Si oxideとは 意味・読み方・使い方

Then, the Si nitride film 3 and the Si oxide film 2 are subjected to an etching process.例文帳に追加

次いで、Ｓｉ窒化膜３及びＳｉ酸化膜２をエッチングする。 - 特許庁

The upper Si oxide film and the Si nitride film 5 inside the ONO gate insulating film G are separated from the Si nitride film 9 inside the anti-reflection film F in a region over the P+-type channel blocking regions 12.例文帳に追加

ONOゲート絶縁膜G内の上のSi酸化膜6及びSi窒化膜5と、反射防止膜Fの内のSi窒化膜9とをp^+型チャネル阻止領域12上の領域で切り離している。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF SI WAFER HAVING SILICON OXIDE FILM例文帳に追加

シリコン酸化膜を有するＳｉウェーハの製造方法 - 特許庁

The Ti-containing oxide is exemplified by a double oxide of Ti and Si.例文帳に追加

Ｔｉを含む酸化物は、例えばＴｉとＳｉとの複合酸化物である。 - 特許庁

The thin Si layer is consumed by oxidation of an interface of the thin Si with the embedded oxide.例文帳に追加

薄いＳｉ層は埋込み酸化物／薄いＳｉの界面の酸化によって消費される。 - 特許庁

A film containing Ar in a Si oxide amorphous insulator film wherein a quantity of Ar in the film is 3% or more in an atomicity ratio for Si (Ar/Si≥3 at.%) is prepared.例文帳に追加

Si酸化物アモルファス絶縁体膜中にＡｒを含有し、その膜中のＡｒ量がＳｉに対して原子数比で３％以上(Ar/Si ≧ 3 at.%)である膜を作製する。 - 特許庁

The iron oxide is coated with a layer of Si and Fe compound oxide and further coated with a Si component.例文帳に追加

ＳｉとＦｅの複合酸化鉄層にて被覆した後、Ｓｉ成分にて被覆したことを特徴とする酸化鉄粒子。 - 特許庁

A first Si oxide film 102, a diamond-like film (DLC film) 103, an ashing protective film (a-Si film) 104 and a second Si oxide film 105 are formed in order on the surface of an Si substrate 101.例文帳に追加

Ｓｉ基板１０１表面に第１のＳｉ酸化膜１０２、ダイヤモンドライク膜（ＤＬＣ膜）１０３、アッシング保護膜（ａＳｉ膜）１０４、第２のＳｉ酸化膜１０５を順次形成する。 - 特許庁