Asherとは 意味・読み方・使い方

Therefore, the processing time of the substrate W can be shortened without using any expensive asher apparatus.例文帳に追加

したがって、高価なアッシャー装置を用いることなく処理時間の短縮を図ることができる。 - 特許庁

North korean maneuvers along the dmz continue to ring alarm bells... throughout pacific markets, even as president asher... is set to meet this afternoon with south korean...例文帳に追加

非武装地帯における 北朝鮮の作戦に警鐘を鳴らし・・・ マーケット全体について 大統領は・・・ 本日午後に北朝鮮との 会合をセットし・・・ - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書

To provide a substrate processor wherein the processing time of a substrate can be shortened without using any expensive asher apparatus by contacting uniformly the bubbles of an ozone gas with the substrate.例文帳に追加

オゾンガスの気泡を基板に均一に接触させることにより、高価なアッシャー装置を用いることなく処理時間の短縮を図ることができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a high-precision hole and trench fabrication process in organic siloxane insulating film that gives no damage by an asher to the organic siloxane insulating film and causes none of problems of shape deterioration or foreign matter.例文帳に追加

有機シロキサン系絶縁膜にアッシャによるダメージを与えることがなく、かつ形状劣化や異物の問題を起こすことのない、有機シロキサン系絶縁膜の高精度な孔溝加工プロセスを提供する。 - 特許庁

An asher device 10 includes a plasma source section 430 generating plasma, a susceptor 459 mounting a wafer 600 and two layers of non-metal shield plates 510, 540 disposed between the plasma source section 430 and the susceptor 459.例文帳に追加

アッシャ装置１０は、プラズマを生成するプラズマソース部４３０と、ウエハ６００を載置するサセプタ４５９と、プラズマソース部４３０とサセプタ４５９との間に設けられた、２層の非金属性の遮蔽板５１０、５４０とを有する。 - 特許庁

To provide a method for stripping a mask resist by a plasma asher, by which a resist on a surface and an end face of a mask can be stripped and cleaned without giving damages to a chromium pattern on the mask surface.例文帳に追加

本発明は、マスク表面のクロムパターンにダメージを与えることなく、マスクの表面及び端面のレジストを剥離洗浄することができるプラズマアッシャーによるマスクレジスト剥離方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

In a plasma asher which introduces oxygen and steam into the evacuated vacuum chamber to generate the plasma at high frequency and peels resist off the substrate held horizontally, the substrate cleaning apparatus is characterized by obliquely irradiating the substrate with plasma by tilting an evacuated vacuum chamber.例文帳に追加

本発明は、減圧した真空チャンバ内に酸素と水蒸気を導入して高周波によりプラズマを発生させ、水平に保持した基板のレジストを剥離するプラズマアッシャーにおいて、前記真空チャンバを傾けて基板に対してプラズマを斜めから照射することを特徴とする基板洗浄装置の構成とした。 - 特許庁