specular workingとは 意味・読み方・使い方

Reticulate knurling working is applied to the peripheral surface of the small diameter roller 2, and specular working is applied to the peripheral surface of the large diameter roller 3.例文帳に追加

小径のローラ２の外周面に網目状のローレット加工を施し、大径のローラ３の外周面に鏡面加工を施した。 - 特許庁

To provide a working method capable of performing specular cutting of a microscopically curved surface in high precision and in high efficiency.例文帳に追加

微小曲面を高精度で効率の高い鏡面切削加工ができる加工方法を提供する。 - 特許庁

To simply and effectively perform specular working of a wafer edge simultaneously with double-sided polishing of a semiconductor wafer by the same polishing time duration and the same effort as conventional.例文帳に追加

半導体ウェハの両面研磨と同時にウェハエッジ部の鏡面加工を、簡便に効率よく、従来と同じ研磨時間、手間でできるようにする。 - 特許庁

The elastic polishing clothes 1, 11 are suited flexibly to shapes of a tapered part 10a of a wafer edge 10 and a periphery radius 10b, and the specular working is enabled effectively.例文帳に追加

軟質の研磨布１、１１が、ウェハエッジ部１０のテーパー部１０ａや外周円弧部１０ｂの形状に柔軟に適合して、効率よく鏡面加工がなされ得る。 - 特許庁

To provide a metal surface rolling tool such as a tube expander tool to be used for diametrical expanding treatment not using lubricating oil as we 11 as to improve longevity, a roller varnishing working tool to be used for specular finishing treatment, etc., or improving longevity remarkably well in comparison with a conventional one.例文帳に追加

従来と比べて寿命を著しく向上させた、或いは、寿命の向上と共に潤滑油を使用しない拡径処理に用いるチューブエキスパンダ工具や鏡面仕上げ処理に用いるローラバニシング加工工具等の金属表面転圧工具を得る。 - 特許庁

To reduce white turbidity generated on a wafer face at an etching step and provide a wafer-face specular step in working of high quality, by adding hydrogen gas, ammonia gas or a mixed gas containing hydrogen or ammonia gas to sulfur hexafluoride gas.例文帳に追加

水素ガス，アンモニアガス，又はこれらのいずれかのガス含んだ混合ガスを六フッ化硫黄ガスに添加することにより、エッチング時におけるウエハ表面の白濁の発生を抑制すると共に高品質のウエハ鏡面加工を可能にするウエハエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polishing tool devised capable of acquiring removing depth precision stable and high in polishing performance at an early stage by impregnating a sufficient amount of working liquid up to the inside of the polishing tool in a short period of time and acquiring a high specular property.例文帳に追加

本発明の課題は、研磨工具の内部まで充分な量の加工液を短時間で含浸させることによって、早期に研磨能率が安定して高い除去深さ精度を得ることができ、かつ高い鏡面性が得られる研磨工具を工夫することである。 - 特許庁