RF PLASMAとは 意味・読み方・使い方

A plasma processing system has a main rf electrode 1 and an annular secondary rf electrode 4.例文帳に追加

プラズマ処理装置は主ｒｆ電極１とリング状第２ｒｆ電極４を有する。 - 特許庁

The plasma source ionizes the fluorocarbon gas by applying RF plasma energy thereto, and the second plasma source applies a self-bias to the substrate in an RF frequency.例文帳に追加

プラズマ源はＲＦプラズマエネルギーを印加することによりフルオロカーボンガスをイオン化し、第２のプラズマ源はＲＦ周波数で基板にセルフバイアスを印加する。 - 特許庁

The RF power signal is generated in the chamber from the RF power supply without igniting plasma inside the chamber.例文帳に追加

ＲＦ電力信号は、チャンバ内のプラズマを点火することなくＲＦ電源からチャンバに生成される。 - 特許庁

RF power is supplied to the plasma container from the RF generator through the controlled impedance network.例文帳に追加

ＲＦパワーが、ＲＦ発生器から制御されたインピーダンス・ネットワークを通してプラズマ容器に供給される。 - 特許庁

AC-RF SEPARATION FILTER OF HIGH AC AND HIGH RF POWER FOR HEATING ELECTROSTATIC CHUCK OF PLASMA REACTOR例文帳に追加

プラズマリアクタの加熱静電チャックのための高ＡＣ電流、高ＲＦ電力なＡＣ−ＲＦ分離フィルタ - 特許庁

To provide an RF plasma source in which capacity coupling between a coil and plasma is reduced and corrosion of the surface in a plasma tube is sufficiently reduced.例文帳に追加

コイルとプラズマ間の容量結合を減らし、プラズマチューブ内表面の腐食を有意に減らすＲＦプラズマソースの提供。 - 特許庁

N pieces of RF sources respond respectively to a second RF power which includes feedback from the plasma chamber.例文帳に追加

Ｎ個のＲＦソースはプラズマ室からのフィードバックを含んでいる第２のＲＦ電力にそれぞれ応答する。 - 特許庁

To enhance in-plane uniformity of a plasma process in a wide RF frequency area and also in a wide RF power area.例文帳に追加

広いＲＦ周波数領域で、かつ広いＲＦパワー領域でプラズマプロセスの面内均一性を向上させること。 - 特許庁