silylation methodとは 意味・読み方・使い方

Next, a mask for processing of a connection hole and a wiring groove is formed by a silylation method.例文帳に追加

次に、接続孔及び配線溝の加工用マスクをシリル化法により形成する。 - 特許庁

To provide a silylation processing method which allows use of a compact silylation processing apparatus capable of reducing the processing cost and silylating a damaged portion of an inter-layer insulating film.例文帳に追加

コンパクトで処理コストの低減を可能ならしめるシリル化処理装置を用いることが可能な、層間絶縁膜のダメージ部をシリル化するシリル化処理方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a resist pattern forming method which is capable of making the best of a merit of a silylation process although width of a line can be precisely and uniformly controlled through a plane independently of size and density of a pattern, a method of manufacturing a semiconductor device, and a silylation device.例文帳に追加

パターンの粗密やサイズに関係なく、高精度且つ面内均一に線幅制御が可能でありながら、シリル化プロセスの利点を生かすことができるレジストパターンの形成方法、半導体装置の製造方法およびシリル化装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a reaction method by which a high catalytic activity and stability is manifested, and the regioselectivity of the hydro-silylation reaction product is improved in a hydro-silylation reaction of an organic compound having an unsaturated group and an H-Si functional silicon compound by using a platinum catalyst.例文帳に追加

白金触媒を用いる、不飽和基を有する有機化合物とＨ−Ｓｉ官能性ケイ素化合物とのヒドロシリル化反応において、高い触媒活性及び安定性を発現し、且つヒドロシリル化反応生成物の位置選択性を高める反応方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition for dry development with which it is possible to form a high resolution pattern with low line edge roughness in a silylation process, and a method for forming the resist pattern.例文帳に追加

シリル化プロセスにおいて、低ラインエッジラフネスで、高解像度なパターンの形成が可能となるドライ現像用の感光性樹脂組成物及びレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device manufacturing method and photolithography method by which a resist film can be removed without leaving residues in the edge sections of a substrate, at the time of patterning the resist film on the substrate through silylation.例文帳に追加

シリル化プロセスにより基板上にレジスト膜をパターン加工するときに、基板のエッジ部において残渣を残すことなく前記レジスト膜を除去することができる半導体装置の製造方法およびフォトリソグラフィー方法を提供する。 - 特許庁

The ammonium oligosilicate having a polyhedral skeleton is obtained by a simple method in which an alkyl silicate is reacted with a hydroxylated quaternary ammonium in a solvent, and the polysiloxane compound is obtained by the silylation reaction.例文帳に追加

アルキルシリケートと水酸化４級アンモニウムを溶媒中で反応させる簡便な方法により多面体骨格を有するアンモニウムオリゴシリケートが得られ、このシリル化反応により、ポリシロキサン化合物が得られる。 - 特許庁

With use of the mask and an RIE(reactive ion etching) method, removal of resist using an oxygen gas, etching of the film 3 and removal of a silylation layer 8 formed on a resist are repeated.例文帳に追加

次に、このマスクを用いて、ＲＩＥ法により、酸素ガスを用いたレジストの除去、ＣＨＦ_3とＣＦ_4とＡｒとの混合ガスにより、層間絶縁膜３のエッチング及びレジスト表面のシリル化層８除去を繰り返す。 - 特許庁