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「irradiation position」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索
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irradiation positionの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 1502



例文

To provide an imaging device which can eliminate the irregularities of an amount of light attributed to a deviation in the predetermined irradiation position of a semiconductor laser (a light emitting element).例文帳に追加

、予めわかっている半導体レーザー(発光素子)の照射位置ずれに起因する光量ムラを除去できる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide an ultraviolet ray measuring method capable of precisely measuring the irradiation intensity of ultraviolet ray at a desired position of an article to be irradiated with ultraviolet ray.例文帳に追加

紫外線の照射を受ける物品の所望の箇所における紫外線の照射強度を正確に測定できる紫外線測定方法を提供する。 - 特許庁

This charged particle irradiation system includes an acceleration device 6 for extracting a charged particle beam, scanning magnets 24 and 25, and charged particle beam position monitors 26 and 27.例文帳に追加

粒子線照射システムは、荷電粒子ビームを出射する加速装置6と、走査磁石24,25と、荷電粒子ビーム位置検出器26,27を有する。 - 特許庁

Then a layer member including the thermosensitive layer 103 in which the visible image or the like is formed with laser beam irradiation, can be stuck on another position.例文帳に追加

そして、レーザ光照射により可視画像等が形成された感熱層103を含む層部材を他の部位に貼り付け等することができる。 - 特許庁

例文

The pulse lights PL irradiation position to the substrate is thereby corrected quickly by the pattern drawing device independently without using other device.例文帳に追加

これにより、他装置を使用することなく、パターン描画装置単独で、基板に対するパルス光PLの照射位置を迅速に補正することができる。 - 特許庁


例文

To provide an autoanalyzer which changes a sound wave irradiation position without complicating remarkably control or structure, and allows efficient stirring.例文帳に追加

制御や構造を大幅に複雑化させることなく、音波照射位置を変更でき、効率的な攪拌を行うことが可能な自動分析装置を実現する。 - 特許庁

To provide a light irradiation element, which can prevent reduction in light quantity even in a position distant from a light source, an image forming structure and an image forming apparatus.例文帳に追加

光源から離れた位置においても、光量の低下を防ぐことができる光照射体、像形成構造体及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁

Meanwhile, the light scattered in the optical path L3 direction is diffused and reflected light by the irradiation position P1 and proceeds along the optical path L3, and reaches a detection part 20.例文帳に追加

一方、照射位置P1にて拡散反射した光のうち、光路L3方向に散乱した光は、光路L3を進み、検出部20に到達する。 - 特許庁

A second filament 12b supported by the pair of second power feed conductors 14b is installed on the position located outward of an irradiation window 6 in the Y direction.例文帳に追加

第2フィラメント12bが一対の第2給電導体14bに支持されて照射窓6よりもY方向の外側の位置に配置されている。 - 特許庁

例文

A drive 39 moves the second illumination system 31b in a Z-direction to make the irradiation position of the inspection light L2 corresponding to the height of the pericle P variable.例文帳に追加

駆動装置39は、第2照明系31bをZ方向に移動させてペリクルPのペリクル高さに応じて検査光L2の照射位置を可変する。 - 特許庁

例文

Gouged out parts 11, 21 are provided on the black matrix (BM) 1 and the color filter layer 2, respectively, in advance corresponding to a position where the repair with the laser irradiation is to be performed.例文帳に追加

レーザー照射によるリペアを行う個所に対応して、予め、ブラックマトリクス(BM)1及びカラーフィルタ層2のそれぞれに抜き部11,21を設けておく。 - 特許庁

To form position-controlled crystal grains with high throughput, in a laser irradiation method which is high in interference.例文帳に追加

干渉性の高いレーザ照射装置を用いたレーザ照射方法において、位置制御された結晶粒を高いスループットで形成することを目的とする。 - 特許庁

The control part 38 senses the crack of the substrate B on the basis of the signal outputted from the sensor amplifier 36 during the passage of the substrate B through the light irradiation position.例文帳に追加

制御部38は、光の照射位置を基板Bが通過する間に、センサアンプ36から出力される信号に基づき基板の割れを検知する。 - 特許庁

The light is emitted from the strobe 44 at an irradiation angle, the light with which a range L1 having the photographing aspect ratio of 4:3 in the 1st position P1 can be irradiated.例文帳に追加

第1位置P1では、ストロボ44からの光は、撮影アスペクト比が4:3の範囲L1を照射可能な照射角度で出射される。 - 特許庁

To provide an X-ray device in which a prescribed dose of X-ray can be irradiated on a desired position of an animal that is the object of irradiation.例文帳に追加

照射対象である動物の所望位置に精密に規定の線量のX線を照射することのできるX線装置を提供する。 - 特許庁

To provide a charged beam particle lithography system capable of improving a throughput by shortening the time from deflecting an applied voltage to change an irradiation position on a CP aperture to starting lithography.例文帳に追加

CPアパーチャ上での照射位置を変えるための印加電圧を偏向してから描画を始めるまでの時間を短縮し、スループットの向上を図る。 - 特許庁

To provide a method for preparing a semiconductor device by using a method that irradiates a laser beam to a desired position at a high speed while changing over a laser irradiation pattern.例文帳に追加

レーザ照射パターンを切り替えながら、所望の位置に高速にレーザ照射を行う方法を用いた半導体装置の作製方法を提供する。 - 特許庁

To display high precision analysis information for evaluating the stability of an irradiation position of electron beams in a charged particle beam device.例文帳に追加

荷電粒子線装置において、電子線の照射位置の安定性を評価するための高精度な解析情報を表示することを課題とする。 - 特許庁

To decrease accuracy of light condensing and focusing of irradiation light and to accurately position a fine object for welding in welding a synthetic resin.例文帳に追加

合成樹脂の溶着において、照射光の集光・合焦の精度を軽減し、且つ、微細な溶着対象においても正確な位置決めを確保する。 - 特許庁

To provide an encoder capable of accurately detecting the absolute angle even when the irradiation position of detected light to a scale shifts from the reference.例文帳に追加

スケールに対する被検出光の照射位置が基準からずれた場合でも、絶対角度を精度良く検出することができるエンコーダを提供する。 - 特許庁

It is, therefore, possible to test a plurality of the wiring without converging the electromagnetic waves to a degree of dimension of the pads and moving a position of irradiation.例文帳に追加

そのため、パッド寸法程度まで電磁波を収束させる必要がなく、また照射位置を移動することなく複数の配線の検査を行うことができる。 - 特許庁

The electron beam current is controlled by changing the converging degree by the condenser lens 6 depending on the irradiation position on the circular substrate 16.例文帳に追加

そして、円形基板16上の照射位置に応じてコンデンサレンズ6による集束度を変化させることにより、電子ビーム電流を制御している。 - 特許庁

Etching processing is carried out by radiating ion beams according to the calculated irradiation position and dose distribution while blowing etching gas toward a glass substrate 34.例文帳に追加

ガラス基板34へエッチング用ガスを吹き付けながら、算出された照射位置及びドーズ分布に従ってイオンビームを照射し、エッチング加工を行う。 - 特許庁

Each beam spot position is controlled with two scanning electromagnets 4 and 5, horizontal and vertical, and by an energy (range shifter 6, or the like) and the quantity of irradiation with an online monitor 7.例文帳に追加

各ビームスポット位置は水平と垂直の2台の走査電磁石4,5、エネルギ(レンジシフタ6等)により、照射量はオンラインモニタ7により制御される。 - 特許庁

Consequently, the detecting surface of the FPD 6 is placed perpendicularly to an irradiating axis connected to an irradiation source position of a rotating anode X-ray tube 5.例文帳に追加

これにより、FPD6の検出面を、回転陽極X線管5の照射源位置と結ばれる照射軸と直交させることができる。 - 特許庁

A laser irradiation position at the two-dimensional scanning time is finely adjusted, based on positional deviation information determined in this way, to thereby correct the deviation of the characteristic X-ray image.例文帳に追加

こうした求めた位置ずれ情報に基づいて二次元走査時のレーザ照射位置を微調整することで特性X線画像のずれを補正する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus capable of reducing a sub-scanning component of a color shift generated by a sub-scanning component of a relative shift of an irradiation position.例文帳に追加

照射位置の相対的なずれの副走査成分により発生する色ずれの副走査成分を低減した画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

A carriage 27 is provided with a turning stage 35 turning on a target irradiation position PT on the substrate 2 side with a laser head 37 on the turning stage 35 disposed.例文帳に追加

キャリッジ27の基板2側に、目標照射位置PTを回動中心とする回動ステージ35を設け、その回動ステージ35に、レーザヘッド37を配設した。 - 特許庁

To suppress generation of defective optical scanning caused by the variations in the starting position of irradiation with a forward light beam, due to the variation in the oscillation amplitude of a deflecting mirror.例文帳に追加

偏向ミラーの振動振幅変動して往路光ビームの照射開始位置が変動することに起因した、光走査不良の発生を抑制する。 - 特許庁

According to the indication from a laser controller 4, a laser device 1 arranges semiconductor position detection elements 3 at nine prescribed positions on a stage, the prescribed positions on the semiconductor position detection elements 3 is irradiated with laser beams, and each semiconductor position detection element 3 detects the actually exposed irradiation position and transmits the data on the detection position to the laser controller 4.例文帳に追加

レーザコントローラ4の指示によりレーザ装置1がステージ上の9つの所定位置に半導体位置検出素子3を配置し、半導体位置検出素子3上の所定の位置にレーザを照射し、各半導体位置検出素子3は実際に露光された照射位置を検出して、その検出位置のデータをレーザコントローラ4へ送信する。 - 特許庁

Thereby when the substrate 50 is scanned for light exposure and a laser irradiation surface 115 for focus position detection is moved to the substrate 50, a laser irradiation surface 115 can always have irradiate the focus position detection mark which exists irradiated across the shot region 60, regardless of the rough surface of the substrate 50.例文帳に追加

これにより、露光のために基板50が走査されて、焦点位置検出用レーザ照射面115が、基板50面上を移動するときに、焦点位置検出用レーザ照射面115は、基板50面の凹凸に係わらず、常にショット領域60を横切って存在する焦点位置検出マークを、照射する事ができる。 - 特許庁

The device is so composed to measure the state of irradiation with light beam while the tracking target position of the light beam on a recording medium is offset and to measure an optimum offset so that the state of irradiation with light beam is made at an optimum tracking target position, and to control the tracking by setting the measured optimum offset.例文帳に追加

光ビームの記録媒体上におけるトラッキング目標位置をオフセットさせながら光ビーム照射状態を測定し最適な光ビーム照射状態のトラッキング目標位置になるように最適オフセットを測定し、測定された前記最適オフセットを設定してトラッキング制御を行うように構成する。 - 特許庁

The liquid level detection device includes a light source irradiating a solution stored in a light-transmitting container with irradiation light, an image pickup device picking up an image of the solution from a backlight position with respect to the irradiation light, and an image processing device detecting the position of the level of the liquid by processing the image from the image pickup device.例文帳に追加

液面検出装置は、光透過性の容器に収容された溶液に照明光を照射する光源と、溶液を照明光に対して逆光の位置から撮像する撮像装置と、撮像装置からの画像を処理することによって液面の位置を検出する画像処理装置と、を有する。 - 特許庁

This fluorescent X-ray analyzer is equipped with a sample stand 3 for supporting the sample S; an X-ray source 4 for irradiating the center of a prescribed irradiation position P1 with a primary X-ray P; and a detector 5 arranged toward the irradiation position P1, for detecting a fluorescent X-ray Q generated from the sample S.例文帳に追加

蛍光X線分析装置は、試料Sを支持する試料台3と、所定の照射位置P1を中心として一次X線Pを照射するX線源4と、照射位置P1に向って配置され、試料Sから発生する蛍光X線Qを検出する検出器5とを備えている。 - 特許庁

A dummy film 11 is formed on a semiconductor wafer W being a substrate, and next, an irradiation position is moved while irradiating a surface of the wafer W from right above, and reflected light is received to obtain data associating the intensity of received light with the irradiation position of light, whereby a particle on the wafer W is detected.例文帳に追加

基板である半導体ウエハWの上にダミー膜11を成膜し、次いでウエハWの表面に真上から光を照射しながら照射位置を移動させ、その反射光を受光し、この受光した光の強度と光の照射位置とを対応付けたデータを取得して、ウエハW上のパーティクルを検出する。 - 特許庁

The optical information reading apparatus 10 is configured to detect an irradiation position of marker light on an image of an object to be scanned, and to set a first scanning area for reading a code placed in the vicinity of the irradiation position and a second scanning area which is larger than the first scanning area.例文帳に追加

光学的情報読取装置10は、撮像した読取対象の画像においてマーカ光の照射位置を特定すると共に、この照射位置付近に位置する照射対象コードを読み取る第1読取エリアと、第1読取エリアよりも広い第2読取エリアとを設定可能に構成されている。 - 特許庁

A specimen is irradiated with pulsed light from a prescribed light irradiation position, and the pulsed light transmitted through the specimen and re-emitted is detected at a plurality of light detection positions different from the light irradiation position, and the light CT image for showing internal information of the specimen is reconstituted from a time resolution waveform of the detected light.例文帳に追加

被検体に対して、所定の光照射位置からパルス光を照射し、この被検体内を透過して再出射されるパルス光を、光照射位置とは異なる複数の光検出位置で検出して、その検出光の時間分解波形から、被検体の内部情報を示す光CT画像を再構成する。 - 特許庁

Position information (position of irradiation point Q10 on photodetector 85) of little light for detection reflected by a light distributing surface ξ2x and orientation information (position of condensing point Q20 on photodetector 87) are stored in a storage device 91 as reference information.例文帳に追加

光分配面ξ2xで反射したわずかな検出用光の位置情報(受光素子85上の照射点Q10の位置)と向き情報(受光素子87上の集光点Q20の位置)とを基準情報として記憶装置91に記憶する。 - 特許庁

The irradiation-side pinhole 174 is located at an appropriate position on a rear stage of the light source unit 171 in the point light source unit 170 so that an attaching position of the point light source unit 170 will be conjugate to a focal position of an objective lens 141, thus achieving a point light source.例文帳に追加

照射側ピンホール174は、点光源ユニット170の装着時の位置が対物レンズ141の焦点位置と共役な位置となるように、点光源ユニット170内の光源ユニット171後段の適所に設けられ、点光源を実現する。 - 特許庁

Further, used are a step for rotating the holding means to 180 degrees in a vertical plane to the measuring direction, and a step S140 for aligning the predetermined location to the irradiation position based on a position relative to the reference mark to perform a second surface position measurement.例文帳に追加

また、保持手段を面位置計側方向と垂直な面内で180度回転させる工程と、前記基準マークとの相対位置に基づき前記所定場所を前記照射位置に位置合わせして第2の面位置計測を行う工程S140とを有する。 - 特許庁

A ratio of the intensities of a pair of the laser beams is corrected from the calculated shift amount and the impact position correction data LRD while maintaining the irradiation intensities of a pair of the laser beams so that the impact position of the droplet may become the target position.例文帳に追加

そして、その演算したシフト量と上記着弾位置補正データLRDとに基づいて液滴の着弾位置が目標位置となるように一対のレーザ光の照射強度を維持しながら同一対のレーザ光の強度の比率を補正する。 - 特許庁

To adjust a reachable distance of a laser reflection light to an optical position detector, and facilitate measurement, by changing a laser irradiation position and a laser irradiation angle in a vacuum, in a heating or in a cooling state, as is even if a cantilever is bent by a thermal influence, wherein a laser generator and the optical position detector are installed outside a vacuum vessel.例文帳に追加

レ−ザ発生器と光位置検出器を真空容器外に設置することでカンチレバ−が熱の影響で反りが発生しても真空中のまま、あるいは加熱中のまま、あるいは冷却中のままの状態でレ−ザ照射位置およびレ−ザ照射角度を変更することでレ−ザ反射光の光位置検出器への到達位置を調整することができ測定を容易にする。 - 特許庁

Then, it calculates a degree of displacement again with the view magnification when registering the mark while comparing the position of the mark detected with the view magnification when registering the mark with the position of the mark when registered, and executes the processing of the processed pattern after shifting a processing ion beam irradiation position the degree of displacement from the registration position of the processed pattern.例文帳に追加

その後、マーク登録時の視野倍率で検出されたマークと登録時のマークの位置を比較してマーク登録時の視野倍率で再度位置ずれ量を算出し、そのずれ量分だけ加工パターンの登録位置から加工用のイオンビーム照射位置をシフトさせて加工パターンの加工を実行する。 - 特許庁

To prevent an irradiation position of reproduction light from being located at a mark non-formation part when a bulk type optical disk which has a reference surface having a position guide element formed and a recording layer formed at a position of different depth therefrom is reproduced from a position where an area having a mark array not formed on near side thereof is present.例文帳に追加

位置案内子が形成された基準面と、これと深さの異なる位置に形成された記録層とを有するバルク型光ディスクにおいて、その手前側にマーク列が非形成とされる領域の存在する位置からの再生を行う場合に、再生光の照射位置がマーク非形成部分に位置することを防止する。 - 特許庁

A camera control unit 19 outputs an X-ray irradiation signal to an X-ray emitting means 17 in synchronous relation to the position detecting signal outputted by the position detecting means 16 to output an image capture signal to an image capture part 20.例文帳に追加

カメラコントロールユニット19は、位置検出手段16が出力する位置検出信号に同期して、X線発生手段17にX線照射信号を出力し、画像取込部20に画像取込信号を出力する。 - 特許庁

During a recording operation, a laser irradiation position by a tracking servo means is set so as to be in the power margin optimal position state of a laser irrespective of a track center state or a detrack state shifted from the track center.例文帳に追加

記録動作時において、トラッキングサーボ手段によるレーザ照射位置を、トラックセンタ状態となるか或いはトラックセンタからずれたデトラック状態となるかにかかわらず、レーザのパワーマージン最適位置状態となるようにする。 - 特許庁

The external beacon 3o and the internal beacon 3i are provided to show the position of the RFID tag 21, and their position relation with the RFID tag 21 is provided to show a proper irradiation region for securing read/write processing by a circular region.例文帳に追加

外側標識3oと内側標識3iとは、RFIDタグ21位置を示し、RFIDタグ21との位置関係が読み書き処理を確実にする適正照射領域を環状領域で示している。 - 特許庁

To provide a position controller capable of performing high speed gap adjustment to the surface of an objective body, and to provide a position controller in a laser irradiation device or the like capable of realizing a wide dynamic range.例文帳に追加

本発明は対象体表面に対し高速ギャップ合わせが可能な位置制御装置、及び広いダイナミックレンジを実現可能なレーザ照射装置等の位置制御装置を提供することを目的としている。 - 特許庁

The camera determines the irradiation position of the flashing device 6 in correspondence with the posture of the detected photographing optical system unit 3, on the basis of a current position of the flashing device 6 read by an encoder pattern 13.例文帳に追加

一方、エンコーダ用パターン13により読み取った閃光装置6の現在位置に基づくと共に、検出した撮影光学系ユニット3の姿勢に対応して、閃光装置6の照射位置を決定する。 - 特許庁

例文

A temperature-lowering gradient of a restoration material transcribed to a position to be restored is alleviated by preheating at least a position to be restored on a restoration objective prior to the irradiation of a laser beam.例文帳に追加

レーザビームの照射に先立って、修復対象物上の少なくとも前記修復予定箇所を予熱することにより、修復予定箇所に転写された前記修復材料の降温勾配を緩和すること。 - 特許庁




  
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