O facesとは 意味・読み方・使い方

The valve box valve seat 8 is fitted into the valve box 2 via an O-ring 13 with screwing 11, and fitting faces 8a, 2a of the valve box valve seat 8 and the valve box 2 are formed into spherical faces.例文帳に追加

弁箱弁座８を弁箱２にＯリング１３を介在して嵌め込んでねじ止め１１し、その弁箱弁座８と弁箱２の嵌合面８ａ、２ａを球面とする。 - 特許庁

The holding faces 16 have the directional tendency with which their normals are deviated from the center axis O of the whole holding body 12 to be positioned.例文帳に追加

保持面12は、その法線Ｎが保持体12全体の中心軸Ｏから偏位して位置する方向性を有する。 - 特許庁

A circular groove 38 for mounting the O-ring is formed over the whole periphery of the male-side seal face 37 of the seal member 35, and an O-ring 39 for sealing between both seal faces 33, 37 is mounted in the circular groove 38.例文帳に追加

シール部材35の雄側シール面37にＯリング装着用環状溝38全周にわたって形成し、環状溝38内に、両シール面33,37間をシールするＯリング39を装着する。 - 特許庁

This configuration can solve a problem by shortening the length of the small gap between an external space and the O-ring 24 and by expanding an area to which the O-ring 24 faces.例文帳に追加

この構成により、外部空間と前記Ｏリング２４との間の微小隙間の長さを短くすると共に、このＯリング２４が対向する部分の面積を広くして、課題を解決できる。 - 特許庁

On the outside faces 24, 24 of the tip 20, a protruded portion 26 extending along the axis O is formed in a region excluding portions ranging to the rear ends of thinning faces 21A, 21A.例文帳に追加

チップ２０の外側面２４，２４において、シンニング面２１Ａ，２１Ａの後端側に連なる部分を除いた領域に、軸線Ｏ方向に沿って延びる凸部２６…を形成する。 - 特許庁

Seal members 6 such as O-rings are mounted between both end faces of a boss portion 4a of a sheave 4 and the inner face of a supporting bracket 1.例文帳に追加

シーブ４のボス部４ａにおける両端面と支持ブラケット１内面との間に、Ｏリング等のシール部材６を介装する。 - 特許庁

By elastic deformation of an O-ring 27, the butting end faces 25, 28 of the first and second joining parts 15b, 16b are caused to closely adhere to each other without gap.例文帳に追加

Ｏリング２７の弾性変形で、第１及び第２接合部１５ｂ，１６ｂの突き合わせ端面２５，２８が隙間なく密着する。 - 特許庁

To provide a method for measuring positions of patterns on the front and back faces of a substrate and a measurement apparatus, capable of accurately measuring a positional misalignment of a mark or the like on front and back faces of a photomask substrate even if a normal of the photomask substrate is shifted relative to a rotating shaft (line O-O') of a measuring stage.例文帳に追加

フォトマスク基板の法線が、測定用ステージの回転軸（線Ｏ—Ｏ’）に対してずれているような場合においても、精度よくフォトマスク基板の表面および裏面のマーク等の位置ずれを測定することができる基板表裏面パターン位置測定方法・測定装置を提供する。 - 特許庁