reactive ion etchとは 意味・読み方・使い方

In the VSE, reactive ion etching or wet etching is used in order to etch the surface to be bonded slightly (3).例文帳に追加

ＶＳＥは、結合される面を僅かにエッチングするためにリアクチブイオンエッチングまたは湿式エッチングが用いられる（３）。 - 特許庁

To etch a Cu layer and a base layer by one treatment during reactive ion etching with iodine as a principal.例文帳に追加

ヨウ素を主体として反応性イオンエッチング時に、Ｃｕ層及び下地層を一回の処理でエッチングできるようにする。 - 特許庁

To provide a parallel plate reactive ion etching system which can etch a solar battery substrate with an etching distribution of ±10% in a batch.例文帳に追加

大面積の太陽電池基板を、バッチ内で±10％以下のエッチング分布をもってエッチング処理できる平行平板式反応性イオンエッチング装置を提供する。 - 特許庁

To etch a polysilicon gate into which an element which does not generate a volatile compound, for example ytterbium (Yb), is implanted, during conventional reactive-ion etching.例文帳に追加

本発明は、従来の反応性イオンエッチングの間、揮発性の化合物を生成しない元素、例えばイットリビウム（Ｙｂ）が注入されたポリシリコンゲートをエッチングすることを目的とする。 - 特許庁

To provide a reactive ion etching device capable of facilitating etching in microfabrication on a width of 0.3 μm or smaller without causing etch stop by using magnetic neutral loop discharge.例文帳に追加

本発明の課題は、0.3μｍ幅以下の微細加工においてエッチストップを発生させることなくエッチングできる磁気中性線放電を利用した反応性イオンエッチング装置を提供することにある。 - 特許庁

A shadow mask 125 is placed over the carbon layer 120 and reactive ion etch (RIE) is used to transfer holes 130 in the shadow mask 125 to the carbon layer 120, to thereby form a carbon mask.例文帳に追加

シャドウマスク１２５は、炭素層１２０の上に載置されており、反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）が用いられることにより、シャドウマスク１２５のホール１３０が炭素層１２０に転写され、それにより、炭素マスクを形成する。 - 特許庁

A method of applying anisotropic plasma etching to a silicon-on-insulator substrate wherein undercutting is substantially eliminated by utilizing, as a finishing etch step, a reactive ion etching process wherein ion density is reduced in order to limit ion charging within recesses of various sizes so that uniform etching can be performed in a vertical direction.例文帳に追加

垂直方向に一様なエッチングを行うように様々なサイズの凹部内のイオン充電を制限するためにイオン密度が低減される反応性イオン・エッチング工程を仕上げエッチング段階として使用することによってアンダカットが実質的になくなる、シリコン・オン・インシュレータ基板に異方性プラズマ・エッチングを施す方法を開示する。 - 特許庁