「irradiation position」に関連した英語例文の一覧と使い方(30ページ目) - Weblio英語例文検索

The frequency selector 140 selects the frequency of the ultrasound irradiated from the ultrasound generating source 110 based on the relation of the transmitting distance and the frequency and the heat generation quantity of the ultrasound stored in the frequency selecting data memory 210 according to the irradiation target position of the ultrasound input from an input device 160.例文帳に追加

周波数選択手段１４０は、入力手段１６０から入力された超音波の照射目標位置に応じて、周波数選択データメモリ２１０に記憶されている超音波の伝播距離と周波数と発熱量との関係に基づいて、超音波発生源１１０から射出する超音波の周波数を選択する。 - 特許庁

The infrared restriction plate 4 is constituted to minimize infrared transmittance at a part to intersect a vertical line stood on an irradiation surface 4a from the light source 2 and to raise it with the separation from the part and an infrared exposure dose to the plants P is approximately uniformly adjusted regardless of a position on an approximately horizontal plane.例文帳に追加

この赤外線制限板４は、赤外線透過率が、光源２から照射面４ａに立てた垂線と交じわる部位で最も低くなり、該部位から離れるにつれて高くなるように構成され、植物Ｐに対する赤外線照射量が略水平面上の位置に関わらず略均一となるように調整されている。 - 特許庁

Then, a text part or image part on the presentation image G corresponding to the pointer irradiation position P is extracted as a target part O to be indicated by the pointer, an underline image QB exactly along the target part O is composed, projected, and displayed, and a surrounding line image QC (QC') surrounding this target part O is composed, projected, and displayed.例文帳に追加

そして、ポインタ照射位置Ｐに対応するプレゼン画像（Ｇ）上のテキスト部分やイメージ部分をポインタ指示すべき目標部分Ｏとして抽出し、この目標部分Ｏにピッタリと沿わせたアンダーライン画像ＱＢを合成して投影表示させたり、該目標部分Ｏを囲む囲みライン画像ＱＣ（ＱＣ′）を合成して投影表示させたりする。 - 特許庁

The gauge 61 indicating a side standardized drawing as large as the bicycle 5 enabling it to keep in the multistory bicycle parking facility is installed in a wall 52 of a pathway 51 in the multistory bicycle parking facility, and a light beam irradiation device 62 horizontally irradiating visible rays toward the pathway 51 from a profile position of the side standardized drawing of the bicycle 5 of the gauge 61 is provided.例文帳に追加

立体駐輪設備に収納可能な二輪車５の側面規格図を等寸大で表示したゲージ６１を、立体駐輪設備の通路５１の壁５２に設置し、ゲージ６１の前記二輪車５の側面規格図の輪郭位置より、通路５１に向けて水平に可視光線を照射する光ビーム照射装置６２を設ける。 - 特許庁

To provide an irreversible temperature indicating label that prevents misrecognition, at each stage of the use of a plurality of irreversible temperature indicating labels, such as, manufacturing, distribution and selling, and usage thereof to improve efficiency, providing satisfactory beauty, since the presence of a section where color is developed by the irradiation with UV light, and allowing the arrangement position of UV paint is readily understood.例文帳に追加

複数の不可逆性示温ラベルを使用する場合において、その製造時、流通販売時、使用時などの各段階において、誤認を防止し、効率化を図るほか、ＵＶ光をあてることにより発色する部分の存在がわかりにくく美観が良好になる一方、ＵＶ塗料の配設位置がわかりやすい不可逆性示温ラベルを提供する。 - 特許庁

The adjusting member 80 is composed of a rotating cylinder 80A fixed inside the base and a coupling member 80B to elastically couple this rotating cylinder with the seal, and the base is rotated to adjust a position of the rotating cylinder against the seal, thereby adjusting the illumination direction (irradiation direction) of the light sources sealed in the seal.例文帳に追加

調節部材８０は口金の内部に固定された回転筒体８０Ａと、この回転筒体と封止体とを弾性的に連結するための連結部材８０Ｂからなり、口金を回して封止体に対する回転筒体の位置を調整することで、封止体内に封止された光源の照明方向（照射方向）を調節する。 - 特許庁

The laser beam machining apparatus includes a holder part 65 for holding the target substrate 60, a laser oscillator 1 that machines the thin film 62 by irradiating the thin film 62 of the target substrate 60 with a laser beam L, and a transfer mechanism 5 that relatively moves the irradiation position of the laser beam L for the thin film 62 of the target substrate 60 held by the holder part 65.例文帳に追加

レーザ加工装置は、被加工基板６０を保持する保持部６５と、被加工基板６０の薄膜６２にレーザ光Ｌを照射して、薄膜６２を加工するレーザ発振器１と、保持部６５に保持された被加工基板６０の薄膜６２に対するレーザ光Ｌの照射位置を相対的に移動させる移動機構５と、を備えている。 - 特許庁

To an optical recording medium comprising optical irradiation position control tracks or virtual tracks formed of guide marks in an optical recording medium surface, two or more recording marks are formed in one track groove part or between the grooves, or in a virtual track groove part or between the grooves in a different direction to the traveling direction of the light at the time of reproduction.例文帳に追加

光記録媒体面内の光照射位置を制御するトラックあるいは案内マークにより形成される仮想トラックを有する光記録媒体に対し、１つのトラック溝部もしくは溝間、あるいは仮想トラック溝部もしくは溝間に再生時の光の進行方向に対して、異なる方向に複数の記録マークを形成する。 - 特許庁

To reduce the positional deviation of components in curing an adhesive and the positional deviation after an environmental test by unifying the kind of UV rays curing type adhesives for joining respective components of an optical pickup to one type, and also changing the application position of the UV curing type adhesive, the number of times of applications, a application amount, UV rays irradiation conditions, or the like.例文帳に追加

光ピックアップの各部品を接合するための紫外線硬化型接着剤の種類を１つだけに統一した上で、紫外線硬化型接着剤の塗布位置や塗布点数の変更、塗布量の変更、紫外線照射条件の変更などを通じて接着剤硬化時の部品の位置ずれや環境試験後の位置ずれを抑える。 - 特許庁

For solving the above problem, a photoelectron image formation mode by ultraviolet irradiation generation is added to an operation mode of an electron optical system, and further, an irradiated region of ultraviolet rays is displayed as a photoelectron image, and a photoelectron image and a reflected electron image are displayed in lamination on a monitor, thus a mutual position relation and a difference of size can be easily figured out.例文帳に追加

上記の課題を解決するため、電子光学系の動作モードに紫外線照射発生による光電子結像モードを付加した上、紫外線の照射領域を光電子像として表示し、光電子像と反射電子像とをモニタ上に重ねて表示することにより、相互の位置関係と大きさの差を容易に把握できるようにした。 - 特許庁

Here, an LED that is the light source for emitting photographic auxiliary light is made to emit light, while the irradiation angle of the photographic auxiliary light is adjusted by a liquid lens, arranged on the front of the LED on the subject side so that the photographic area is irradiated with the photographic auxiliary light, according to the operating position (TELE side and WIDE side) of the zoom switch.例文帳に追加

このときには、撮影補助光発光用の光源であるＬＥＤを発光させながら、ズームスイッチの操作位置（ＴＥＬＥ側、ＷＩＤＥ側）に応じた撮影領域に向けて撮影補助光が照射される様に撮影補助光の照射角がＬＥＤの被写体側前面に配備された液体レンズによって調節される。 - 特許庁

When at least two lines of long laser lights 11A and 11B are added by two rows or more per line and they are directed to the surface of a semiconductor thin film 12 formed on a substrate 10, added parts 14A and 14B in at least two lines of laser lights 11A and 11B are made not to overlap in position in the lengthwise direction during irradiation.例文帳に追加

基板１０上に形成された半導体薄膜１２の表面に長尺形状の少なくもと２行のレーザ光１１Ａ，１１Ｂを各行毎に２列以上継ぎ足して照射する際に、少なくもと２行のレーザ光１１Ａ，１１Ｂにおける継ぎ部分１４Ａ，１４Ｂの位置が長尺方向で重ならないように照射する。 - 特許庁

This method for static elimination of at least one resin hollow container 3 comprises a conveying process of conveying the hollow containers 3 along a guide part 4, and an X-ray irradiation process for irradiating the hollow containers 3 with X-rays when the containers 3 are located in the prescribed position.例文帳に追加

本発明の静電気除去方法は、少なくとも１つの樹脂製中空容器３の静電気を除去する静電気除去方法において、中空容器３をガイド部４に沿って搬送する搬送工程と、中空容器３が所定位置２０に配置されるときに中空容器３にＸ線を照射するＸ線照射工程とを含む。 - 特許庁

The manufacturing apparatus of the silicon wafer has: a laser beam irradiation means 200 for applying first laser beams 20 having a long wavelength and second laser beams 30 having a short wavelength to a prescribed depth position from a surface 10a of the silicon wafer 10; and a laser beam condensing means 300 for condensing the first laser beams 20 in a prescribed depth position of the wafer 10 and condensing the second laser beams 30 near the surface 10a of the wafer 10.例文帳に追加

シリコンウェーハ１０の表面１０ａから所定の深さ位置に対して、長波長である第１レーザー光線２０及び短波長である第２レーザー光線３０を照射するレーザー光線照射手段２００と、前記第１レーザー光線２０を前記ウェーハ１０の所定の深さ位置に集光し、前記第２レーザー光線３０を前記ウェーハ１０の表面１０ａ近傍に集光するためのレーザー光線集光手段３００とを具えることを特徴とする。 - 特許庁

An X-ray tube includes: an anode target 4 emitting an X-ray 5 by collision of an electron beam 2; a plurality of cathode electrodes 1 arranged at a position facing the anode target 4 and emitting the electron beam 2; an electron optical system controlling an irradiation direction of the electron beam 2; and an envelope housing the anode target 4, the cathode electrodes 1 and the electron optical system.例文帳に追加

電子ビーム２の衝突によりＸ線５を放出するアノードターゲット４と、アノードターゲット４に対向する位置に配置され、電子ビーム２を放出する複数のカソード電極１と、電子ビーム２の照射方向を制御する電子光学系と、アノードターゲット４とカソード電極１と電子光学系とを収容する外囲器と、を有するＸ線管を提供する。 - 特許庁

In a manufacturing step of the photomask, a crack assembly area 17 comprising a crack 16 distribution is formed in the mask 6 by irradiation with a femto-second pulse laser, the flatness of the mask 6 is improved by a tensile stress operated thereto and, thereby, the precision of drawing position of the circuit pattern 5 and the yield of the semiconductor wafer on which the circuit pattern is formed can be improved.例文帳に追加

フォトマスクの製造工程において、フェムト秒パルスレーザを照射することによりマスク６内にクラック１６の分布からなるクラック集合領域１７を形成させ、そこに働く引張応力によってマスク６の平坦度を改善することで、回路パターン５の描画位置精度および回路パターンが形成される半導体ウエハの歩留まりを向上させることができる。 - 特許庁

The defective part is irradiated with the laser beam by controlling the irradiation position of the laser beam to be variable on the surface in a direction along a Y axis perpendicular to the optical axis and in a direction along an X axis perpendicular to the optical axis and to the Y axis, and to be variable in a plurality of times along the optical axis from the surface of the defective part to the surface of the film substrate 26.例文帳に追加

このとき、レーザ光の照射位置を、表面において光軸と直交するＹ軸が延びる方向と当該光軸およびＹ軸のそれぞれと直交するＸ軸が延びる方向とに可変としながら、且つ当該照射位置を光軸に沿って欠陥部の表面からフィルム基板２６の面に至るまで複数回に分けて可変としながら、レーザ光を照射する。 - 特許庁

In another method, the plural refractive index change parts 4 are formed inside the core part 3 by converging a beam diameter of an ion beam formed by accelerated ions below a width of the refractive index change part 4 for constituting the grating G, and intermittently irradiating the ion beam with shifting an irradiation position to a center axis direction to implant the ions into the core part 3.例文帳に追加

また、他の方法として、加速されたイオンにより形成されるイオンビームのビーム径を、グレーティングＧを構成すべき屈折率変化部４の幅以下に収束させ、光ファイバ１の中心軸方向に照射位置を移動しつつイオンビームを断続的に照射してイオンをコア部３内に注入することにより、コア部３内に当該屈折率変化部４を複数形成する。 - 特許庁

A droplet FD landed at a color layer area 23 is conveyed along the arrow Y direction at a conveying speed Vy (200 mm/sec) and enters the blow spot Bs1, the vicinity of the center position in the arrow X direction of the droplet FD is irradiated with a laser beam B which rapidly increases and then drops the irradiation strength for about 50 μsec.例文帳に追加

そして、着色層領域２３に着弾した液滴ＦＤが、Ｙ矢印方向に沿って搬送速度Ｖｙ（２００ｍｍ／秒）で搬送されて、ブロースポットＢｓ１に侵入すると、液滴ＦＤのＸ矢印方向の中央位置近傍に、約５０μ秒間で、その照射強度を急激に増加して下降させるレーザビームＢが照射されるようにした。 - 特許庁

In crystallizing the amorphous silicon layer by utilizing a SGS method, through the selective irradiation of the laser beam, uniform low concentration diffusion control of the metal catalyst is enabled, and the size of the crystal grain and the position and direction where the crystal grows is regulated to improve the element characteristics, consequently the method for manufacturing the thin film transistor in which a uniform value is obtained is provided.例文帳に追加

ＳＧＳ法を利用して非晶質シリコーン層を結晶化することにおいて、レーザービームの選択的な照射を介して金属触媒の均一な低濃度拡散制御を可能なようにして、結晶粒の大きさ及び結晶が成長する位置、方向を調節して素子特性を向上させて、均一な値を得ることができる薄膜トランジスタの製造方法を提供する利点がある。 - 特許庁

The headlight (lighting system) 2 is provided a fluorescent member 14 on which laser light emitted from semiconductor laser elements 11 is irradiated, an actuator 16 to move a laser light-irradiation position of the fluorescent member 14 and to stop it thereafter, and a reflecting mirror 30 having a concave-shaped reflecting surface 31 for reflecting light emitted from the fluorescent member 14.例文帳に追加

この前照灯（照明装置）２は、半導体レーザ素子１１から出射したレーザ光が照射される蛍光部材１４と、蛍光部材１４のレーザ光が照射される被照射位置を移動させ、かつ、移動後に停止させるアクチュエータ１６と、蛍光部材１４から出射した光を反射する凹状の反射面３１を有する反射鏡３０とを備える。 - 特許庁

An ink-jet print head includes an ink chamber and ink channel formed in a passage plate, an ink ejection opening formed in a cover plate which is provided on the passage plate, a converging lens provided on the bottom surface of the passage plate at the position corresponding to the ink chamber, and a laser beam irradiation means for irradiating laser beam to the ink filled in the ink chamber through the converging lens.例文帳に追加

本発明は、流路プレートに形成されたインクチャンバとインクチャンネルと、流路プレート上に設けられたカバープレートに形成されたインク吐出口と、流路プレートの底面にインクチャンバに対応する位置に設けられる集束レンズと、集束レンズを通じてインクチャンバ内に満たされたインクにレーザービームを照射するレーザービーム照射手段と、を具備するインクジェットプリントヘッドである。 - 特許庁

In the optical disk recording/reproducing device constituted so as to record the signal on the disk 1 by the irradiation of the laser made from the optical pickup 2, the arrangement is made so that the optimum recording condition at the position is measured by performing the recording/ reproducing operation of a test signal at several positions over the inner peripheral side to the outer peripheral side of the disk 1 to be used.例文帳に追加

光学式ピックアップ２より照射されるレーザーによりディスク１に信号を記録するように構成された光ディスク記録再生装置において、使用されるディスク１の内周側より外周側に亘る数カ所にてテスト信号の記録再生動作を行うことによってその位置における最適記録条件を測定するようにしたものである。 - 特許庁

Since the variable light distribution head lamp system 1 is provided on a housing 11 controlled by an auto-leveling device 10 for detecting a load movement at axles 22, 23 of a vehicle 20 and maintaining an irradiation direction of a head lamp body 2 to a horizontal direction, a defined position to a road surface is imparted to the head lamp body 2 to solve the problem.例文帳に追加

本発明により、可変配光ヘッドランプシステムは、車両２０の車軸２２、２３における荷重移動を検出しヘッドランプ灯体２の照射方向を水平に保つオートレベリング装置１０により制御されるハウジング１１に設けられている可変配光ヘッドランプシステム１としたことで、ヘッドランプ灯体２に路面に対する規定位置が与えられるものとして課題を解決する。 - 特許庁

The optical pickup device includes a photodetector 17 which is irradiated with return light reflected from a signal recording layer of the optical disk D and generates a focus error signal, wherein the direction of the tilt of the optical disk D and the degree of the tilt are detected by the position of a part with a large light intensity in a spot generated in the photodetector 17 by irradiation with the return light.例文帳に追加

光ディスクＤの信号記録層から反射された戻り光が照射されるとともにフォーカスエラー信号を生成する光検出器１７を備えた光ピックアップ装置であり、前記光検出器１７に戻り光が照射されて生成されるスポット内に生成される光強度大部の位置によって光ディスクＤの傾きの方向及び傾きの度合いを検出する。 - 特許庁

The positive resist composition contains (A) a resin having a specified repeating unit derived from a vinyl ether having a fluorine atom or a fluoroalkyl group in the α-position and a specified repeating unit derived from a vinyl ether and having solubility in an alkali developer increased by the action of an acid and (B) a compound which generates an acid upon irradiation with an active ray or radiation.例文帳に追加

（Ａ）α位にフッ素原子又はフルオロアルキル基を有するビニルエーテルに由来する特定の繰り返し単位及びビニルエーテルに由来する特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂、及び、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

During a moving period of the incident position of the machining laser pulse from one irradiation point to the next on the workpiece, a non-machining laser pulse having a shorter pulse width than that of the machining laser pulse is emitted from the laser oscillator with a pulse width and a repeating frequency corresponding to the length of the moving period and, simultaneously, no non-machining laser pulse is made incident on the workpiece.例文帳に追加

加工対象物上の１つの被照射点から次の被照射点に、加工用レーザパルスの入射位置を移動させる移動期間に、加工用レーザパルスのパルス幅よりも短いパルス幅をもつ非加工用レーザパルスを、移動期間の長さに応じたパルス幅と繰り返し周波数で、レーザ発振器から出射させるとともに、非加工用レーザパルスは加工対象物に入射させない。 - 特許庁

The laser depilation apparatus is provided with a laser irradiating part 23 for intermittently irradiating a laser beam, a movement mechanism 24 for changing a laser irradiating position concerning a skin surface by moving the laser irradiating part unless the laser beam is irradiated and a control part for controlling the movement mechanism so as to irradiate a previously set whole irradiation area on the skin surface.例文帳に追加

レーザ脱毛装置は、間欠的にレーザビーム出射するレーザ出射部２３と、レーザビームの非出射時にレーザ出射部を移動させることにより皮膚表面に対するレーザ照射位置を変更する移動機構２４と、移動機構を制御することにより皮膚表面における予め設定された照射量域全域にレーザビームを照射せしめる制御部とを備える。 - 特許庁

The recording device includes a beam deflection section for relatively moving an irradiation position of the exposure beam with respect to a substrate; a substrate velocity adjustment section for adjusting a moving velocity of the substrate according to roughness and fineness of the latent pattern; and a deflection control section for controlling to change a deflection velocity of the exposure beam during formation of the latent pattern according to the moving velocity of the substrate.例文帳に追加

基板に対して相対的に露光ビームの照射位置を移動させて潜像パターンの記録を行なうビーム偏向部と、潜像パターンの疎密に応じて基板の移動速度を調整する基板速度調整部と、潜像パターンの形成時における露光ビームの偏向速度を基板の移動速度に対応させて変化させる制御をなす偏向制御部と、を有する。 - 特許庁

In this method for forming the grating in a core by performing a process for irradiating the core of an optical waveguide component 5 with exposure light rays 2 to irradiate the core with interference fringes 4 one or more times, the irradiation position of the interference fringes 4 irradiated at the second time is moved by the integral multiple of the period of the interference fringes 4 from the interference fringes 4 irradiated at the first time.例文帳に追加

本発明は、露光用光２を光導波路部品５のコアに照射し、このコアに干渉縞４を照射する工程を１回以上行い、コアにグレーティングを形成するグレーティングの形成方法であって、１回目に照射された干渉縞４に対して、２回目に照射する干渉縞４の照射位置を、干渉縞４の周期の整数倍移動する構成とする。 - 特許庁

In a state that the table 27 is rotated by a spindle motor 24 and a feed motor 18 after imaging the diffraction ring and the table 27 is moved in parallel with a light receiving surface of the imaging plate 28, the laser detection device PUH applies the laser beam to the imaging plate 28 and acquires a laser irradiation position when the intensity of light emitted from the imaging plate 28 becomes maximum.例文帳に追加

回折環を撮像した後、スピンドルモータ２４及びフィードモータ１８によって、テーブル２７を回転させるとともにイメージングプレート２８の受光面に平行に移動させた状態で、レーザ検出装置ＰＵＨによって、イメージングプレート２８にレーザ光を照射して、イメージングプレート２８が発する光の強度が極大となるときのレーザ照射位置を取得する。 - 特許庁

The control means 6 controls laser irradiation time by controlling the moving speed for scanning of the laser light source 2 and the transfer speed of the transfer means 4 and computes a change in the distance between the image forming medium 5 and the laser light source 2 during an image forming action on the basis of the position and shape of the image forming medium 5 sensed by the sensing means 8.例文帳に追加

制御手段６は、レーザ光源２の走査速度及び搬送手段４の搬送速度を制御することによりレーザ照射時間の制御を行うとともに、検知手段８により検知された被画像形成媒体５の位置及び形状に基づいて画像形成動作中における被画像形成媒体５とレーザ光源２との距離の変化量を算出する。 - 特許庁

This device is provided with a shift mechanism 101 which shifts a position at which one or a plurality of elements out of a element group arranged on a path in which a laser beam irradiated from a laser irradiation source 71 reaches a medium 76 and a element group arranged on a path in which the laser beam reflected from the medium 76 is detected by a detecting element 80.例文帳に追加

レーザ照射源７１から放射されたレーザ光が媒体７６に到達するまでの経路上に配置された素子群、および媒体７６から反射されたレーザ光が検出素子８０で検出されるまでの経路上に配置された素子群のうちの１つあるいは複数の素子に当該レーザ光の照射される位置を移動させる移動機構１０１を備える。 - 特許庁

A laser output P and its irradiated position are changed successively, and an optical recording medium is irradiated by a laser, and an average reflectance R of the irradiation part of the optical recording medium is measured for every successively changed laser output P, and the laser output of the output that the measured average reflectance R becomes a maximum Rmax or below is decided so as to make an erasing laser output Pe.例文帳に追加

レーザー出力Ｐとその照射位置とを逐次変化させて光記録媒体にレーザーを照射した後、逐次変化させたレーザー出力Ｐ毎に光記録媒体の照射部分の平均の反射率Ｒを測定し、測定された平均の反射率Ｒが最大Ｒmaxとなる出力以下のレーザー出力を消去用レーザー出力Ｐｅとするように決定する。 - 特許庁

The particle beam taking-out device for taking out particle beam emitted out of a particle source and for irradiation of materials in the air is provided with at least two steps of lenses for forming at least two crossovers and small holes provided at the position of crossovers for differential pumping to take out the particle beam to the air.例文帳に追加

粒子線源から放出された粒子線を大気中へ取り出して、大気中の材料を照射すための粒子線取り出し装置は、粒子線に少なくとも２つのクロスオーバーを作成するための少なくとも２段のレンズと、前記クロスオーバーの位置に設けられた差動排気のための小穴とを具備し、前記粒子線を大気中へ取り出すことを特徴とする。 - 特許庁

For an amorphous silicon film, laser irradiation is executed in the vicinity of a channel forming region or a TFT forming region including the channel forming region and a source/drain region, the TFT forming region is isolated, a metal element (represented by Ni) for promoting crystallization is added and heat processing is executed, thereby making it possible to arbitrarily define the position of the crystal aggregation (domain).例文帳に追加

非晶質シリコン膜に対して、チャネル形成領域或いはチャネル形成領域やソース及びドレイン領域等も含むＴＦＴ形成領域の周囲を選択的にレーザー照射を行い、各ＴＦＴ形成領域を孤立させて、結晶化を助長する金属元素（代表的にはＮｉ）を添加し、加熱処理を行うことにより、結晶の集合（ドメイン）の位置を任意に定める事を可能とするものである。 - 特許庁

The tilt angle signal and a focusing position signal are input and processed to vary the irradiation angle of the strobe unit to a predetermined angle.例文帳に追加

撮像した静止画像を記録媒体に記録する撮像装置であって、水平位置と上記装置本体の傾斜角度を測定し、当該傾斜角度を示す傾斜角信号を出力する傾斜角検出手段と、照射角度を自由に変更できるストロボ装置と、上記ストロボの照射角度を制御する制御装置と、上記傾斜角信号と合焦位置信号を入力として処理を行い、上記ストロボ装置の照射角度を所定の角度に変更する。 - 特許庁

To provide an excellent optical recording method capable of efficiently controlling the position of light irradiation for focusing, tracking or the like in recording or reproducing, and effectively adjusting the variation of inter-layer distances of recording layers in the recording medium and the error of optical recording and optical reproducing devices, and to provide an optical recording apparatus and an optical recording medium.例文帳に追加

本発明は、ホログラフィを利用して記録する光記録媒体に対して、記録又は再生時のフォーカスやトラッキングなどの光照射の位置制御を効率よく行い、該光記録媒体内の記録層などの層間距離のばらつきや光記録及び光再生装置の誤差などに対して、効果的に調整することができる優れた光記録方法、光記録装置及び光記録媒体の提供。 - 特許庁

The relative positional relation between a cassette 10 for detecting the radiation and the radiation source 21 is detected by a detecting means 30 and a robot arm 22 is driven to move the radiation source 21 so as to align the central axis of irradiation of the radiation radiated from the radiation source 21 to the prescribed position within the cassette 10 based on the detected relative positional relation by a moving means 40.例文帳に追加

検出手段３０により放射線検出用カセッテ１０と放射線源２１との相対的位置関係を検出し、移動手段４０により検出した相対的位置関係に基づいて、放射線検出用カセッテ１０内の所定位置に放射線源２１から照射される放射線の照射中心軸を合わせるように、ロボットアーム２２を駆動して放射線源２１を移動させる。 - 特許庁

To accurately identify line laser light in the horizontal direction and in the vertical direction on a wall surface to be marked, by defining and maintaining the horizontal and vertical state of a light-receiving element in a light receiver, and to thereby execute a marking work accurately, in a laser device for marking for receiving the line laser light irradiated horizontally or vertically, and detecting an irradiation position of the laser light.例文帳に追加

水平又は鉛直に照射されるラインレーザ光を受光し、前記レーザ光の照射位置を検出する墨出し用レーザ装置において、受光器における受光素子の水平及び鉛直状態を簡易に画定及び保持して、前記ラインレーザ光を、墨出しを行う壁面上で水平方向及び鉛直方向において正確に同定し、墨出し作業を正確に実行できるようにする。 - 特許庁

A clear polyethylene terephthalate film 50 formed with a transparent conductive film 51 at the lower face is placed on a clear polyethylene terephthalate film 41 formed with a transparent conductive film 42 and dot spaces 43 on the upper face by bonding the peripheries with an adhesive double coated tape 60 of square frame shape and sealing an air inflow port 61 in a peripheral position with an adhesive 62 hardened by UV irradiation.例文帳に追加

上面に透明導電膜４２及びドットスペーサ４３が形成してあるクリアなＰＥＴフィルム４１上に、下面に透明導電膜５１が形成してあるクリアなＰＥＴフィルム５０が、四角枠形状の両面接着テープ６０によって周囲を接着してあり、周囲の位置にある空気流入口６１がＵＶ照射されて硬化した接着剤６２でもって封止してある。 - 特許庁

The irradiation optical axis Ci of an illumination body 9 and the imaging optical axis Cp of a camera unit 4 are respectively inclined so as to become symmetric to the symmetric axis Cs passing an inspection position and a camera unit is provided to a fixed case 6 so as to be positioned on the symmetric axis while both mirrors 11a and 11b are provided to a revolving case for refracting an imaging optical axis Cp.例文帳に追加

被検査物１２の検査位置１２ａに対して照明体９の照射光軸Ｃｉ及びカメラユニット４の撮像光軸Ｃｐをそれぞれ斜めかつ検査位置を通る対称軸Ｃｓに対称になるようにし、カメラユニットを対称軸上に位置するように固定ケース６に設け、照明体を回動ケース７に固設し、撮像光軸Ｃｐを屈折させる両ミラー１１ａ・１１ｂを回動ケースに設ける。 - 特許庁

This cleaning mechanism 10 for cleaning an approximately cylindrical dispensation nozzle 20 having an aperture inside includes: a cleaning tank 40 having at least one opening part into which the dispensation nozzle 20 can be inserted, capable of storing liquid inside; and a vibrator array 41 which is an ultrasonic wave irradiation mechanism for irradiating an ultrasonic wave to be focused on a focusing position P10 inside the dispensation nozzle 20.例文帳に追加

内部に空隙を有する略筒状の分注ノズル２０を洗浄する洗浄機構１０であって、分注ノズル２０を挿入可能な少なくとも一つの開口部を有し内部に液体を貯留可能な洗浄槽４０と、分注ノズル２０の内部で集束位置Ｐ１０に集束する超音波を照射する超音波照射機構である振動子アレイ４１とを備える洗浄機構。 - 特許庁

The position sensor includes a radiation source for irradiating a radiation beam, a first lattice for diffracting the radiation beam in a first diffraction direction so as to diffract to at least one primary irradiation beam, and a second lattice, disposed in a light path of the primary diffraction beam, for diffracting the primary diffraction beam diffracted by the first lattice in a second diffraction direction actually vertical to the first diffraction direction.例文帳に追加

位置センサは、放射ビームを照射するように構成された放射源と、放射ビームを第１の回折方向に少なくとも１つの１次放射ビームに回折するように構成された第１の格子と、１次回折ビームの光路内に配置され、第１の格子で回折された１次回折ビームを、第１の回折方向に実質的に垂直な第２の回折方向に回折するように構成された第２の格子とを含む。 - 特許庁

A laser lithographic device 13, which irradiates a laser beam emitted from a laser light source 1, to draw a prescribed pattern is provided with a separating optical mechanism 2 for separating the laser beam, emitted from the laser light source, into a plurality separated beams and radiation position adjustment mechanisms 8 which are provided for the separated beams respectively and irradiate the separated beams, while changing their irradiation directions to draw the prescribed pattern.例文帳に追加

レーザー光源１から発したレーザービームを照射して所定のパターンを描写するレーザー光による描写装置１３において、前記レーザー光源１から発したレーザービームを分離させて複数の分離ビームとする分散光学機構２と、前記各分離ビームごとに設けられ、各分離ビームの照射方向を変えて照射することにより前記所定のパターンを描写する照射位置調整機構８とを備えている。 - 特許庁