Heating Vacuum Depositionとは 意味・読み方・使い方

The adhesion step is a vapor deposition step and, preferably, the evaporation step is a heating step for heating only the magnet material in a vacuum following to the vapor deposition step.例文帳に追加

付着工程は蒸着工程であり、蒸発工程は蒸着工程に続けて磁石材だけを真空中で加熱する加熱工程であると好ましい。 - 特許庁

The vapor deposition source 20 is constructed of heating lamps 21 that are installed on the ceiling of the vacuum chamber 11 and vapor deposition pots 22 that are arranged below the heating lamps 21.例文帳に追加

蒸着源２０は、真空室１１の天井面に設置された加熱ランプ２１と、加熱ランプ２１の下部位置に配設された蒸着坩堝２２とにより構成される。 - 特許庁

A stimulable luminescent phosphor layer is grown on a substrate by a vapor deposition method using a vacuum deposition apparatus having a vacuum chamber provided with the substrate in the interior, an opening opposite to the substrate, a boat for housing a raw material for the vacuum deposition and a heating apparatus for heating the boat.例文帳に追加

内部に基板を備えた真空チャンバーと、前記基板に対向する開口部を有し、蒸着原料を収容するボート、前記ボートを加熱する加熱装置とを備えた蒸着装置を用い、気相堆積法により前記基板上に輝尽性蛍光体層を成長させる。 - 特許庁

To provide a vapor deposition source container capable of realizing consistent vapor deposition, and preventing degradation of the lifetime by suppressing a leaking phenomenon of a vapor deposition substance from a recessed part (a cavity) to store the vapor deposition substance when heating the vapor deposition substance by a vapor deposition source in a resistance heating vapor deposition method in a vacuum vapor deposition apparatus.例文帳に追加

真空蒸着装置において、抵抗加熱蒸着法により蒸着物質を蒸発源により加熱するに際し、前記蒸着物質を収容する窪み（キャビティー）部からの前記蒸着物質の漏洩現象を抑制し、安定良く蒸着させること、且つ寿命の低下が防止できることが可能となる蒸着源容器を提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum deposition apparatus which, even for vapor deposition materials having different evaporation quantities and evaporation temperatures, exhibits satisfactory control performance of the heating temperature of the vapor deposition materials, and consequently can highly accurately control the vapor quantity of the vapor deposition materials.例文帳に追加

蒸発量、蒸発温度が異なる蒸着材料であっても、蒸着材料の加熱温度の制御性が良く、蒸着材料の蒸気量を高精度に制御できる真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁

The system has a vacuum chamber 1, a holder for a substrate 5 to be subjected to film deposition disposed in the vacuum chamber 1, a hole 8b for introducing the material gase for film deposition, a catalytic body 9 for accelerating reactions for film deposition, and a high frequency induction heating device for heating the catalytic body 9.例文帳に追加

真空容器１と、該真空容器１内に配置された被成膜基体５用支持体と、成膜用ガス導入口８ｂと、成膜のための反応を促進するための触媒体９と、該触媒体９を加熱するための高周波誘導加熱装置とを具備したことを特徴とする。 - 特許庁

To provide an evaporation source container in a vacuum deposition system with which a sublimable vapor deposition material solidified by the heating can stably be heated and evaporated by a resistance heating vapor deposition method without bursting the sublimable vapor deposition material.例文帳に追加

真空蒸着装置において、抵抗加熱蒸着法により昇華性蒸着材料を蒸発源により加熱するに際し、加熱により固形化する昇華性蒸着材料を破裂させることなく、安定良く加熱、蒸発させることが可能となる蒸発源容器を提供する。 - 特許庁

The film formation apparatus 1 is an apparatus for forming a film formation material on a surface of a substrate 50 by resistance heating type vacuum vapor deposition.例文帳に追加

成膜装置1は、抵抗加熱式の真空蒸着により、基板50表面に成膜材料を成膜する装置である。 - 特許庁