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reactive ion platingとは 意味・読み方・使い方
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「reactive ion plating」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 12件
The catalyst 4 with the dendritic structure is formed by a vacuum evaporation method like reactive sputter, reactive electron beam evaporation, or ion plating.例文帳に追加
樹枝状構造の触媒４は、反応性スパッタ、反応性電子ビーム蒸着、イオンプレーティング等の真空蒸着法により形成する。 - 特許庁
The selective patterning method includes a DC heating evaporation method, an ion beam evaporation method, a reactive ion beam evaporation method, a two-pole sputtering method, a magnetron sputtering method, a reactive sputtering method, a three-pole sputtering method, an ion beam sputtering method, an ion plating method, a hollow cathode beam method, an ion beam injection method and a plasma CVD method and the like.例文帳に追加
選択的パターニング方法は、直流加熱蒸着法、イオンビーム蒸着法、反応性イオンビーム蒸着法、２極スパッタ法、マグネトロンスパッタ法、反応性スパッタ法、３極スパッタ法、イオンビームスパッタ法、イオンプレーティング法、ホローカソードビーム法、イオンビーム注入法及びプラズマＣＶＤ法などである。 - 特許庁
Through reactive ion etching, the power supply film 12 in a region exposed from the plating film 15 is removed, and a desired wiring pattern 16 is obtained.例文帳に追加
ついで、反応性イオンエッチングによりメッキ被膜１５から露出した領域の給電膜１２を除去し、所望の配線パターン１６を得る。 - 特許庁
To eliminate the differences in levels within chips after copper plating by selectively removing the build-up segments of a projecting shape produced on the surface of a copper plating film without using lithography and reactive ion etching techniques.例文帳に追加
リソグラフィー技術や反応性イオンエッチング技術を用いることなく、銅メッキ膜表面に生じている凸状の盛り上がり部分を選択的に除去して、銅メッキ後のチップ内段差の解消を図る。 - 特許庁
To produce a transparent conductive film in which a crystallized ITO transparent conductive layer is formed on a transparent film substrate by using a reactive ion plating method, and to provide a method for producing the same.例文帳に追加
反応性イオンプレーティング法を用いて、透明フィルム基板に結晶化したＩＴＯ透明導電層を形成した透明導電性フィルム及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
The surface hardened layer is a nitrided layer formed by subjecting the surface of the alloy member body l to nitriding treatment or a coated layer formed by reactive sputtering or ion plating.例文帳に追加
表面硬化層は、合金部材本体１の表面を窒化処理することにより形成された窒化層、あるいは反応性スパッタまたはイオンプレーティングにより形成されたコーティング層である。 - 特許庁
This electrophotographic photoreceptor has an organic photosensitive layer containing at least an organic photoconductive compound and a binder resin and a protection layer on an electrical conductive supporting body in this order, and the protection layer is a film formed by reactive ion plating.例文帳に追加
導電性支持体上に少なくとも有機光導電性化合物とバインダー樹脂を含有する有機感光層、保護層をこの順に有し、該保護層が、反応性イオンプレーティングで形成された膜であることを特徴とする電子写真感光体。 - 特許庁
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「reactive ion plating」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 12件
This method is characterized by controlling a refraction index of a formed GeN thin film through controlling a nitro-pressure, a substrate temperature, and a high frequency output, with reactive high-frequency ion plating using Ge for an evaporation source in an atmosphere of introduced nitrogen gas.例文帳に追加
窒素ガスを導入した雰囲気で蒸発源としてＧｅを用いる反応性高周波イオンプレーティングであって、窒素ガス圧、基板温度および高周波出力を制御することで、屈折率を制御してＧｅＮ薄膜を形成する。 - 特許庁
Under the atmosphere into which organic gas containing fluorinated hydrocarbon is introduced, an inorganic optical thin film material is deposited on a substrate by reactive ion plating to deposit an optical composite thin film in which the inherent refractive index of inorganic optical thin film is changed.例文帳に追加
フッ素化炭化水素含有の有機物ガスを導入した雰囲気下で、無機光学薄膜材料を反応性イオンプレーティングによって基板上に堆積させて無機光学薄膜の固有屈折率を変化させた光学複合薄膜を形成する。 - 特許庁
The production method for the carbon composition material for the reducing atmosphere furnace is carried out by using metal Ta as a target material and the reactive gas containing C and forming the tantalum carbide coating film on the graphite substrate having the above thermal expansion coefficient as the characteristic value by an arc ion plating (AIP) type reactive vapor deposition method.例文帳に追加
また、本発明の還元性雰囲気炉用炭素複合材料の製造方法は、ターゲット材としての金属Ｔａ及びＣを含む反応ガスを使用してアークイオンプレーティング（ＡＩＰ）式反応性蒸着法により上記の熱膨張係数を特性値として有する黒鉛基材の表面に炭化タンタルの皮膜を形成する。 - 特許庁
A transparent gas barrier packaging material is produced by using at least one compd. selected from silane and disilane as a reactive gas and forming a metal oxide-containing thin film on at least one surface of the polymeric film by a method selected from a plasma CVD method and an ion plating method.例文帳に追加
一方、その製造方法は、反応性ガスとしてシランおよびジシランから選ばれた少なくとも一種を使用し、プラズマＣＶＤ法およびイオンプレーティング法から選ばれた方法により、高分子フィルムの少なくとも一面に前記金属酸化物含有薄膜を形成することを特徴とするものである。 - 特許庁
The thin ferroelectric films having uniaxial preferential orientability are manufactured by forming ≥2 kinds of the thin ferroelectric films having a plurality of kinds of the preferential orientability on a polycrystalline Pt film formed on a substrate of any among a single crystal, polycrystals, or amorphous material by using an a chemical solution deposition process and an arc discharge reactive ion plating process.例文帳に追加
化学溶液堆積法とアーク放電反応性イオンプレーティング法を用いて、単結晶、多結晶、非晶質の何れかの基体上に形成された多結晶のＰｔ膜上に、２種類以上の複数種の優先的な結晶配向性の強誘電体酸化物薄膜を形成し、１軸優先配向性の強誘電体薄膜を作製する。 - 特許庁
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反応性イオンプレーティング
日英・英日専門用語
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