「mass concentration」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

This method for storing a glycerol solution containing ascorbic acid in concentration of ≥13 mass% at a low temperature of 0 to -30°C.例文帳に追加

アスコルビン酸濃度が１３質量％以上のグリセリン溶液を０℃〜−３０℃で保管する低温保存方法 - 特許庁

When a mass concentration part 28e collides, a particle 11 ascends along the surface of the inclined wall 71a.例文帳に追加

質量集中部２８ｅが衝突したとき、粒子１１は傾斜壁７１ａの面に沿って上昇する。 - 特許庁

It is preferable that the Sn concentration of the amorphous transparent conductive film is 1-5 mass% in SnO_2 conversion.例文帳に追加

ここで、非晶質透明導電膜のＳｎ濃度は、ＳｎＯ_２換算で１〜５質量％であることが好ましい。 - 特許庁

Further, the yield of the zinc oxide single crystal is improved by using the zinc oxide raw material having nitrogen concentration of ≤300 mass ppm.例文帳に追加

更に、窒素濃度が３００mass ppm以下の酸化亜鉛原料を用いることにより収率がより改善される。 - 特許庁

The solvent of the solution liquid of the organic coloring matter is alcohol and the concentration of the organic coloring matter is made at 0.1-1.0 mass %.例文帳に追加

有機色素溶解液の溶媒がアルコールであり、有機色素の濃度が０．００１〜１．０質量％にした。 - 特許庁

The raw sea urchin is soaked in a preservation treatment liquid comprising an aqueous solution containing chitosan in a concentration of 0.30 mass% or higher.例文帳に追加

キトサンを０．３０質量％以下の濃度で含む水溶液からなる保存処理液に生ウニを浸漬する。 - 特許庁

The iron-containing solution is preferably a ferrous chloride solution having an iron concentration of 5-25 mass%.例文帳に追加

また、鉄を含有する溶液は、鉄濃度が５〜２５質量％の塩化第一鉄溶液とすることが好ましい。 - 特許庁

Further, the total concentration of the rare metal contained in the molten copper phase, is desirable to be ≥1 mass%.例文帳に追加

また、溶銅相に含有される希少金属の合計濃度が１質量％以上であることが好ましい。 - 特許庁

Places for adding the agent are preferably a plurality of flowing places each having a pulp concentration of ≤10 mass%.例文帳に追加

上記薬剤の添加箇所をパルプ濃度１０質量％以下の複数の流動箇所であることが好ましい。 - 特許庁

In the polishing pad cleaning process, a pad cleaning liquid having organic acid concentration of 0.5-10.0 mass% is used.例文帳に追加

研磨パッド洗浄プロセスにおいて、有機酸濃度が０．５〜１０．０質量％のパッド洗浄液を用いる。 - 特許庁

There is provided the alkali protease-producing microorganism belonging Bacillus and growing in a liquid culture medium having glycine concentration of ≥1 mass%.例文帳に追加

グリシン濃度１質量％以上の液体培地で生育可能なバチルス属に属するアルカリプロテアーゼ生産菌。 - 特許庁

The phosphor is a solid solution of Al and Eu in the crystal of an oxynitride having a β-type Si_3N_4 crystal structure, and an oxygen concentration in the crystal is 0.1 mass% or more and less than 0.4 mass%, while an Eu concentration in the crystal is 0.5-4 mass%.例文帳に追加

β型Ｓｉ_３Ｎ_４結晶構造を有する酸窒化物の結晶中に、ＡｌとＥｕとが固溶してなり、結晶中に含まれる酸素濃度が０．１質量％以上０．４質量％未満であり、かつ、結晶中のＥｕ濃度が０．５〜４質量％である蛍光体。 - 特許庁

The present surface modifier for the hardened cementitious body comprises an aqueous solution containing 1 mass% to saturation concentration alkali metal hydrogen carbonate and/or an alkali metal carbonate, 5 mass% to saturation concentration water retention agent, and 0.3 to 0.7 mass% thickening agent.例文帳に追加

本発明のセメント質硬化体の表面改質剤は、アルカリ金属炭酸水素塩及び／又はアルカリ金属炭酸塩を１質量％〜飽和濃度と、保水剤を５質量％〜飽和濃度と、増粘剤を０．３〜０．７質量％とを含む水溶液からなるものである。 - 特許庁

Since an Al amount is controlled, problems that a siliconizing rate varies and an effective Si concentration gradient is not obtained in a plate thickness direction are solved to obtain the unidirectional electromagnetic steel plate having an average Si concentration of 5.5 to 7 mass% on a steel plate surface and an average Si concentration of 3 to 5.5 mass% in the center of the plate thickness.例文帳に追加

Al量が制御されているため、浸珪速度が変動したり、板厚方向に有効なSi濃度勾配を実現できないという問題が解消され、鋼板表面の平均Si濃度が5.5〜7mass%、板厚中心の平均Si濃度が3〜5.5mass%である一方向性電磁鋼板が得られる。 - 特許庁

It is preferable that as for the tough pitch copper, a total of trace elements except oxygen and silver be 25 mass ppm or less and a sulfur concentration be 10 mass ppm or less.例文帳に追加

該タフピッチ銅については酸素および銀を除く微量元素の合計が２５質量ppm以下であること、硫黄濃度が１０質量ppm以下であることが好ましい。 - 特許庁

The mass/concentration dual-purpose sensor outputs a resonance frequency of a quartz oscillator, and a dissociation constant measuring device can calculate the mass from transition of the frequency.例文帳に追加

質量濃度兼用センサは水晶振動子の共振周波数を出力し、解離定数測定装置はこの周波数の遷移から質量を算出することができる。 - 特許庁

Vapor process silica is dispersed at a solid concentration of ≥20 mass% using a water-soluble zirconium compound having pH of <3 in the state of a 5 mass% aqueous solution.例文帳に追加

５質量％水溶液の状態でｐＨ３未満の水溶性ジルコニウム化合物を用いて、固形分濃度が２０質量％以上の気相法シリカが分散されている。 - 特許庁

The sorbitol concentration of the soup is preferably 60-80 mass%, in a case for producing seasoned konjak, or 1-10 mass% in a case for produced seasoned steamed fish paste.例文帳に追加

煮汁のソルビット濃度は、味付コンニャクを製造する場合、６０乃至８０質量％が、味付かまぼこを製造する場合、１乃至１０質量％が好ましい。 - 特許庁

The protective layer is to be made from MgO containing Sc, and moreover, a concentration of the Sc to the MgO is to be 10 mass ppm or more and 525 mass ppm or less.例文帳に追加

本発明では、Ｓｃを含むＭｇＯからなる保護層とし、さらに、ＭｇＯに対するＳｃ濃度を１０質量ｐｐｍ以上５２５質量ｐｐｍ以下とする。 - 特許庁

The mass spectrometer ionizes the sample, separates according to a ratio of the mass number to electric charge for detecting the concentration of the methylene chloride below 1 ppm.例文帳に追加

質量分析装置は、試料をイオン化し、質量数と電荷との比によって分離・検出する装置であり、塩化メチレン濃度を１ｐｐｍ以下で検出することができる。 - 特許庁

In stead of adding tungsten to the anode active material, a tungsten concentration in a lead alloy as an anode grid is made to be 0.00003 mass% to 0.005 mass%.例文帳に追加

負極活物質にタングステン添加することに替えて、負極格子としての鉛合金中のタングステン濃度を０．００００３質量％〜０．００５質量％とする。 - 特許庁

In soldering by the reflow method using Sn-Ag-Cu based Pb-free Sn solder alloy, the concentration of Ag is controlled to more than 3.8 mass% to 4.2 mass% or less and that of Cu is controlled to 0.8 to 1.2 mass% during soldering in the solder bath.例文帳に追加

Sn-Ag-Cu系の鉛フリーSn基はんだ合金を用いてリフロー法ではんだ付けをする際に、はんだ浴のAg濃度を3.8 質量％超4.2 質量％以下、Cu濃度を0.8 〜1.2 質量％に管理しながらはんだ付けを行う。 - 特許庁

In soldering by the reflow method using Sn-Ag-Cu based Pb-free Sn solder alloy, the concentration of Ag is controlled to more than 3.8 mass% and 4.2 mass% or less and that of Cu is controlled to 0.8-1.2 mass% during soldering in the solder bath.例文帳に追加

Sn-Ag-Cu系の鉛フリーSn基はんだ合金を用いてリフロー法ではんだ付けをする際に、はんだ浴のAg濃度を3.8 質量％超4.2 質量％以下、Cu濃度を0.8 〜1.2 質量％に管理しながらはんだ付けを行う。 - 特許庁

Each of an outer lace 4 and an inner lace 5 is formed of alloy steel which contains 0.68 to 0.88 mass% of C, 0.01 to 0.15 mass% of Si, 0.2 to 0.7 mass% of Mn, and 0.3 to 0.7 mass% of Cr, and has an oxygen concentration of 15 ppm or below.例文帳に追加

外輪、内輪各レース４、５を、Ｃを０．６８〜０．８８質量％、Ｓｉを０．０１〜０．１５質量％、Ｍｎを０．２〜０．７質量％、Ｃｒを０．３〜０．７質量％含有すると共に、酸素濃度が１５ｐｐｍ以下である合金鋼製とする。 - 特許庁

This method is characterized by measuring a metabolite concentration of 1-nitropyrene in urine by using LC-MS/MS(Liquid Chromatography-Mass Spectrometry/Mass Spectrometry) analysis method with the biomarker formed by taking into a body, nitropolycyclic aromatic hydrocarbons (NPAHs) which is one of environmental pollutants.例文帳に追加

環境汚染物質の１つであるニトロ多環芳香族炭化水素類（ＮＰＡＨｓ：Nitropolycyclic aromatic hydrocarbons）が体内に取り込まれた生体指標として、ＬＣ−ＭＳ／ＭＳ（Liquid Chromatography - Mass Spectrometry / Mass Spectrometry）分析法を用いて尿中の１−ニトロピレン（1-Nitropyrene）の代謝物濃度を測定することを特徴とする。 - 特許庁

The disinfecting solution has a pH of from 0.6 to 7 and comprises (a) hydrogen peroxide in a concentration of from 0.01 to 6 mass% and (b) benzylalcohol in a concentration of from 0.01 to 8 mass%, all based on the total weight of the solution.例文帳に追加

０．６〜７のｐＨを有し、（ａ）溶液の全質量ベースで０．０１〜６質量％の濃度の過酸化水素と、（ｂ）溶液の全質量ベースで０．０１〜８質量％の濃度のベンジルアルコールを含む殺菌用水溶液。 - 特許庁

To provide a method and a device for measuring mass concentration of a soot aggregate in combustion exhaust gas capable of simply measuring the mass concentration of soot particles in an exhaust gas flow in real time on a theoretical basis.例文帳に追加

排気流中のすす粒子の質量濃度を理論的根拠に基づいて実時間で且つ簡便に測定することができる燃焼排気中のすす凝集体の質量濃度測定方法及び装置を提供する。 - 特許庁

Electrogalvanizing is performed after cleaning a steel sheet in a pretreatment step using a pickling agent containing sulfuric acid of 5 to 25 mass% concentration and colloidal silica of 1 to 10 mass% concentration and 4 to 200 nm average particle size.例文帳に追加

前処理工程で、濃度が５〜２５質量％の硫酸と、濃度が１〜１０質量％で、平均粒子径が４〜２００ｎｍのコロイダルシリカを含む酸洗剤で鋼板を洗浄した後に、電気亜鉛めっきを行うようにしたのである。 - 特許庁

To realize high analytic accuracy by concurrently measuring a mass concentration of SPM and a concentration of THC on a real time basis by using a single device.例文帳に追加

単一の装置を用いてＳＰＭの質量濃度とＴＨＣの濃度を同時かつリアルタイムに測定して高い分析精度を実現することができるようにする。 - 特許庁

To stably produce a large quantity of high concentration tin oxide ITO sintered compacts having high density of ≥7.0 g/cm^3even when the concentration of tin oxide is 20 to 50 mass%.例文帳に追加

酸化錫濃度が２０〜５０質量％であっても、７．０ｇ／ｃｍ^3以上という高密度の高濃度酸化錫ＩＴＯ焼結体を安定して多量に生産する。 - 特許庁

To efficiently desiliconizing molten iron by restraining decarburizing reaction even in a extra-low silicon concentration range where the silicon concentration in the molten iron is ≤0.1 mass%.例文帳に追加

溶銑中の珪素濃度が０．１質量％以下の極低珪素濃度域においても、溶銑の脱炭反応を抑制して溶銑を効率良く脱珪処理する。 - 特許庁

Some cases are shown that the ammonia compound is ammonium sulfate and the ammonium sulfate concentration is one equivalent or more in molar ratio with respect to the rhenium mass-concentration.例文帳に追加

該アンモニア化合物が、硫酸アンモニウムである態様、硫酸アンモニウム濃度がレニウム質量濃度に対して、モル比で１当量以上である態様、などが挙げられる。 - 特許庁

In the quantitative method for blood concentration of terpene, the terpene contained in the blood is detected by a mass spectrometer, and the blood concentration of the terpene in the blood is quantitatively determined.例文帳に追加

血液に含まれるテルペンを質量分析計で検出して、血液におけるテルペンの血中濃度を定量することを特徴とするテルペンの血中濃度定量方法。 - 特許庁

A composition containing a first semiconductor powder doped with a dopant at a concentration higher than a prescribed concentration and a second semiconductor powder which is undoped or doped with the dopant at a concentration lower than the prescribed concentration, at a ratio of equalizing the average dopant concentration and the prescribed concentration, is prepared and then a small lump of prescribed mass composed of this composition is formed.例文帳に追加

ドーパントが所定濃度より高い濃度にドープされた第１の半導体粉末と、ノンドープあるいは前記ドーパントが所定濃度より低い濃度にドープされた第２の半導体粉末とを、平均ドーパント濃度が所定濃度と等しくなる比率で含む組成物を調製し、この組成物からなる所定質量の小塊を形成する。 - 特許庁

Hydrogen gas concentration and impurity gas concentration are calculated based on the average density, the mass flow rate of hydrogen gas is calculated based on the hydrogen gas concentration and the volume flow rate, and an existing amount of the impurity gas is calculated based on the impurity gas concentration, pressure, and temperature.例文帳に追加

そして、前記平均密度から水素ガス濃度及び不純物ガス濃度を演算すると共に、該水素ガス濃度と体積流量から水素ガスの質量流量を演算し、不純物ガス濃度，圧力，温度から不純物ガス存在量を演算する。 - 特許庁

To provide a motorcycle restraining lowering of visibility of a rider while keeping the concentration of a mass.例文帳に追加

マスの集中を図ることができるとともに、ライダーの視認性の低下を抑制できる自動二輪車を提供する - 特許庁

To operate accurately a gas concentration even if water adheres to the inside of a chamber of a mass spectrometer.例文帳に追加

質量分析計のチャンバ内に水が付着しても正確にガス濃度を演算できるようにすることを目的とする。 - 特許庁

The amount of the thermally conductive filling to be added is 10 to 90 mass% of the concentration of the solid content in the polyamide acid solution.例文帳に追加

熱伝導性充填物の添加量は、ポリアミド酸溶液の固形分濃度１０〜９０質量％である。 - 特許庁

The concentration of the protein is preferably ≥2 and ≤25 mass% in the auxiliary agent for processing the rubber.例文帳に追加

好ましくは、このゴムの加工用補助剤では、上記タンパク質の濃度は２質量％以上２５質量％以下である。 - 特許庁

Furthermore, fluorine concentration in the slag before dephosphorization treatment is adjusted to <1 mass%, and after tapping off the molten iron, silica sand is added to the slag.例文帳に追加

さらに、脱燐処理前のスラグ中のフッ素濃度を１質量％未満とし、出銑後スラグに珪砂を添加する。 - 特許庁

Suitably, the molecular weight of the polyether lies in the range of 100 to 5,000, and the mass concentration thereof lies in the range of 100 ppm to 5%.例文帳に追加

好適にはポリエーテルの分子量は１００〜５０００、質量濃度が１００ｐｐｍ〜５％の範囲である。 - 特許庁

The film deposited tungsten film has 0.001 to 1 mass% nickel concentration.例文帳に追加

また、成膜されたタングステン膜におけるニッケルの濃度が、０．００１質量％以上且つ１質量％以下となるようにする。 - 特許庁

The hydrocarbon oil before the desulfurization has ≤30 ppm sulfur content and 0.5-3 mass% diene concentration.例文帳に追加

また、脱硫前の炭化水素油の硫黄分が３０ｐｐｍ以下、ジエン濃度が０．５〜３質量％であることが好ましい。 - 特許庁

In the auxiliary agent for processing the rubber, the concentration of the disaccharide is preferably ≥0.2 and ≤5.0 mass%.例文帳に追加

好ましくは、このゴムの加工用補助剤では、上記二糖の濃度は０．２質量％以上５．０質量％以下である。 - 特許庁

To provide an ion attachment mass spectroscopy suitable for quantitative analysis capable of accurately measuring the concentration of the gas to be measured.例文帳に追加

被測定ガスの濃度を正確に測定できる定量分析に適したイオン付着質量分析方法を提供する。 - 特許庁