solution planeとは 意味・読み方・使い方

The plastic molding body 50 is immersed in an Sn-Pb plating solution to form a patterned Sn-Pb layer 52 on the stripped plane 51.例文帳に追加

そして、樹脂封止体５０をＳｎ−Ｐｂめっき溶液に浸漬し、剥離面５１にパターニングされたＳｎ−Ｐｂ層５２を形成する。 - 特許庁

The sheet molding machine supplies a solution to a secondary storage unit having an open upper part for supplying solution to a blade for molding the sheet at an angle of 20° or more downward with respect to a horizontal plane.例文帳に追加

シート成形用ブレードへ溶液を供給するための上部が開放された２次貯留部へ、水平面に対して２０°以上下向きの角度で溶液を供給するシート成形装置とする。 - 特許庁

Further, the valve opening of the return line of the concentrated methane fermentation solution is changed in accordance with the membrane-permeating solution amount of the pressure type membrane separation apparatus, so that in-plane membrane pressure difference in the pressure type membrane separation apparatus can be adjusted and a prescribed membrane-permeating solution amount can be maintained.例文帳に追加

さらに、加圧型膜分離装置の膜透過液量に応じて、濃縮メタン発酵液の返送ラインの弁開度を変更し、加圧型膜分離装置内の膜面差圧を調整することにより、所定の膜透過液量を維持することができる。 - 特許庁

In another embodiment, a floater having a permanent magnet makes the target cells array along a single imaging plane within the sample solution.例文帳に追加

別の実施態様では、永久磁石を有するフローターにより、サンプル溶液内の単一画像化平面に沿って、標的細胞を整列させる。 - 特許庁

Anisotropic etching of silicon is carried out by using the etching solution which contains a metal compound and has ≥18×10^3 Å/minute etching speed of a (110) plane at 80°C and a ≥1.7 etching speed ratio (110)/(100) of a (100) plane orientation to a (110) plane orientation at 80°C.例文帳に追加

シリコンの異方性エッチングに用いるエッチング液は、金属化合物を含有し、８０℃における（１１０）面のエッチング速度が１８×１０^３Å／分以上であり、かつ８０℃における（１１０）面面方位と（１００）面面方位のエッチング速度比（１１０）／（１００）が１．７以上であるエッチング液を用いてエッチングする。 - 特許庁

The method of use thereof includes a process which makes the almost plane surface of polysilicon film contact with the solution which is highly aqueous and strongly basic for a sufficient time to make etching selectively the salient or the protrusion from the surface of the almost plane polysilicon film without etching significantly the almost plane polysilicon film.例文帳に追加

その使用方法は、概ね平面であるポリシリコン膜を有意にエッチングすることなく、概ね平面であるポリシリコン膜の表面を、該水性の高い強塩基性の溶液と、概ね平面であるポリシリコン膜の表面から隆起または突起を選択的にエッチングするのに十分な時間、接触させることを含む。 - 特許庁

The method of use thereof includes a process which contacts the almost plane surface of polysilicon film with the solution which is highly aqueous and strongly basic for a sufficient time to make etching selectively the upheaval or protrusion from the surface of the almost plane polysilicon film without etching significantly the almost plane polysilicon film.例文帳に追加

その使用方法は、概ね平面であるポリシリコン膜を有意にエッチングすることなく、概ね平面であるポリシリコン膜の表面を、該水性の高い強塩基性の溶液と、概ね平面であるポリシリコン膜の表面から隆起または突起を選択的にエッチングするのに十分な時間、接触させることを含む。 - 特許庁

A washing part 3 has a washing port to cause the washing solution for washing the nozzles 11-13 to bleed and a plane part to be extended in the moving direction of the nozzles.例文帳に追加

洗浄部３は、ノズル１１〜１３を洗浄するための洗浄液を湧出する洗浄口とノズルの移動方向に延びる平面状の部分とを有する。 - 特許庁