An ion-radicalとは 意味・読み方・使い方

The lithium-ion secondary battery uses: a compound which has as an anode active substance less noble oxidation-reduction potential than a nitroxyl radical compound; and an electrolyte with a nitroxyl radical compound added thereto.例文帳に追加

正極活物質としてニトロキシルラジカル化合物よりも卑な酸化還元電位を有する化合物を用いたリチウムイオン二次電池において、ニトロキシルラジカル化合物を添加した電解液を用いる。 - 特許庁

By setting to the low frequency, an ion irradiation rate onto a semiconductor substrate of an H radical is raised, and the H_2 passivation effect of the semiconductor substrate is enhanced.例文帳に追加

低周波とすることで、Ｈラジカルの半導体基板へのイオン照射率を高め、半導体基板のＨ_２パッシベーション効果を高める。 - 特許庁

Before the lamination of the ion-exchange membrane disposed on the biological interface with a medicine solution holding layer in a production process of the iontophoresis apparatus, a counter ion of an ion exchange radical of the ion-exchange membrane is substituted by a medicine ion by the impregnation beforehand with the medicine solution, or the like.例文帳に追加

イオントフォレーシス装置の製造工程において、生体界面上に配されるイオン交換膜を薬剤溶液保持層と積層するに先立ち、予め薬剤溶液に含浸させるなどして、該イオン交換膜の有するイオン交換基の対イオンを薬剤イオンと置換しておく。 - 特許庁

This is the polyelectrolyte medium in which an aromatic radical-containing functional group, an alkyl functional group, and an ion-exchangeable aromatic-type functional group are copolymerized in this order.例文帳に追加

芳香族性ラジカル含有性官能基、アルキル性官能基およびイオン交換性芳香族型官能基をこの順序で共重合した高分子電解質媒体。 - 特許庁

To provide a negative ion source, an ion beam analysis device, an etching device, an oxygen radical generation device and an waste gas processor which can attain a large ion current by generating a surface-like negative ions by utilization of diamond semi-conductor device structure, with a diamond serving as a semi-conductor.例文帳に追加

ダイヤモンドを半導体と捉えて、ダイヤモンド半導体デバイス構造を利用して、面的な負イオン生成を実現することにより、大きなイオン電流を実現することができる負イオン源、イオンビーム分析装置、エッチング装置、酸素ラジカル発生装置及び排ガス処理装置を提供する。 - 特許庁

In the surface reforming process, oxygen plasma is generated in the vacuum chamber 101 of this plasma treatment device 100 by using a gas containing oxygen, an oxygen ion irradiating process applied to an oxygen ion (o^-) to the pixel electrode 4, and an oxygen radical irradiating process to irradiate an oxygen radical (o^*) to the pixel electrode 4 are performed.例文帳に追加

表面改質工程では、酸素を含むガスを用いてプラズマ処理装置１００の真空チャンバ１０１内に酸素プラズマを発生させ、画素電極４に酸素イオン（Ｏ^-）を照射する酸素イオン照射工程と、画素電極４に酸素ラジカル（Ｏ^*）を照射する酸素ラジカル照射工程とを行う。 - 特許庁

To provide a plasma source device as a novel composite vapor deposition device usable for an ion source and a radical source, capable of forming a good quality thin film on a base board by selectively emitting only a radical of film forming species particularly at operation time as the radical source, usable in common to the ion source and the radical source, and capable of forming respective superior thin films.例文帳に追加

イオン源及びラジカル源に用いることができ、とくにラジカル源としての運用時には、成膜種のラジカルのみを選択的に放出して基板に良質の薄膜を形成し得るようにし、イオン源とラジカル源とに共用してそれぞれの良好な薄膜を形成することができる新規な複合型蒸着装置としてのプラズマ源装置を提供する。 - 特許庁

Subsequently, a wafer is reversed together with a holder such that an ion beam is not directly applied to the wafer during the etching, and dry etching is performed by chlorine radical.例文帳に追加

次に、ウエハーをホルダーごと反転させ、エッチング中イオンビームが直接ウエハーに当たらないようにし、塩素ラジカルによるドライエッチングを行う。 - 特許庁