「rate of deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To realize a deposition system having a stable deposition rate by suppressing the solidification of a deposition material.例文帳に追加

成膜材料の固化を抑制し、安定した成膜レートを有する成膜装置を実現する。 - 特許庁

As the film deposition in this method is carried out by sputtering, the film deposition rate is higher than that of a vapor deposition method.例文帳に追加

しかも、成膜はスパッタによるものであるため蒸着法に比べると成膜レートが早い。 - 特許庁

To provide a deposition system having excellent uniformity of a film at a high deposition rate.例文帳に追加

高堆積レートで膜の均一性の良好な堆積システムを提供する。 - 特許庁

To provide a film deposition system capable of performing film deposition at a high film deposition rate by plasma CVD.例文帳に追加

プラズマＣＶＤによって、高い成膜レートで成膜を行なうことができる成膜装置を提供する。 - 特許庁

To realize vapor deposition in which oblique vapor deposition and the reduction of a vapor deposition rate are prevented by a compact system.例文帳に追加

斜め蒸着、蒸着レートの低下を防止した蒸着を、小型の装置で実現すること。 - 特許庁

To provide an inexpensive vapor deposition source cell capable of setting an extensive vapor deposition rate and obtaining an stable vapor deposition rate.例文帳に追加

広範囲な蒸着レートの設定が可能で、安定した蒸着レートを得ることが可能な安価な蒸着源セルを提供する。 - 特許庁

To provide a film deposition system and a film deposition method where a film deposition rate and the thickness of a deposited film can be extremely satisfactorily controlled while holding the film deposition rate by vapor deposition.例文帳に追加

蒸着による成膜速度を保ちながらも極めて良好に成膜速度および成膜膜厚を制御することが可能な成膜装置、および成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of controlling deposition rate, a mechanism for controlling deposition rate and an electron-beam physical vapor deposition (EB-PVD) apparatus capable of depositing a film onto an object to be deposited at a low deposition rate while quantitatively-stably generating vaporized particles.例文帳に追加

蒸発粒子を量的に安定発生させつつ、被成膜対象に低成膜レートで成膜する成膜レート制御方法、成膜レート制御機構、およびＥＢ−ＰＶＤ装置を提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum vapor deposition method capable of exactly controlling a vapor deposition rate and a vacuum vapor deposition system.例文帳に追加

蒸着レートを正確に制御できる真空蒸着方法および真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁

Thereby, the amount of ions entering in the film deposition chamber 50 is increased and the film deposition rate is enhanced.例文帳に追加

これにより、成膜チャンバ５０に入るイオンの量が増加し、成膜レートが向上する。 - 特許庁

To provide a deposition device capable of speeding up the deposition rate without lowering a coverage.例文帳に追加

カバレッジを低下させずに成膜速度を速くすることができる成膜装置を提供する。 - 特許庁

To provide a film deposition method capable of keeping the both of a step coverage and a film deposition rate high.例文帳に追加

ステップカバレジと成膜レートとを共に高く維持することができる成膜方法を提供する。 - 特許庁

In the initial stage of film deposition, the film deposition rate is set to a first rate, and after the gold thin film reaches a predetermined film thickness, the film deposition rate is set to a second rate being at least twice as the first rate.例文帳に追加

ここで、成膜初期においては、成膜速度を第１速度に設定し、金薄膜の膜厚が一定の膜厚以上になると、成膜速度を第１速度の少なくとも倍の第２速度に設定する。 - 特許庁

To provide a vapor deposition source and a vapor deposition apparatus in which generation of splash is suppressed, and the vapor deposition rate is consistent.例文帳に追加

スプラッシュの発生が抑制され、また、蒸着レートが安定した蒸着源、および蒸着装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a film deposition apparatus capable of easily and reliably adjusting the film deposition rate at low cost.例文帳に追加

成膜速度の調整を、容易・確実・安価に行うことの可能な成膜装置を提供する。 - 特許庁

To provide a DLC film deposition system by which the film deposition rate of a DLC film can be controlled.例文帳に追加

ＤＬＣ膜の成膜レートを制御することができるＤＬＣ膜成膜装置の提供。 - 特許庁

To enhance the deposition rate of a tungsten film while preventing increase in resistance.例文帳に追加

タングステン膜の高抵抗化を防止しつつ、デポレートを向上させる。 - 特許庁

To increase the evaporation rate of the material and to improve the film deposition speed.例文帳に追加

材料の蒸発レートを稼ぎ、成膜スピードを向上させる。 - 特許庁

To provide a film deposition apparatus, and a film deposition method having the high rate of film deposition on a surface of an object for film deposition by the reaction of sputter particles or evaporation particles.例文帳に追加

スパッタ粒子または蒸発粒子を反応させることによる成膜対象物表面の成膜の成膜速度が速い成膜装置および成膜方法の提供。 - 特許庁

the coverage of the film in the irregularity part is not lowered and the deposition rate can be quicker than the conventional deposition rate.例文帳に追加

従って、凹凸部分における膜のカバレッジを低下させずに、成膜速度を従来と比較して速くすることができる。 - 特許庁

To provide a deposition apparatus capable of enhancing a deposition rate while maintaining high deposition uniformity, and a thin film deposition method using the same.例文帳に追加

高い蒸着均一度を維持しつつ蒸着率向上させることができる蒸着装置及びこれを利用した薄膜蒸着方法を提供する。 - 特許庁

In the non-vapor deposition mode, the vapor deposition rate of the vapor deposition material to be emitted from the opening part 4a not directed in the substrate direction is measured, and fed back to a heating mechanism of the container 1 to stabilize the vapor deposition rate.例文帳に追加

非蒸着時に、基板方向に向かない開口部４ａから放出される蒸着材料の蒸着レートを測定し、容器１の加熱機構にフィードバックさせ、蒸着レートを安定化する。 - 特許庁

To provide a film deposition system capable of stably performing film deposition for a long time at a high film deposition rate by plasma CVD.例文帳に追加

プラズマＣＶＤによって、高い成膜レートで長時間の成膜を安定して行なうことができる成膜装置を提供する。 - 特許庁

To provide a deposition method and a deposition device capable of suppressing the fluctuation of a deposition rate between the process of continuous deposition and the process of spacing deposition, and capable of stably depositing a fixed film thickness.例文帳に追加

連続成膜時と間隔を空けた際の成膜時とで、成膜レートの変動を抑制することができ、安定して一定膜厚の膜を成膜することができる成膜方法および成膜装置を提供する。 - 特許庁

To improve the film deposition rate of a carbon film by a plasma treating system.例文帳に追加

プラズマ処理装置により炭素被膜の成膜速度を向上させる。 - 特許庁

To provide a film deposition method, in which the deposition rate of a film having an excellent photocatalytic function can be improved.例文帳に追加

良好な光触媒機能を有する皮膜の成膜レートを早くできる成膜方法を得る。 - 特許庁

To correctly measure the vapor deposition rate of each vapor deposition source in multiple co-evaporation by avoiding cross-talk.例文帳に追加

クロストークを回避して多元共蒸着における各蒸着源の蒸着レートを正確に測定する。 - 特許庁

To provide techniques for preventing decomposition of a vapor deposition material in vapor deposition of an organic material and for stabilizing a vapor deposition rate.例文帳に追加

有機材料の蒸着において蒸着材料の分解を防止し、かつ、蒸着速度を安定化させるための技術を提供する。 - 特許庁

To provide a vapor deposition apparatus capable of precisely controlling the vapor deposition rate of a film material, and to provide a vapor deposition method and a method of manufacturing an organic EL apparatus.例文帳に追加

膜材料の蒸着レートをより精密に制御可能な蒸着装置、蒸着方法、および有機ＥＬ装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a vacuum deposition system capable of correctly performing the control of a vapor deposition rate to the body to be vapor-deposited.例文帳に追加

被蒸着体への蒸着速度の制御を正確に行なうことができる真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁

To provide a sputtering thin film deposition system capable of depositing a thin film of high quality at high film deposition rate.例文帳に追加

製膜速度が高く、品質が高い薄膜を形成することができるスパッタリング薄膜形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a TiN film deposition method capable of enhancing the productivity by effectively increasing the film deposition rate when performing film deposition of TiN by a CVD method.例文帳に追加

ＣＶＤ法によってTiＮを成膜する場合に、成膜速度を効果的に高めて生産性を向上させたTiＮの成膜方法を提供する。 - 特許庁

To increase uniformity of a film deposition rate when a plurality of wafers is simultaneously subjected to batch treatment using a film deposition system where film deposition is performed by a supercritical process.例文帳に追加

超臨界プロセスによって成膜を行う成膜装置で、複数のウエハを同時にバッチ処理する際の成膜レートの均一性を高める。 - 特許庁

To provide a method for arc vapor deposition of materials on a substrate which can be operated at a high deposition rate.例文帳に追加

高堆積速度で作動可能な、材料を基体上へ陰極アーク蒸着するための方法が提供される。 - 特許庁

As a result, the deposition rate is improved and the efficiency of using the vapor deposition material can be enhanced.例文帳に追加

これにより、蒸着レートが向上するとともに、蒸着材料の利用効率を高めることが可能となる。 - 特許庁

The deposition rate of the vapor deposition material can be controlled using the fact that the deposition rate is increased when pressure in the vacuum chamber 10 is lowered and the deposition rate is decreased when the pressure in the vacuum chamber 10 is raised.例文帳に追加

真空槽１０内部の圧力を小さくすれば蒸着物質の蒸着速度は速くなり、真空槽１０内部の圧力を大きくすれば蒸着物質の蒸着速度は遅くなるということを利用して蒸着速度を制御する。 - 特許庁

To provide an electrolytic deposition apparatus and an electrolytic deposition method in which the deposition rate of a substance by electrolytic deposition is improved, and the consumption of gas used as a material for electrolytic deposition can be reduced.例文帳に追加

電解析出による物質の析出速度を向上させるとともに、電解析出の材料となる気体の消費量を削減できる電解析出装置および電解析出方法を提供する。 - 特許庁

Then, the sum L+T of the deposition rate L (g/min) of the preceding electrode and the deposition rate T (g/min) of the succeeding electrode is 100-500 g/min, while the deposition rate F (g/min) of the filler wire is 0.03 (L+T) to 0.3 (L+T).例文帳に追加

このとき、先行電極の溶着速度Ｌ（ｇ／分）及び後行電極の溶着速度Ｔ（ｇ／分）の和Ｌ＋Ｔが１００乃至５００ｇ／分であり、フィラーワイヤの溶着速度Ｆ（ｇ／分）が０．０３（Ｌ＋Ｔ）乃至０．３（Ｌ＋Ｔ）である。 - 特許庁

To improve a film deposition rate while the efficient use of gas is possible.例文帳に追加

ガスを効率的に使用できる中で、成膜速度が向上できるようにする。 - 特許庁

To improve a heat transfer rate, and to prevent deposition of PM in a gas cooler.例文帳に追加

ガスクーラにおいて、熱伝達率の向上及びＰＭの堆積防止を図る。 - 特許庁

1. Thickness and deposition rate of coating materials fixed to the substrate surface 例文帳に追加

（一）　基材の表面に定着したコーティング材料の厚さ及び成膜速度 - 日本法令外国語訳データベースシステム

To provide a vapor deposition method and a vapor deposition equipment where, in vapor deposition for an organic compound, bumping and the change of an evaporation rate are prevented, and evaporation is performed at a fixed evaporation rate stably for a long period of time.例文帳に追加

有機化合物の蒸着において、突沸や蒸発速度の変化を防止し、長時間安定的に一定蒸発速度で蒸発を行う蒸着方法および蒸着装置を提供する。 - 特許庁

To provide a film deposition method where, at the time of depositing a metal-containing thin film by an ALD (Atomic Layer Deposition) method, the film deposition rate can be increased.例文帳に追加

ＡＬＤ法によって金属を含む薄膜を形成する際に、成膜速度を上昇させることができる成膜方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a film deposition method and a film deposition apparatus, capable of depositing a thin film having excellent film thickness distribution and film quality while maintaining the film deposition rate.例文帳に追加

膜厚分布や膜質に優れた薄膜を、成膜速度を維持しつつ堆積することができる成膜方法及び成膜装置を提供する。 - 特許庁

To provide film deposition method and a system therefor capable of improving coverage characteristics while a high film deposition rate is held.例文帳に追加

高い成膜速度を維持したまま、カバレージ特性を向上させることができる成膜方法及び装置を提供する。 - 特許庁