chemical reaction layerとは 意味・読み方・使い方

Chemical reaction pool parts 11, 12 provided with an electrode layer and an electrode made of a carbon compound are formed on a surface of a cell 10 forming a basic plate for the microchip A for chemical reaction and having minute size.例文帳に追加

化学反応用マイクロチップＡの基板を形成する微小サイズのセル１０の表面に、電極層と炭素化合物の電極とを備えた化学反応プール部１１、１２を形成させる。 - 特許庁

A polysilicon layer made on a thin SiO2 layer is plasma-etched, using a chemical reaction based on HBr/HeO2, via a patterned SiO2 cap layer.例文帳に追加

薄いＳｉＯ_2層の上に形成されたポリシリコン層を、パターン形成されたＳｉＯ_2キャップ層を介して、ＨＢｒ／ＨｅＯ_2ベースの化学反応を用いてプラズマ・エッチングする。 - 特許庁

This causes a chemical reaction in the chamber, producing the as-grown-p-type active group III-V nitride compound layer.例文帳に追加

化学反応が生じてａｓ−ｇｒｏｗｎのｐ型活性ＩＩＩ−Ｖ族窒化化合物層が形成される。 - 特許庁

The buffer layer 2 prevents the chemical reaction of the substrate 1 with the coating film 3 and functions as a seed for crystallization.例文帳に追加

バッファ層２は、基材１と塗布膜３との化学反応を阻止するとともに、結晶化のシードとして機能する。 - 特許庁

The first protective layer 5 prevents the ultraviolet absorber 8 of the second protective layer 6 from being associated with the silver reflection layer 4, so that the chemical reaction of the ultraviolet absorber 8 and the silver reflection layer 4 occurs.例文帳に追加

第１保護層５は、第２保護層６の紫外線吸収剤８が銀反射層４と会合することを防止するので、紫外線吸収剤８と銀反射層４の化学反応が起きない。 - 特許庁

A silicon nitride barrier layer for preventing the diffusion of in-gate electrode layer impurity is formed by the chemical reaction of tetrachlorosilane and ammonia between a gate electrode layer and a gate dielectric layer with a high dielectric coefficient.例文帳に追加

ゲート電極層と高誘電係数のゲート誘電層の間に、テトラクロロシランとアンモニアとの化学反応で、ゲート電極層内不純物の拡散を阻止するための窒化シリコン障壁層を形成する。 - 特許庁

That is, the n+a-Si:H layer 5 is etched by a pure chemical etching depending upon the chemical reaction substantially only by the radical species 24 with no physical reaction to the n+a-Si:H layer 5 and an a-Si:H layer 4 by ion species, and the a-Si:H layer 4 is exposed in the channel forming region.例文帳に追加

つまり、イオン種によるｎ＋ａ−Ｓｉ：Ｈ層５及びａ−Ｓｉ：Ｈ層４に対する物理的反応を伴わない、実質的にラジカル種２４のみによる化学的反応に依拠する純化学的エッチングによって、ｎ＋ａ−Ｓｉ：Ｈ層５がエッチングされ、チャネル形成領域のａ−Ｓｉ：Ｈ層４が露出されることになる。 - 特許庁

The cleaning of the surface of the silicon substrate is made through a step of forming a reaction layer by causing a chemical reaction between the supplied hydrogen gas and fluorine-based gas and an oxide film formed on the exposed surface of the substrate, and another step of annealing the reaction layer so as to remove the layer by vaporization.例文帳に追加

前記洗浄段階はプラズマ状態の水素ガス及びフッ素系ガスを供給して前記シリコン基板の露出面に形成された酸化膜と化学的に反応させて反応層を形成する段階及び前記反応層を気化して除去できるようにアニーリングする段階よりなる。 - 特許庁