例文 (20件) |
immersion techniqueの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 20件
To provide a technique for stably holding immersion liquid on an objective lens.例文帳に追加
浸液を対物レンズ上に安定して保持する技術を提供する。 - 特許庁
To provide a novel and useful technique to keep a final surface of a projection optical system in a liquid immersion state or to generate the liquid immersion state, in an exposure device to which a liquid immersion method is applied.例文帳に追加
液浸法を適用した露光装置において、投影光学系の最終面を液浸状態に維持し、または当該液浸状態を生成するための新規かつ有用な技術を提供する。 - 特許庁
To provide a technique for highly precisely sensing presence or absence of liquid immersion without excessively complicating the system.例文帳に追加
過度にシステムの複雑化を伴うことなく、液浸の有無を高精度に検出する技術を提供する。 - 特許庁
To provide a nitrogen absorption preventing method more effective than the conventional air infiltration preventing technique through an RH (Ruhrstahl-Heraeus) immersion tube.例文帳に追加
従来のRH浸漬管からの空気侵入防止技術より効果的な吸窒防止方法を提供する。 - 特許庁
To provide a resist composition for immersion exposure which inhibits elution into an immersion medium and does not impair the function of resist in an immersion exposure technique, has a high contact angle to the immersion medium, and is capable of forming a fine resist pattern, and a method for manufacturing a semiconductor device using the same.例文帳に追加
液浸露光技術において、液浸媒体への溶出を抑制してレジストの機能を損なわず、前記液浸媒体に対して高い接触角を有し、微細なレジストパターンを形成可能な液浸露光用レジスト組成物、及びそれを用いた半導体装置の製造方法の提供。 - 特許庁
To provide a technique for improving throughput, and the manufacturing yield of a semiconductor device in a immersion projection exposure technique using an F_2 laser.例文帳に追加
F_2レーザを用いた液浸投影露光技術において、スループットの向上および半導体装置の製造歩留まりを向上することができる技術を提供する。 - 特許庁
To provide a technique capable of maintaining a final surface of a projection optical system, in an immersed state, or in a new and useful for generating the immersion state, in an exposure apparatus that uses immersion method.例文帳に追加
液浸法を適用した露光装置において、投影光学系の最終面を液浸状態に維持し、または当該液浸状態を生成するための新規かつ有用な技術を提供する。 - 特許庁
To provide a technique for melting a Ti-containing ferritic stainless steel without clogging of immersion nozzle and obtaining a cast slab free from surface defects.例文帳に追加
Ti含有フェライト系ステンレス鋼を浸漬ノズル閉塞なく溶製し、かつ表面欠陥のない鋳片を得ることのできる技術を開発する。 - 特許庁
To provide a particle removal technique wherein in an immersion type substrate processing apparatus the working load of an operator is light and an apparatus operation rate is not lowered.例文帳に追加
浸漬型の基板処理装置において、オペレータの作業負担が軽く、装置稼動率を低下させることもないパーティクル除去技術を提供する。 - 特許庁
Solutions are described for adoption of immersion lithography technique into the optical maskless lithography, and in particular, the present invention provides one or more solutions to reduce time when a liquid for liquid immersion exposure is in contact with prescribed part of a top surface of the substrate during imaging.例文帳に追加
マスクレス光リソグラフィに液浸リソグラフィ技術を採用する場合の解決法を説明し、特に、像形成中に液浸露光用の液体が基板上面の所定部分に接触する時間を減少させる1つ以上の解決法を提供する。 - 特許庁
A substance (e.g. a coating material, a culture medium, an organic or inorganic chemical, or a natural extract) having been made easily flowable is impregnated by a technique such as immersion, permeation, or vacuum into the pores of a porous metal-sintered compact made by a powder-metallurgical technique.例文帳に追加
粉末冶金の手法により製造した、多孔質の金属焼結体の空孔部分へ流動しやすく加工した塗料、培地、有機、無機の化学品、天然抽出物等を浸漬、浸透、真空などの手法で含浸させる。 - 特許庁
To provide an immersion jig constituted so as to perform the fixing and blocking treatment of a plurality of kinds of antibodies, without requiring an advanced technique by variously changing the length of a probe for immunoassay to be immersed in a solution.例文帳に追加
溶液に浸漬させる免疫測定用プローブの長さを様々に変えることにより、高度な技術を必要とせず、複数種の抗体の固定・ブロック処理を行う。 - 特許庁
To provide a F_2 resist composition suitable for the liquid immersion lithography process which is a new lithography technique, and a resist pattern forming method using this F_2 resist composition.例文帳に追加
新たなリソグラフィー技術である液浸露光プロセスに用いて好適なF_2レジスト組成物と、このF_2レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法とを提供する。 - 特許庁
To provide an immersion lithography technique capable of removing influence of atmospheric pressure variation and dissolved gas variation of a factory facility, and of preventing micro-bubbles due to the dissolved gas and degradation of optical performance.例文帳に追加
大気圧変動や工場設備の溶存ガス変動の影響を除去し、溶存ガスによるマイクロバブルや光学性能の劣化を防ぐことができる液浸露光技術の実現。 - 特許庁
To develop a technique which prevents molten steel from picking up nitrogen by infiltration of the nitrogen in the atmosphere air from the outside of an immersion pipe of a degassing treatment device when melting extra-low nitrogen steel.例文帳に追加
極低窒素鋼を溶製するに際し、大気中窒素が脱ガス処理装置の浸漬管外部から侵入し、溶鋼が窒素をピックアップするのを防止する技術を開発する。 - 特許庁
To provide a rational adherend removing technique capable of simply and certainly removing the adherend on a wastewater immersion member immersed in wastewater in a wastewater treatment apparatus for treating wastewater.例文帳に追加
排水の処理を行う排水処理装置において、排水中に浸漬される排水浸漬部材に付着した付着物を簡便かつ確実に除去することができる合理的な付着物除去技術を提供する。 - 特許庁
The immersion step using a first tank for leaching out the heavy metal and a second tank for increasing the pH of the leached solution, accurately separates and collects the heavy metal in combination with an existing technique such as an absorption method.例文帳に追加
重金属を浸出させるための第1槽とpHを上昇させる第2槽とを用いて浸漬工程を実施することにより、吸着法などの既存技術と組み合わせて重金属を確実に分離回収することができる。 - 特許庁
To provide a technique capable of surely measuring a molten steel temperature, a coagulation temperature and a sample property, etc., for instance by accurately and surely detecting respective boundary position and thus accurately controlling an immersion depth to a molten metal layer.例文帳に追加
より精度よく且つ確実に各境界位置を検知でき、これにより溶融金属層への浸漬深さをより正確に制御することで、例えば溶鋼温度や凝固温度、サンプル性状などの測定をより確実に行うことができる技術を提供せんとする。 - 特許庁
To establish a technique capable of imparting distilled liquor, etc., such as Shochu (Japanese distilled spirit) with taste and flavor by adding a wood component to the distilled liquor in a delicately controlled manner, and to obtain an aromatic material to enjoy the fragrance even by the immersion and drawing of the wood piece immediately before drinking the liquor.例文帳に追加
焼酎等の蒸溜酒などに木材成分を微妙に制御しながら添加して風味を付与することが可能な技術を確立し、飲酒直前にその木材片の浸漬、振出処理によっても香りが楽しめるような芳香材を簡単な処理で得る。 - 特許庁
To solve the problems on a technique for improving the original performance of microphotofabrication using far ultraviolet light, EUV, electron beam or the like, particularly ArF excimer laser light; to provide an excellent actinic ray- or radiation-sensitive resin composition which in patterning by liquid immersion exposure as well as by normal exposure, suppresses development defects, can reduce line edge roughness, and ensures a wide exposure latitude; and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加
遠紫外光、EUV、電子線等、特にArFエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、通常露光さらには液浸露光によるパターニングにおいても、現像欠陥が抑制されるとともに、ラインエッジラフネスを抑制でき、さらには露光ラチチュードが広く、優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
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