overlay regionとは 意味・読み方・使い方

This structure provides full overlap between a storage node contact and an active region, resolves an overlay problem in an etching process, and increases an etching line width of a storage node.例文帳に追加

格納電極コンタクトと活性領域との間のフルオーバーラップを提供し、食刻工程でのオーバーレイ問題を解消し、格納電極の食刻線幅を増加させる。 - 特許庁

Further, the digital camera calculates a zoom state wherein an output of a camera-shake warning is started according to the present photographing condition, and overlay-displays the photographing image region in this zoom state onto the image display means.例文帳に追加

また、現在の撮影条件より手ブレ警告が出始めるズーム状態が算出され、このズーム状態における撮影画像領域が画像表示手段にオーバーレイ表示される。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a recess gate of a semiconductor element, capable of preventing damage of an active region, even if a loss of a field oxide film below a path gate and overlay misalignment occur between the active region and a recess pattern in forming the recess gate.例文帳に追加

リセスゲート形成時にパスゲートの下のフィールド酸化膜の損失及び、活性領域とリセスパターンとのオーバーレイミスアライメントが発生しても、活性領域の損傷を防止できる半導体素子のリセスゲートの製造方法を提供すること。 - 特許庁

The digital camera detects a present zoom state, calculates a segmental region of an image in a maximum zoom state on the basis of the detected zoom state and a maximum zoom rate, and overlay-displays the image segmental region on an image display means.例文帳に追加

現在のズーム状態が検出されるとともに、検出されたズーム状態と最大ズーム率より、最大ズーム状態における画像の切り取り可能領域が算出され、画像の切り取り可能領域が画像表示手段にオーバーレイ表示される。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which can correctly measure a wiring shape and a film thickness and a film quality of a wiring interlayer film in a monitor mark formation region which has less deviation with a function element formation region, and correctly measure overlay deviation between a lower layer pattern and an upper layer pattern in the monitor mark formation region.例文帳に追加

機能素子形成領域との乖離が少ないモニター用マーク形成領域において、配線形状並びに配線層間膜の膜厚・膜質を正確に計測し、かつモニター用マーク形成領域における下層パターンと上層パターンとの重ね合わせずれの正確な測定が可能な半導体装置を提供する。 - 特許庁

When the flags to indicate the superimposition of the overlay image on the output image and flags not indicating the superimposition do not exist in the fixed rate or more in the flag data in the divided regions, a division flag setting part 405 sets division flags for designating the superimposition method of the overlay image to the whole region.例文帳に追加

分割フラグ設定部４０５は、分割された分割領域中のフラグデータにおいて、オーバーレイ画像を出力画像の重畳を指示するフラグと指示しないフラグとが一定以上の割合で混在しない場合、その領域全体に対してオーバーレイ画像の重畳方法を指定するための分割フラグを設定する。 - 特許庁

When flags to indicate the superimposition of the overlay image on an output image and the flags not instructing the superimposition coexist in a fixed rate or more in flag data in divided regions, a region division part 403 redivides the region by a predetermined number of times or less.例文帳に追加

領域分割部４０３は、分割領域中のフラグデータにおいて、オーバーレイ画像の出力画像への重畳を指示するフラグと指示しないフラグとが一定以上の割合で混在する場合、予め設定された回数内で、その領域を再分割する。 - 特許庁

To prevent linewidth-precision deterioration which is caused by a decrease in the contrast in a multiply-overlapped-exposure acceptable region in performing so-called overlay exposure by the electron-beam exposure of a division transfer system.例文帳に追加

分割転写方式の電子線露光で、いわゆる重ね合わせ露光を行う場合において、多重重複露光可能領域におけるコントラストの低下に起因する線幅精度の低下を防止する。 - 特許庁