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T beamsとは 意味・読み方・使い方
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「T beams」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 23件
A light source section 20 sequentially radiates light beams BR, BG and BB toward an original P at an interval of prescribed time T.例文帳に追加
光源部20は、光BR,BG,BBを所定時間Tの間隔で原稿Pに向けて順次放射する。 - 特許庁
A misty atmosphere creating means 3 and a laser effect producing means 4 are provided within the tunnel T, and a mist generated in the tunnel T is irradiated with laser beams to produce a fantastic atmosphere in the tunnel T.例文帳に追加
また、トンネルT内に、霧状雰囲気演出手段3及びレーザー演出手段4を設け、トンネルT内に発生させた霧にレーザー光線を照射して、トンネルT内を幻想的雰囲気に演出する。 - 特許庁
Beams emitted from 1st to 5th light sources 17 to 21 form images at 1st to 5th image forming positions P to T on a screen 32.例文帳に追加
第1〜第5光源17〜21から射出された光束は、スクリーン32上の第1〜第5結像位置P〜Tに像を形成する。 - 特許庁
The width L of the fixing portion 131 measured toward the extending direction of the movable beams 112a and 112b is larger than the thickness T of the movable beams 112a and 112b measured perpendicularly to the substrate 10.例文帳に追加
可動梁112a,112bが伸びている方向に測定した固定部131の幅Lが、基板10に垂直方向に測定した可動梁112a,112bの厚みTよりも大きいことを特徴とする。 - 特許庁
When the position of the fish shoal T cannot be probed even if the probing area W is expended up to the predetermined size, the position of the fish shoal T is further probed by successively changing an elevation angle θ of transmission-reception beams TB and RB.例文帳に追加
さらに、探査エリアWを所定の大きさまで拡大しても魚群Tの位置を探査できない場合には、送受信ビームTB、RBの俯角θを順次変えて魚群Tの位置を探査する。 - 特許庁
An OBIRCH device M scans a sample T placed on a tester board 4 with laser beams and allows current to flow, detects a change in the resistance of the sample T by a change in current, and detects defects.例文帳に追加
OBIRCH装置Mは、テスターボード4の上に載置された試料Tにレーザビームを走査しながら照射するとともに電流を流し、電流の変化により試料Tの抵抗値変化を検出して、欠陥の検出を行う。 - 特許庁
X-axis and Y-axis line sensors 31b, 32b output X-axis and Y-axis component position detection signals SLTX, SLTY when the electronic component T blocks the beams.例文帳に追加
X軸及びY軸ラインセンサ31b,32bは、電子部品Tがビームを遮るとき、X軸及びY軸部品位置検出信号SLTX,SLTYを出力する。 - 特許庁
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「T beams」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 23件
To provide an excellent positive type resist composition for electron beams or X-rays having high sensitivity and high resolution and giving a resist pattern whose profile is rectangular (free from a T-top shape peculiar to a resist for irradiation with electron beams).例文帳に追加
高感度かつ高解像度で、得られるレジストパターンプロファイルが矩形(特に電子線照射用レジストに特有のT−top形状とならない)である、優れた電子線またはX線用ポジ型レジスト組成物を提供することにある。 - 特許庁
With the use of a rotary chopper, an inspection object is irradiated with laser beams for detecting the ultrasonic waves (indicated by a curve b) for only a time width T corresponding to a required flaw detection depth and shielded from the laser beams for the other time not to be irradiated.例文帳に追加
また、超音波検出用のレーザービーム(曲線bで示す)は、回転チョッパを用いて、要求探傷深さに対応する時間幅Tの間だけ検査対象に照射し、それ以外の時間はビームを遮断して検査対象への照射を抑止する。 - 特許庁
In this exposure device, a part of beams from a light source 21 is separated to the optical path to irradiate the object in an oblique direction to the exposure face so that exposures in the front face direction and in an oblique direction are performed t a time.例文帳に追加
光源21からの光の一部を、露光面に対して斜め方向から照射される光路に取り出して、正面方向からの露光と斜め方向からの露光を行う。 - 特許庁
The spindle 50 of the hardening head rotates around the B-axis, and a laser beams is irradiated from a torch T to perform the hardening on the surface of a workpiece clamped by a chuck 22 on the table 20.例文帳に追加
焼入れヘッドの主軸50はB軸まわりに回転し、トーチTからレーザビームを照射して、テーブル20のチャック22に把持されたワーク表面に焼入れ処理を行う。 - 特許庁
By setting a facing interval t of a gap 9 so that the intersection Q of the first and second laser beams LB1 and LB2 is positioned on the grating 8a, the optical axes O1 and O2 of the first and second laser beams LB1 and LB2 emitted from the optical member 6 can be made as the same emission optical axis O3.例文帳に追加
第1及び第2のレーザビームLD1,LD2との交叉点Qが回折格子8a上に位置するようにギャップ9の対向間隔tを設定することにより、光学部材6から射出される第1及び第2のレーザビームLD1,LD2の光軸O1,O2を同じ射出光軸O3とすることができる。 - 特許庁
To provide a method for cutting a substrate by irradiation with laser beams which can obtain a cut surface high in quality, has a sufficiently high working speed, and is capable of cutting along a cutting line crossing in a T-shape.例文帳に追加
本発明は、より品質の高い切断面が得られ、かつ加工速度が十分に速く、T字型に交わる切断線に沿った切断も可能な、レーザ照射による基板の切断方法を提供する。 - 特許庁
Taking into consideration a film thickness t of the photoresistive layer and the incident angle θ_1, θ_2 or the like of the energy beams, the positional information is corrected in each transfer image, and the characteristics of the optical system are calculated by using the positional information of each of the corrected transfer image.例文帳に追加
そして、感光層の膜厚tとエネルギビームの入射角θ_1、θ_2などを考慮して、転写像毎に位置情報が補正され、その補正された各転写像の位置情報を用いて光学系の特性が算出される。 - 特許庁
According to the laser reflow device 1, laser beams from a laser light source 11 disposed in a laser unit 10 are transmitted through optical fibers F to a pair of irradiation units 20, which then emit laser beams on terminals T on both side edges of the surface mounting component E placed on a printed board P.例文帳に追加
本発明のレーザリフロー装置1は、レーザユニット10内に設けられたレーザ光源11からのレーザビームを光ファイバFを介して一対の照射ユニット20に光伝送し、各照射ユニット20からプリント基板P上に載置された表面実装部品Eの両側縁部の端子部Tに向けてレーザビームを照射する構成である。 - 特許庁
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