HELICONとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 ヘリコン山、ヘリコン
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「HELICON」を含む例文一覧
該当件数 : 28件
HELICON WAVE PLASMA DEVICE AND HELICON WAVE PLASMA PROCESSING METHOD例文帳に追加
ヘリコン波プラズマ装置及びヘリコン波プラズマ処理方法 - 特許庁
ULTRA-FINE PARTICLE THIN FILM DEPOSITION APPARATUS USING HELICON PLASMA例文帳に追加
ヘリコンプラズマを用いた超微粒子薄膜形成装置 - 特許庁
The metal oxide film 3 is formed by the helicon sputtering method.例文帳に追加
酸化金属膜３は、ヘリコンスパッタ法により形成される。 - 特許庁
When a magnetic field is generated by a magnetic field generating coil 46, while a helicon wave excitation electrical field is applied to the antenna 34, a helicon wave plasma is generated in the source chamber 24.例文帳に追加
磁場発生コイル４６で磁場を発生させるとともに、アンテナ３４にヘリコン波励起電場を印加すると、ソースチャンバー２４の内部にヘリコン波プラズマが発生する。 - 特許庁
APPARATUS AND METHOD FOR FORMING DENSE AND HARD THIN FILM UTILIZING HELICON PLASMA OF HIGH DENSITY例文帳に追加
高密度へリコンプラズマを利用した緻密な硬質薄膜の形成装置及び形成方法 - 特許庁
By the constitution, temperature rise of the substrate is restrained effectively at the time of helicon wave dry etching.例文帳に追加
これにより、ヘリコン波ドライエッチングの際の基板４６の温度上昇を効果的に抑制する。 - 特許庁
An RF power supply 10 is connected to helicon coil 9 to supply specified electric power.例文帳に追加
ヘリコンコイル９には所定の電力を供給するＲＦ電源１０が接続されている。 - 特許庁
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Wiktionary英語版での「HELICON」の意味 |
helicon
出典:『Wiktionary』 (2024/10/11 03:00 UTC 版)
語源
Probably from Ancient Greek ἕλῐξ (hélix) + -on, after bombardon.
名詞
派生語
- heliconical
- heliconist
参照
- ^ “helicon”, in Merriam-Webster Online Dictionary, Springfield, Mass.: Merriam-Webster, 1996–present.
Further reading
アナグラム
- Nichole, choline
「HELICON」を含む例文一覧
該当件数 : 28件
Subsequently, helicon wave dry etching is performed according to the patterns 63-1 and 64-1 to make an ejection nozzle 62.例文帳に追加
この後パターン６４−１及び６３−１に従ってヘリコン波ドライエッチングを行って吐出ノズル６２を穿設する。 - 特許庁
A target is sputtered with helicon wave excited plasma, and an epitaxial growth is carried out on a substrate that plasma does not reach.例文帳に追加
ヘリコン波励起プラズマによりターゲットをスパッタし、プラズマの到達しない基板上へエピタキシャル成長を行う。 - 特許庁
After a sticking a film for the communication prevention to the rear surface of a substrate, it is placed on a water fixing stage 62 of a helicon wave etching device.例文帳に追加
基板４６の裏面に連通防止用のフィルムを貼ってからヘリコン波エッチング装置のウエハ固定用ステージ６２に載置する。 - 特許庁
A bell jar 8 is provided above the processing chamber 2, and a helicon coil 9 and a magnetic field coil 11 are provided in its outer periphery.例文帳に追加
処理室２の上方にはベルジャー８が設けられ、その外周部分には、ヘリコンコイル９と磁場コイル１１がそれぞれ配設されている。 - 特許庁
In this plasma treatment device, performing plasma treatment by introducing helicon waves into a workpiece W arranged inside a treatment vessel 14, the inside of each of vacuum vessels 11a and 11b for generating the helicon wave is divided into a plurality of sections by means of a wall face parallel to a magnetic field direction 20.例文帳に追加
処理容器１４内に配置されている被処理物Wにヘリコン波を導入することによりプラズマ処理を行うプラズマ処理装置において、ヘリコン波が発生する真空容器１１a、１１ｂの内部を磁場の方向２０と平行な壁面により複数に分割するプラズマ処理装置。 - 特許庁
A wafer 29 of an ink jet head board is placed on a jig 36 of a treating chamber 35 of a helicon wave etching unit, and mechanically or electrostatically fixed.例文帳に追加
ヘリコン波エッチング装置の処理室３５の治具３６上にインクジェットヘッド基板のウエハ２９を載置し機構的又は静電的に固定する。 - 特許庁
A helicon-wave plasma etching apparatus 1 is provided with a processing chamber 2 to etch a wafer 50 by plasma, wherein a stage 3 is provided.例文帳に追加
ヘリコン波プラズマエッチング装置１では、ウェハ５０にプラズマエッチング処理を施すための処理室２が設けられ、その処理室２内にステージ部３が配設されている。 - 特許庁
Sputtering particles are made to fly from a helicon sputtering source 52 by setting a film deposition rate of a gold thin film 12 to the range from 0.01 nm/s to 0.6 nm/s.例文帳に追加
金薄膜１２の成膜速度を０．０１ｎｍ／ｓ以上、０．６ｎｍ／ｓ以下の範囲に設定し、ヘリコンスパッタ源５２からスパッタ粒子を飛翔させる。 - 特許庁
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