「isolation technique」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To provide a technique for efficiently forming an isolation region surrounding a photoelectric conversion portion of a solid-state imaging element.例文帳に追加

固体撮像素子の光電変換部を取り囲む分離領域を効率的に形成する技術を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a semiconductor device whose reliability is improved by providing a trench isolation technique by which formation of a side product such as a nitride is prevented.例文帳に追加

窒化物などの副次的な構成物の形成を防止したトレンチ分離技術を提供し、以て信頼性を向上させた半導体装置を提供する。 - 特許庁

To form a transistor using element isolation technique such as STI, current characteristics of the transistor being superior and characteristic variance depending upon its layout being suppressed.例文帳に追加

ＳＴＩなどの素子分離技術を用いたトランジスタにおいて、トランジスタの電流特性に優れ、かつレイアウトに起因する特性ばらつきを抑制する。 - 特許庁

To provide a technique, as to a semiconductor device which is formed on an SOI substrate and in which a periphery of an element region of a semiconductor layer constituting the SOI substrate is enclosed by element isolation, capable of preventing deterioration of reliability caused by the element isolation.例文帳に追加

ＳＯＩ基板に形成され、ＳＯＩ基板を構成する半導体層の素子領域の周囲が素子分離により囲まれた半導体装置において、素子分離に起因する信頼度の低下を防ぐことのできる技術を提供する。 - 特許庁

To provide a base isolation member mounting structure which solves problems of a conventional technique, and facilitates parts exchanging work.例文帳に追加

本発明は、従来技術の持つ課題を解決し、部品の交換作業を容易に行うことのできる免震材の取付構造を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

When forming the diffusion layer region 5 separated by an element isolation region, the diffusion layer region 5 is formed separately in two stages by using a double exposure technique.例文帳に追加

素子分離領域によって分離された拡散層領域５を形成する際に、２重露光技術を用いて拡散層領域５を２段階に分けて形成する。 - 特許庁

To provide a countermeasure technique for safely and reliably transmitting supporting reaction to upper structures during work for the base isolation of a structure when installing a temporarily supporting jack or a base isolation device on a position of bias from a column to support the vertical load of the upper structures.例文帳に追加

構造物の免震化工事において、柱から偏倚した位置に仮受けジャッキ又は免震装置を設置して上部構造の鉛直荷重を支持させる場合に、その支持反力を上部構造へ安全、確実に伝達させる対策工法を提供する。 - 特許庁

To provide the marine isolation method of carbon dioxide, which is applied to a ship towage system of a marine isolation technique for dissolving/diluting a large quantity of carbon dioxide in the intermediate layer of the ocean and in which carbon dioxide is dissolved by making effective use of the intermediate layer of the ocean being a specified discharge site.例文帳に追加

多量の二酸化炭素を海洋中層へ溶解希釈させる海洋隔離技術の船舶曳航方式に適用され、指定された放出サイトの海洋中層を有効に利用して二酸化炭素を溶解させる二酸化炭素海洋隔離方法を提供すること。 - 特許庁

To control vibration applied to a building, which widely ranges from steady micro vibration such as traffic vibration and environmental vibration to earthquake motion, by integrating an active vibration control device using a piezoelectric element into a base isolation technique.例文帳に追加

免震技術に圧電素子を用いたアクティブ制震装置を組み込み、建造物に掛かる交通振動・環境振動などの定常的な微振動から地震動まで広範囲の振動を制御する。 - 特許庁

To provide vibration isolating piping technique capable of giving flexibility like a desired vibration isolating effect displayable in a piping system connecting an equipment serving as a vibration source element and an equipment serving as a vibration isolation objective element.例文帳に追加

振動源要素となる器機と防振対象要素となる器機とを繋ぐ配管系に、所望の防振効果を発揮できるような可撓性を付与することのできる防振配管技術の提供。 - 特許庁

To provide a technique for simply executing assembly of each vertical member, each lateral member, and each corner member for connecting the vertical member and the lateral member to each other with less manhours in a vibration isolation mount including the members.例文帳に追加

縦方向及び横方向部材とこれら両部材を連結するコーナー部材を備えた防振架台において、簡単に且つ少ない工数でこれらの部材の組み付けを行う技術を提供する。 - 特許庁

To prevent a short-circuit between gate electrodes in an STI technique, where gate insulating films and gate electrode material films are formed in order on a semiconductor substrate and after that, an element isolation insulating film is embedded in a groove provided on the main surface of the substrate.例文帳に追加

ゲート絶縁膜及びゲート電極材料膜を順次形成した後に素子分離絶縁膜を埋め込み形成するＳＴＩ技術においてゲート電極同士の短絡を防止すること。 - 特許庁

To provide a high-reliability device configuration by achieving secure element isolation by a simple technique minimizing the increase of processes without causing warpage in a substrate nor degrading crystallinity of a compound semiconductor layer on the upper side of the substrate.例文帳に追加

工程増を最小限とした簡便な手法で、基板に反りを生ぜしめることなく、また基板上方の化合物半導体層の結晶性を損なうことなく確実な素子分離を実現し、信頼性の高い装置構成を得る。 - 特許庁

To provide a semiconductor device capable of enhancing driving force of a transistor by reducing stress lowering the driving force of the transistor based upon stress received from an element isolation region and further employing strain silicon technique.例文帳に追加

素子分離領域から受ける応力に基づいた、トランジスタの駆動力を低下させる歪みを緩和し、さらに、歪みシリコン技術を用いることでトランジスタの駆動力を向上させることができる半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device improved so that a parasitic MOSFET may not be formed even when a Mesa type isolation technique or an STI isolating method is applied to form a MOSFET in an SOI layer.例文帳に追加

ＳＯＩ層にＭＯＳＦＥＴを形成するためにＭｅｓａ型分離技術、或いはＳＴＩ分離法を適用した場合でも、寄生ＭＯＳＦＥＴが形成されないように改良された半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a membrane separation technique enabling isolation, removal and separation of microorganisms and particulates corresponding to diameters of 15 nm or smaller, causing little clogging of pores and allowing easy application of the membrane in fields of general industry.例文帳に追加

相当直径が１５ｎｍ以下の微生物や微粒子を隔離、除去、分離、濃縮を行うことが可能で、孔の目詰りがほとんどなく、そのため膜が一般工業方面に展開も容易な膜分離技術を提供する。 - 特許庁

To provide abrasive and a polishing method that can efficiently remove and make flat the excessive film formation layer of a silicon oxide film and an embedded film, such as metal at a high level and easily control processes in a recess CMP technique, such as shallow trench isolation formation and metal embedded wiring formation, and the planarization CMP technique of an interlayer insulating film.例文帳に追加

シャロー・トレンチ分離形成、金属埋め込み配線形成等のリセスＣＭＰ技術及び層間絶縁膜の平坦化ＣＭＰ技術において、酸化珪素膜、金属等の埋め込み膜の余分な成膜層の除去及び平坦化を効率的、高レベルに、かつプロセス管理も容易に行うことができる研磨剤及び研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide isolation of an inner cell mass (ICM) by using a laser ablation technique, safe and simple and commercially practicable without using an animal-originated antibody or animal-originated serum and without carrying out difficult protocols of immunological operations.例文帳に追加

動物由来抗体または動物由来血清の使用が排除され、安全であり、簡単であり、かつ商業的に実行可能である、免疫手術の扱いにくい手順を行うことなくレーザ切除技術を使用する、内部細胞塊（ＩＣＭ）の単離を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device in which there is offered a technique capable of raising a bonding property of the semiconductor device, by forming an element isolation film and a gate line after forming a polysilicon layer for plug especially including a dopant on a semiconductor substrate, and capable of simplifying a process.例文帳に追加

本発明は半導体素子の製造方法に関し、特に半導体基板上に不純物を含むプラグ用ポリシリコン層を形成したあと、素子分離膜とゲートラインを形成して半導体素子の接合特性を向上させることができ、工程を単純化することができる技術を提供する。 - 特許庁

To provide a device and a method for machining a workpiece that allow quick and efficient machining and straightening of, for example, a workpiece such as a flange, constituting a base isolation member or the like, without requiring a skilled worker's technique, and further, achieve improvement in machining accuracy and the amount of straightening with respect to distortion and deflection of a steel material as a material to be machined compared with the conventional machining method.例文帳に追加

例えば免震部材等を構成するフランジ等のワークを熟練者の技術を必要とせず、短時間で効率的に加工・矯正することが可能であり、さらに、従来の加工方法に比べ、材料の鋼材の歪み・撓みに対する加工精度・矯正量が良好となるようなワーク加工装置およびワーク加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a technique for constructing a new beam and a new slab with high quality reliably integrated with an existing floor even in work for reinforcement at the underfloor side and performing safe reforming work such as base isolation or earthquake-proof reinforcement for an underfloor portion while keeping an overfloor portion around a column leg portion of an existing structure in an usable condition.例文帳に追加

床下側からの補強工事であっても、既存床と確実に一体化した高品質の新設梁及び新設スラブを施工でき、既存構造体の柱脚部周辺の床上部分を使用可能な状態にしておきながら、その床下部分に免震化、耐震補強などの改築工事を安全に行うことができる工法を提供する。 - 特許庁