「immersion line」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The refractory is arranged to the body part of the immersion nozzle or the semi-nozzle except for the powder line.例文帳に追加

この耐火物を、浸漬ノズル又はセミノズルのパウダーライン部を除く本体部に配設した鋼の連続鋳造用ノズル。 - 特許庁

To provide an immersion microscope objective lens that has long operation distance and has sufficiently corrected aberrations in a wide wavelength region (substantially h-line to t-line).例文帳に追加

作動距離が長く、広波長域（おおよそｈ線〜ｔ線）にわたり諸収差が良好に補正された、液浸系顕微鏡対物レンズを提供する。 - 特許庁

Wherein, θ is the angle forming the charging direction of the molten steel with the perpendicular line to the short side walls of the mold from the center axis of the immersion nozzle and θM is the angle forming the perpendicular line to the short side walls of the mold from the center axis of the immersion nozzle with the diagonal line on the plane cross section of the mold.例文帳に追加

０＜θ＜θＭ …（１） ここで、θ ： 溶鋼の吐出方向と浸漬ノズルの中心軸から鋳型の短辺壁面に下ろした垂線とのなす角度θ、 θＭ： 浸漬ノズルの中心軸から鋳型の短辺壁面に下ろした垂線と鋳型の平断面での対角線とのなす角度 - 特許庁

To provide an immersion lithography device by which track processing is simplified, and the size uniformity of relatively thin line width is improved.例文帳に追加

トラック処理を単純化し、より細い線幅の寸法均一性を向上できる液浸リソグラフィ装置を提供する。 - 特許庁

The refractive index to the d line of the plano-convex lens is smaller than that of the immersion liquid by 0.035 or more.例文帳に追加

平凸レンズのｄ線に対する屈折率が、浸液のｄ線に対する屈折率よりも０．０３５以上小さい。 - 特許庁

To provide a positive resist composition that is improved in line edge roughness by normal exposure and liquid immersion exposure and exhibits excellent conformability to water in liquid immersion exposure, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

通常露光及び液浸露光によるラインエッジラフネスが改善され、液浸露光時に於ける水追随性に優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a positive resist composition with improved line edge roughness due to normal exposure and immersion exposure and excellent followability to water during immersion exposure, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

本発明により、通常露光及び液浸露光によるラインエッジラフネスが改善され、液浸露光時に於ける水追随性に優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

The second coil 35a surrounds the pipe line of the immersion pipe 39, and is provided in a position nearer to one end than the first coil 35b.例文帳に追加

第２コイル３５ａは、浸水用配管３９の管路を囲み、第１コイル３５ｂよりも一端に近い位置に設けられる。 - 特許庁

In the continuous casting method using the immersion nozzle, the horizontal cross sectional shape of the outer shape of the immersion nozzle 1A disposed below the molten metal surface in a mold or the outer shape of a straightening plate 1B fitted to the immersion nozzle is formed asymmetrically with respect to the center line 11 in the longitudinal direction of the mold.例文帳に追加

浸漬ノズルを用いた連続鋳造方法において、鋳型内湯面下における浸漬ノズル１Ａの外形または浸漬ノズルに取り付けた整流板１Ｂの外形の水平断面形状を鋳型長手方向の中心線11に対して非対称形状とした。 - 特許庁

In the immersion nozzle, refractories obtained by forming zirconium carbide on the surfaces of zirconium oxide raw material grains are applied to powder line parts 2.例文帳に追加

酸化ジルコニウム原料粒子表面に炭化ジルコニウムを生成させた耐火物を浸漬ノズルのパウダーライン部２に適用した浸漬ノズル。 - 特許庁

To provide a resist which excels in various performances such as exposure latitude and line edge roughness, undergoes smaller degradation of the sensitivity even when applied to immersion exposure as compared with degradation in dry exposure, and ensures very little leaching of an acid in an immersion liquid.例文帳に追加

露光ラチチュードやラインエッジラフネス等の諸性能にすぐれ、さらに液浸露光に適用してもドライ露光時に比較して感度の劣化が小さく液浸液への酸の溶出が極めて少ないレジストを提供する。 - 特許庁

To provide an immersion nozzle which is used for continuous casting of steel and has remarkably increased erosion resistance in a slag line portion of the nozzle.例文帳に追加

鋼の連続鋳造に用いられる浸漬ノズルであって、該ノズルの“スラグライン部の耐食性”が大幅に向上した浸漬ノズルを提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which is excellent in line edge roughness in normal exposure and liquid immersion exposure and with which the variation of the line width caused by time delay between exposure-PEB is reduced; and a method for forming a pattern using the same.例文帳に追加

通常露光時及び液浸露光時に於ける、ラインエッジラフネスに優れ、且つ、露光−ＰＥＢ間の引き置きによる線幅の変動が低減されたポジ型レジスト及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In the liquid immersion lithographic device, a liquid removing device is configured so as to remove the liquid from the substrate through a plurality of slender slots disposed along a line and also having an angle to the line, for example during exposure.例文帳に追加

液浸リソグラフィ装置内で、液体除去デバイスが、例えば露光中に、線に沿って配置され且つその線に対して角度がある複数の細長いスロットを通して、基板から液体を除去するように構成される。 - 特許庁

To provide a resin forming a resist pattern prevented from the occurrence of defects of a resist film in liquid-immersion exposure, and having excellent line edge roughness and top shape.例文帳に追加

液浸露光の際にレジスト膜の欠陥発生を抑制でき、さらにラインエッジラフネス及びトップ形状に優れたレジストパターンを形成できる樹脂を提供すること。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that has improved performance of Line Width Roughness and Depth of Focus and also adapted to a liquid immersion process with a line width of ≤45 nm, and to provide a pattern forming method employing the same.例文帳に追加

ラインウィズスラフネス、デプスオブフォーカスの性能が改良され、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスにも適合した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To achieve a radical structure of a silicon thin line optical waveguide equivalent to that obtained by electronic beam exposure technology or liquid-immersion ArF excimer stepper technology, even if using a stepper, such as an i-line stepper or the like, having low resolution.例文帳に追加

本発明の課題は、ｉ線ステッパ等解像度が低いステッパを用いても電子ビーム露光技術あるいは液浸ArFエキシマーステッパ技術によると同等のシリコン細線光導波路の先鋭構造を実現することである。 - 特許庁

To provide an exposure/development method featuring high resolution and high line width precision on the surface, which is capable of removing watermarks and spots produced at the time of liquid immersion exposure without doing damage to resist.例文帳に追加

液浸露光時に生じるウォーターマークやシミをレジストにダメージを与えることなく除去して、解像度及び面内の線幅精度の高い露光・現像方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition enabling a pattern to be formed, the pattern having improved line width roughness, remedied development defects and pattern collapse and exhibiting good conformability to an immersion liquid in immersion exposure, and to provide a resist film and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

ラインウィズスラフネス、現像欠陥並びにパターン倒れが改善され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるパターンを形成することが可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an active light sensitive or radiation sensitive resin composition and a method of forming a pattern using the resin composition improved in line edge roughness, BLOB defects and generation of scum, and having good conformability to an immersion liquid in immersion exposure.例文帳に追加

ラインエッジラフネス、ＢＬＯＢ欠陥、並びにスカムの発生が改良され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジストパターンを形成することが可能な感活性光線性または感放射線性樹脂樹脂組成物、及び該樹脂組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resist composition for forming a resist pattern that has remedied collapse of the resist pattern, line edge roughness and generation of scum and that has little degradation in the profile and good follow-up property to an immersion liquid during immersion exposure, and to provide a pattern forming method using the photosensitive resist composition.例文帳に追加

レジストパターンの倒れ、ラインエッジラフネス、並びにスカムの発生が改良され、プロファイルの劣化も少なく、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジストパターンを形成することが可能な感光性レジスト組成物、及び該感光性レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a resist composition that forms a resist pattern improved in the collapse of the resist pattern, line edge roughness and the generation of scum, less liable to the deterioration of the profile, and having good conformability to an immersion liquid in immersion exposure; and to provide a pattern forming method using the resist composition.例文帳に追加

レジストパターンの倒れ、ラインエッジラフネス、並びにスカムの発生が改良され、プロファイルの劣化も少なく、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジストパターンを形成することが可能なレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive type photosensitive composition improved in a LWR, an exposure latitude and an MEEF, and fit to a liquid immersion process, of 45 nm of line width, and to provide a pattern forming method which use the composition.例文帳に追加

ＬＷＲ、露光ラチチュード、ＭＥＥＦが改良され、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスに適合したポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

Regarding the catchment block 1 for an immersion type flat membrane unit composed in this way, a suction space is made wide since the respective holes 5 are composed, so as to be two line staggered layout, its suction function can be improved.例文帳に追加

このように構成された平膜浸漬ユニット用集水ブロック１は、各受入れ穴５が二列の千鳥配置に構成されたことから、吸引空間が広くなるので吸引機能を向上できる。 - 特許庁

In this case, since the specific density of this ultrasonic capsule 1 is larger than the degassed water, the ultrasonic capsule 1 is prevented from staying under a state of floatation as shown by an alternate long and short dash line, and is placed under a state of immersion by sinking in the degassed water 25.例文帳に追加

このとき、超音波カプセル１の比重が脱気水の比重より大きいので、一点鎖線に示すように浮かんだままの状態になることなく、脱気水２５内を沈降して水没した状態になる。 - 特許庁

To provide a roof side structure of a vehicle body which prevents the storage of an electro-deposition liquid and a cleaning liquid adhered in immersion treatment in a vehicle body coating line while enhancing occupant safety by securing high rigidity.例文帳に追加

高い剛性を確保して乗員の安全性を向上させつつ、車体塗装ラインでの浸漬処理にて付着した電着液や洗浄液を貯留してしまうこともない車体のルーフサイド構造を提供する。 - 特許庁

To provide a composition for a topcoat which gives a highly fine and highly accurate pattern, especially in immersion lithography, by photolithography using a high-energy line or an electron beam which is an electromagnetic wave with a wavelength of 300 nm or less.例文帳に追加

波長３００ｎｍ以下の電磁波である高エネルギー線または電子線を用いたフォトリソグラフィーにより、特に液浸リソグラフィーにて、極めて微細且つ高精度なパターンを与えるトップコート用組成物を提供する。 - 特許庁

Employing this immersion nozzle, the continuous casting is performed as the distance h from the discharge opening upper end to a powder line is 50-400 mm, and inert gas, for example, the flow rate M of Ar gas is 5-401/min.例文帳に追加

この連続鋳造用浸漬ノズルを使用し、吐出孔上端からパウダーラインまでの距離ｈを「50〜400ｍｍ」とし、かつ不活性ガス、例えばＡｒガスの流量Ｍを「5〜40リットル/min」として連続鋳造すること。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, capable of forming a resist pattern improved in the elution of a generated acid, line edge roughness, development defects and generation of scums, less liable to profile degradation, and having proper conformability with an immersion liquid in immersion exposure, and to provide a pattern forming method that uses the composition.例文帳に追加

発生酸の溶出、ラインエッジラフネス、現像欠陥、スカムの発生が改良され、プロファイルの劣化も少なく、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジストパターンを形成することが可能な感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition capable of pattern formation that is improved in the pattern collapse, line edge roughness and scum occurrence, being free from any profile deterioration, and that exhibits appropriate following properties for the liquid for liquid immersion at the stage of liquid immersion exposure, while improving performance of reducing bubble defects, and to provide a method of forming a pattern with the use of the composition.例文帳に追加

現像欠陥、ラインウィズスラフネス、スカムの発生が抑制され、パターン形状に優れたパターンを形成することが可能で、更に液浸露光時の液浸液に対する追随性が良好であり、バブル欠陥抑制の諸性能も良好な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

Refractory material composed of <5 mass% C (graphite), 4-25 mass% BN (boron nitride) and 75-96 mass% ZrO_2 (zirconia) is used as a refractory material 1 in the slag line of the immersion nozzle for the continuous casting of steel.例文帳に追加

本発明品ノズルのスラグライン部の耐火材料１として、Ｃ(黒鉛)：５質量％未満，ＢＮ(窒化硼素)：４〜２５質量％，ＺｒＯ_２(ジルコニア)：７５〜９６質量％からなる耐火材料を用いた鋼の連続鋳造用浸漬ノズル。 - 特許庁

By controlling the increase or decrease of immersion depth of the volume-increasing member 40 by means of the vertically driving device 50 upon the changeover of line operation, the apparent liquid amount of a liquid bath is allowed to increase or decrease and the liquid level of liquid bath is vertically displaced quickly.例文帳に追加

ライン運転の切替えに際して昇降駆動装置(50)で増容部材(40)の浸漬深さを増減調節することにより、液浴の見掛けの液量を増減変化させて液浴の液面レベルを迅速に昇降変位させる。 - 特許庁

To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition which improves LWR, development defects and DOF and is adapted to a liquid immersion process with a line width of ≤45 nm, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

ＬＷＲ、現像欠陥及びＤＯＦが改良され、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスに適合した感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which can provide good pattern shape and line-edge roughness in normal exposure (dry exposure), liquid immersion exposure and double exposure, a pattern-forming method using the photosensitive composition, and a compound used in the photosensitive composition.例文帳に追加

通常露光（ドライ露光）、液浸露光、二重露光において、パターン形状、ラインエッジラフネスが良好である、感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に用いられる化合物を提供する。 - 特許庁

To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which has improved DOF (Depth Of Focus), storage stability, resolution and pattern features and suitable even for a liquid immersion process for a line width of not more than 45 nm, and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

ＤＯＦ、保存安定性、解像性、パターン形状が改良され、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスにも適合した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The mold powder having <3 wt.% fluorine content and 4-10,000 poise viscosity at 1,300°C, and a material constituting a powder line part in contact with the mold powder layer and a material constituting a main body part of the immersion nozzle, are combinedly used.例文帳に追加

フッ素量が３重量％未満でかつ１３００℃の粘度が４ポイズ以上１００００ポイズ以下のモールドパウダーと、浸漬ノズルのモールドパウダー層と接するパウダーライン部を構成する材料および本体部を構成する材料とを組み合わせて用いる。 - 特許庁

To solve a problem of a shrinking wire, a short circuit, or line width failure due to variation of micro gap immersion property of an etching solution occurred while forming a micro wiring, without using a high-precision etching mask forming facility.例文帳に追加

高精度なエッチングマスク形成設備を使用せずに微細配線形成で発生するエッチング液の微細間隙侵入性のばらつきによる配線の細りや短絡不良やエッチング時の基板の面内で発生するライン幅精度不良を解決する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition which ensures a good pattern profile and good line edge roughness in normal exposure (dry exposure) and immersion exposure, a pattern forming method using the positive photosensitive composition, and to provide a compound used for the positive photosensitive composition.例文帳に追加

通常露光（ドライ露光）、液浸露光において、パターン形状、ラインエッジラフネスが良好である、ポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該ポジ型感光性組成物に用いられる化合物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which improves pattern rectangularity in addition to LWR for a line-and-space pattern, as well as circularity for a contact hole pattern and circularity holding capability for a narrow pitch pattern, suitable for liquid immersion process for a line width of 45 nm or less; and a pattern formation method using the same.例文帳に追加

本発明の目的はラインアンドスペースパターンでのＬＷＲに加え、パターン矩形性を改良し、またコンタクトホールパターンでの円形性や狭ピッチでの真円性保持能力が改良され、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスに適合した感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することである。 - 特許庁

To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition adaptable to a normal dry process as well as an immersion process, having excellent sensitivity, and reducing LWR (line width roughness) and blob defects, and to provide a resist film and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

通常のドライプロセスに加え、液浸プロセスにも適合した、感度に優れ、ＬＷＲ及びブロッブ欠陥が低減された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To prevent crack caused at firing by integrally forming zirconia-graphite material at a powder line part and a material containing a clinker contained of CaO as a mineral phase at the other portion, in a continuous casting immersion nozzle for preventing the alumina deposition.例文帳に追加

アルミナ付着防止を目的とする連続鋳造用の浸漬ノズルで、パウダーライン部のジルコニア・黒鉛材質と、その他の部分の鉱物相としてのＣａＯを含有するクリンカーを含む材質を一体成形して焼成した際に発生する亀裂を防止すること。 - 特許庁

Therefore, even if the jacket 11 comes into contact with the high temp. molten steel, the jacket is not melted and the erosion at the slag line corresponding portion 5 caused by the reaction with the slag component is not caused, thus the immersion nozzle can be used for long time and can deal with the request of the high durability.例文帳に追加

従って、ジャケット１１が高温度の溶鋼に接しても溶解することがないとともに、スラグ成分と反応してスラグライン相当部分５が溶損することがなく、長時間の使用に耐えることができ、高耐用性の要請に応えることができる。 - 特許庁

To provide a novel acid generator which has excellent resolution and line width roughness in a chemically amplified resist composition, and has less effluence into water in ArF immersion processes, and also to provide a production method for synthesizing intermediate substances used in the production of the acid generator.例文帳に追加

化学増幅型レジスト組成物において、優れた解像度とライン幅ラフネスを有し、ＡｒＦ液浸工程において水への溶出の少ない新規な酸発生剤およびその製造時に用いられる中間物質を合成する製造方法を提供。 - 特許庁

To raise a controllability of a line width of a pattern, while reducing a developing defect, in case of forming a protective film of a water repellent property on a substrate an which a resist film is formed, and performing a development processing to the substrate after forming a liquid layer on a front surface of the protective film and carrying out an oil immersion exposure.例文帳に追加

レジスト膜が形成された基板の上に撥水性の保護膜を形成し、その表面に液層を形成して液浸露光した後の基板に現像処理を行うにあたって、現像欠陥を低減させると共にパターンの線幅の制御性を向上させること。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition suitable not only to a normal dry process but also to an immersion process for a line width of 45 nm or less and improved in the DOF, pattern collapse and iso/dense bias, and to provide a resist film and a pattern forming method each using the composition.例文帳に追加

通常のドライプロセスに加え、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスにも適合した、ＤＯＦ、パターン倒れ、及び疎密依存性が改良された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁