「immersion line」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a resist pattern forming method which, in double patterning, can form a second resist pattern while retaining a first resist pattern without dissolving the first resist agent in the second resist agent, and which can suppress a line width variation of the first resist pattern and is suitably adopted even for a liquid immersion exposure process.例文帳に追加

ダブルパターニングにおいて、第二のレジスト剤に第一のレジスト剤が溶解することなく、第一のレジストパターンを保持したまま第二のレジストパターンを形成することができ、更には第一のレジストパターンの線幅変動を抑制することができ、液浸露光プロセスにも好適に採用されるレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a resist material having high sensitivity and high resolution to high energy-beam exposure, small line-edge roughness because of controlled swelling at the time of development, small residual dross after development, excellent dry etching resistance, and suitably usable also for liquid immersion lithography, and provide a method for forming patterns by using the resist material.例文帳に追加

レジスト材料であって、高エネルギー線での露光において、高感度で高解像性を有し、また、現像時の膨潤が抑えられるためラインエッジラフネスが小さく、現像後の残渣が少なく、優れたドライエッチング耐性を有し、また、液浸リソグラフィーにも好適に用い得るレジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In the immersion nozzle for continuously casting the steel, the powder line part (No.1 part in Figure 1) in contact with a nozzle-mold powder is constituted of the refractory containing ≥80 wt.% MgO-Al2O3 base spinel raw material, ≤20 wt.% carbon raw material and ≤10 wt.% the balance.例文帳に追加

鋼の連続鋳造用浸漬ノズルにおいて、ノズルモールドパウダーと接するパウダーライン部（図１の符号“１”の部分参照）を、ＭｇＯ−Ａｌ_2Ｏ_3系スピネル原料：８０重量％以上、炭素原料：２０重量％以下、その他：１０重量％以下を含有する耐火材料で構成した鋼の連続鋳造用浸漬ノズル。 - 特許庁

To provide a sewing cloth obtained by a method by crushing weathered reef-building coral particles to a uniform size, mixing the coral particles together with various additives to water, stirring the mixture to form a mixed liquid, charging the mixed liquid into an immersion tank and uniformly dispersing and applying the coral particles to the sewing line of the cloth to fix the coral particles together with the additives.例文帳に追加

風化造礁珊瑚粒子を均一な大きさに粉砕し、該珊瑚粒子を各種添加剤と共に水と配合、撹拌して混合液を提供し、しかる後、該混合液を浸漬槽に入れ、縫製布地の糸目に珊瑚粒子を均一に分散塗布して該添加剤と共に珊瑚粒子を定着させる方法を提供する。 - 特許庁

The anticlouding cover is coated with a hydrophilic composition on at least one side of the substrate, and the surface of the coating layer has a contact angle of ≤15° before and after 500-hour immersion in water at 30°C and a center line average roughness Ra of 1.0-5.0 nm.例文帳に追加

基材の少なくとも片面上に親水性組成物をコーティングした防曇性カバーであり、該コーティング層表面は、３０℃の水に５００時間浸漬させる前及び浸漬させた後のいずれも水に対する接触角が１５°以下であり、かつ中心線平均粗さＲａが１．０ｎｍ〜５．０ｎｍであることを特徴とする防曇性カバー。 - 特許庁

In the method for operating the vacuum-degassing vessel using the bricks on the inner wall in the vacuum-degassing vessel composed of the upper vessel, the lower vessel and the immersion tubes, in the case of continuously operating the vacuum degassing vessel at on-line position, the lowest temperature in the brick using portion in the vacuum-degassing vessel is adjusted to in the range of 800-1,400°C.例文帳に追加

上部槽、下部槽、浸漬管からなる真空脱ガス槽の内壁にレンガを用いた真空脱ガス槽の操業方法であって、前記真空脱ガス槽がオンライン位置にて連続稼働中に、該真空脱ガス槽内のレンガ使用部位の最低温度を８００〜１４００℃の範囲に調整することを特徴とする真空脱ガス槽の操業方法。 - 特許庁

To solve the problems on a technique for improving the original performance of microphotofabrication using far ultraviolet light, EUV, electron beam or the like, particularly ArF excimer laser light; to provide an excellent actinic ray- or radiation-sensitive resin composition which in patterning by liquid immersion exposure as well as by normal exposure, suppresses development defects, can reduce line edge roughness, and ensures a wide exposure latitude; and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

遠紫外光、ＥＵＶ、電子線等、特にＡｒＦエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、通常露光さらには液浸露光によるパターニングにおいても、現像欠陥が抑制されるとともに、ラインエッジラフネスを抑制でき、さらには露光ラチチュードが広く、優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

At a boundary from a space configured to include an immersion fluid to a region external to the fluid handling structure, the fluid handling structure successively has an extractor having at least one opening arranged in a first line that, in use, is directed towards a substrate and/or a table and a liquid manipulator on a surface that, in use, faces the substrate and/or table to reduce the chance of droplets on the surface from coalescing.例文帳に追加

流体ハンドリング構造は、流体ハンドリング構造の外部領域に液浸流体を備えるように構成された空間の境界に、使用時に基板および／またはテーブルの方に向けられる第１ラインに配置される少なくとも一つの開口を備える抽出器と、使用時に基板および／またはテーブルと対向する表面上にあり、表面上の液滴が合体する可能性を低下させる液体マニピュレータと、を連続的に備える。 - 特許庁