rate of depositionとは 意味・読み方・使い方

To provide a deposition system having excellent uniformity of a film at a high deposition rate.例文帳に追加

高堆積レートで膜の均一性の良好な堆積システムを提供する。 - 特許庁

To provide a film deposition system capable of performing film deposition at a high film deposition rate by plasma CVD.例文帳に追加

プラズマＣＶＤによって、高い成膜レートで成膜を行なうことができる成膜装置を提供する。 - 特許庁

To realize vapor deposition in which oblique vapor deposition and the reduction of a vapor deposition rate are prevented by a compact system.例文帳に追加

斜め蒸着、蒸着レートの低下を防止した蒸着を、小型の装置で実現すること。 - 特許庁

To provide an inexpensive vapor deposition source cell capable of setting an extensive vapor deposition rate and obtaining an stable vapor deposition rate.例文帳に追加

広範囲な蒸着レートの設定が可能で、安定した蒸着レートを得ることが可能な安価な蒸着源セルを提供する。 - 特許庁

To provide a film deposition system and a film deposition method where a film deposition rate and the thickness of a deposited film can be extremely satisfactorily controlled while holding the film deposition rate by vapor deposition.例文帳に追加

蒸着による成膜速度を保ちながらも極めて良好に成膜速度および成膜膜厚を制御することが可能な成膜装置、および成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of controlling deposition rate, a mechanism for controlling deposition rate and an electron-beam physical vapor deposition (EB-PVD) apparatus capable of depositing a film onto an object to be deposited at a low deposition rate while quantitatively-stably generating vaporized particles.例文帳に追加

蒸発粒子を量的に安定発生させつつ、被成膜対象に低成膜レートで成膜する成膜レート制御方法、成膜レート制御機構、およびＥＢ−ＰＶＤ装置を提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum vapor deposition method capable of exactly controlling a vapor deposition rate and a vacuum vapor deposition system.例文帳に追加

蒸着レートを正確に制御できる真空蒸着方法および真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁

Thereby, the amount of ions entering in the film deposition chamber 50 is increased and the film deposition rate is enhanced.例文帳に追加

これにより、成膜チャンバ５０に入るイオンの量が増加し、成膜レートが向上する。 - 特許庁