニタ領域となる。 - 特許庁

In this method for controlling the dose amount, by measuring a contact angle to water of crystalline Si, the dose amount of ions implanted to a monitor substrate is estimated, so that the dose amount of ions implanted by the ion implantation device can be controlled using the quick and simple method.例文帳に追加

本発明の実施形態に係るドーズ量管理方法においては、結晶性のＳｉの水に対する接触角を測定することにより、モニタ基板に注入されたイオンのドーズ量を推定するため、迅速かつ簡易的な測定方法を用いて、イオン注入装置によって注入されたイオンのドーズ量を管理することができる。 - 特許庁

This gas detection system has a plurality of types of gas detectors 300 corresponding to types of gases of used gases monitoring the presence or absence of a leakage of used gas, an output signal 102 indicating type of used gas during use outputted from an ion implantation device 100 using a plurality of types of gases, and a monitor switching unit 200 switching monitoring gas detectors 300 by the output signal 102.例文帳に追加

使用ガス漏洩の有無をモニターする使用ガスのガス種に対応した複数種類のガス検知器３００と、複数種類の使用ガスを使用するイオン注入装置１００から出力された使用中の使用ガスのガス種を示す出力信号１０２と、出力信号１０２によりモニターするガス検知器３００を切り替えるモニター切替ユニット２００とを有する。 - 特許庁