etch figureとは 意味・読み方・使い方

The insulating film 3 on the semiconductor substrate 1 is subjected to planarize treatment by using CMP or etch back, and the semiconductor substrate 1 is exposed (Figure (c)).例文帳に追加

そして、半導体基板１上の絶縁膜３をＣＭＰ又はエッチバックにより平坦化処理を施して、半導体基板１を露出させる（図１（ｃ））。 - 特許庁

After a resist pattern having a plurality of figures and thickness is formed through a developing process in a resist layer formed on a silicon substrate by using a photomask, the resist pattern on the silicon substrate is used as a mask to etch the surface of the silicon substrate at one time into the same figure as the resist pattern.例文帳に追加

フォトマスクを用いて、シリコン基板上に形成したレジスト層に、複数の形状及び厚みを有するレジストパターンを現像工程により形成した後に、シリコン基板上のレジストパターンをマスクに、レジストパターンと同様の形状で一括に、シリコン基板の表面をエッチング加工する。 - 特許庁