cf oとは 意味・読み方・使い方

cf O-Higashi Rebellion発音を聞く 例文帳に追加

⇒お東騒動 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

-[CF_2CX^1X^2]_a-[CF_2-CF(-O-(CF_2-CF(CF_2X^3))_b-O_c-(CFR^1)_d-(CFR^2)_e-(CF_2)_f-X^4)]_g-...(1)例文帳に追加

−［ＣＦ_2 ＣＸ^1 Ｘ^2 ］_a −［ＣＦ_2 −ＣＦ（−Ｏ−（ＣＦ_2 −ＣＦ（ＣＦ_2 Ｘ^3 ））_b −Ｏ_c −（ＣＦＲ^1 ）_d −（ＣＦＲ^2 ）_e −（ＣＦ_2 ）_f −Ｘ^4 ）］_g − ・・・・・（１） - 特許庁

The invention includes the organic peroxide includes a long chained polyfluoroalkyl group and is expressed by Rf[CF_2OCF(CF_3)]_n1C(=O) OO(C=O)[CF(CF_3)OCF_2]_n2Rf.例文帳に追加

Ｒｆ［ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）］_ｎ１Ｃ（＝Ｏ）ＯＯ（Ｃ＝Ｏ）［ＣＦ（ＣＦ_３）ＯＣＦ_２］_ｎ２Ｒｆで表される、長鎖ポリフルオロアルキル基含有有機過酸化物。 - 特許庁

Regarding the automatic focusing system, the IR-cutoff filter CF is arranged so that it can be inserted/retreated to/from the AF optical path of an optical axis O', branched by a half mirror M1 from the main optical path of the optical axis O of the photographic lens.例文帳に追加

撮影レンズの光軸Ｏの本線光路からハーフミラーＭ１によって分岐された光軸Ｏ'のＡＦ用光路にＩＲカットフィルターＣＦが挿脱可能に配置される。 - 特許庁

Process gas consisting of gas mixture including oxygen (O)-containing gas, noble gas and fluorocarbon gas (CF system gas) is used for plasma etching the organic film 102.例文帳に追加

この有機膜１０２のプラズマエッチングに、酸素（Ｏ）含有ガスと、希ガスと、フッ化炭素ガス（ＣＦ系ガス）とを含む混合ガスからなる処理ガスを用いる。 - 特許庁

The fluorocarbon may be replaced with a hydrofluoroether, such as n-C_4F_9OCH_3 and (CF_3)_2CFCF_2OCH_3, or a fluoroketone, such as CF_3CF_2C(O)CF(CF_3)_2.例文帳に追加

フルオロカーボンは、ｎ−Ｃ_４Ｆ_９ＯＣＨ_３、（ＣＦ_３）_２ＣＦＣＦ_２ＯＣＨ_３等のハイドロフルオロエーテル、若しくは、ＣＦ_３ＣＦ_２Ｃ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ_３）_２等のフルオロケトンとすることも可能である。 - 特許庁

A fluoridation additive that has several average molecular weights ranging from 250 to 400, and is expressed by an formula I (I): T'(C_3F_6 O)_n(CFXO)_mT is used especially for etching or polishing an integrated circuit having a compound of Cl(CF_2-CF(CF_3)O)_nCF_2COONa.例文帳に追加

２５０〜４００の範囲に数平均分子量を有する、式（Ｉ）： Ｔ’(Ｃ_3Ｆ_6Ｏ)_n(ＣＦＸＯ)_mＴ （Ｉ） のフッ素化添加剤、特に化合物Ｃｌ(ＣＦ_2-ＣＦ(ＣＦ_3)Ｏ)_nＣＦ_2ＣＯＯＮａの集積回路のエッチングまたはポリッシングにおける使用。 - 特許庁