pressure density rateとは 意味・読み方・使い方

To provide a gas compressor whereby a refrigerant gas flow rate is increased by heightening density of a low pressure refrigerant gas to be sucked, refrigeration capacity is increased, and thereby fuel consumption of a vehicle can be improved.例文帳に追加

吸入する低圧冷媒ガスの密度を高くすることで冷媒ガス流量を増やして冷力を増加し、車の燃費を向上することが可能な気体圧縮機を提供する。 - 特許庁

Hydrogen gas concentration and impurity gas concentration are calculated based on the average density, the mass flow rate of hydrogen gas is calculated based on the hydrogen gas concentration and the volume flow rate, and an existing amount of the impurity gas is calculated based on the impurity gas concentration, pressure, and temperature.例文帳に追加

そして、前記平均密度から水素ガス濃度及び不純物ガス濃度を演算すると共に、該水素ガス濃度と体積流量から水素ガスの質量流量を演算し、不純物ガス濃度，圧力，温度から不純物ガス存在量を演算する。 - 特許庁

(i) Length, mass, time, electric current, temperature, amount of substance, luminous intensity, angle, solid angle, area, volume, angular velocity, angular acceleration, velocity, acceleration, frequency, rotational frequency, wave number, density, force, moment of force, pressure, stress, viscosity, kinematic viscosity, work, power, mass flow rate, flow rate, quantity of heat, thermal conductivity, specific heat capacity, entropy, quantity of electricity, electric field strength, voltage, electromotive force, capacitance, magnetic field strength, magnetomotive force, magnetic flux density, magnetic flux, inductance, electric resistance, electric conductance, impedance, active power, reactive power, apparent power, active energy, reactive energy, apparent energy, attenuation of electromagnetic wave, electric power density of electromagnetic wave, radiant intensity, luminous flux, luminance, illuminance, sound power, sound pressure level, oscillating acceleration level, concentration, neutron emission rate, radioactivity, absorbed dose, absorbed dose rate, kerma, kerma rate, exposure, exposure rate, dose equivalent or dose equivalent rate.発音を聞く 例文帳に追加

一　長さ、質量、時間、電流、温度、物質量、光度、角度、立体角、面積、体積、角速度、角加速度、速さ、加速度、周波数、回転速度、波数、密度、力、力のモーメント、圧力、応力、粘度、動粘度、仕事、工率、質量流量、流量、熱量、熱伝導率、比熱容量、エントロピー、電気量、電界の強さ、電圧、起電力、静電容量、磁界の強さ、起磁力、磁束密度、磁束、インダクタンス、電気抵抗、電気のコンダクタンス、インピーダンス、電力、無効電力、皮相電力、電力量、無効電力量、皮相電力量、電磁波の減衰量、電磁波の電力密度、放射強度、光束、輝度、照度、音響パワー、音圧レベル、振動加速度レベル、濃度、中性子放出率、放射能、吸収線量、吸収線量率、カーマ、カーマ率、照射線量、照射線量率、線量当量又は線量当量率 - 日本法令外国語訳データベースシステム

Furthermore, a section 21 for calculating the ejection flow rate of ink from the density of an image being recorded, and an ink temperature sensor 23 are provided in order to control the ink back pressure during imaging operation such that an optimal ink back pressure variable through variation of viscosity caused by variation in the ejection flow rate of ink or in the ink temperature is followed up.例文帳に追加

さらに、記録対象である画像の濃度からインク射出流量を算出するインク射出流量算出部２１や、インク温度を検知するインク温度センサー２３を設けて、インク射出流量の変化や、インクの温度変化による粘度変化によって変動する最適なインク背圧に追随するように画像形成中のインク背圧を制御する。 - 特許庁

To provide a silicon carbide MOS semiconductor device whose pressure-resistant non-defectiveness rate is hardly deteriorated even when a high impurity density surface is formed by ion injection of high doze quantity necessary for satisfactory ohmic contact.例文帳に追加

良好なオーミック接触に必要な程度の高ドーズ量のイオン注入によって、高不純物密度表面を形成しても、耐圧良品率が低下し難い炭化珪素ＭＯＳ型半導体装置を提供すること。 - 特許庁

According to this configuration, refrigerant density at the suction port 2c on low pressure side of the two step compressor 2 is increased, refrigerant flow rate of the evaporator 9 for the freezing chamber is increased, and liquid return into the suction port 2b on intermediate pressure side and dew condensation in the suction pipe 7 for the refrigerating chamber is prevented.例文帳に追加

この構成によれば、２段圧縮コンプレッサ２の低圧側吸込口２ｃの冷媒密度を大きくすることができて、冷凍室用蒸発器９の冷媒流量を増加させることができ、また、中間圧側吸込口２ｂへの液戻りや冷蔵室用サクションパイプ７の結露を防止できる。 - 特許庁

The method for manufacturing the laminate of the polymeric films having the high gas-barrier properties includes applying the principle of surface wave plasma that high-density plasma can be easily formed without using a magnetic field and controlling the density of microwave plasma in accordance with a film-forming condition to provide the high film-forming rate even under a low pressure.例文帳に追加

磁場を用いなくても高密度プラズマを容易に形成できる表面波プラズマの原理を応用し、マイクロ波プラズマの密度を成膜条件に併せてコントロールすることで、低圧力下においても、高い成膜レートを引き出し、高いガスバリア性を有する高分子フィルム積層体を製造する。 - 特許庁

The said T-die cast film is an ethylene resin obtained by a high pressure radical polymerization method wherein density is 0.910-0.935 g/cm3, a melt flow rate is 0.5-10 g/10 min and a swelling ratio(SR) is not less than 1.35.例文帳に追加

エチレン系樹脂が、高圧ラジカル重合法によって得られ、密度が０．９１０〜０．９３５ｇ／ｃｍ^3であり、メルトフローレートが０．５〜１０ｇ／１０分であり、スウェリング比（ＳＲ）が１．３５以上であるエチレン系樹脂である前記Ｔダイキャストフィルム。 - 特許庁