etching ratesとは 意味・読み方・使い方

PLASMA ETCHING TREATMENT THAT USES POLYMER ETCHING GASES OF DIFFERENT ETCHING AND POLYMERIZATION DEPOSITION RATES IN DIFFERENT RADIAL GAS INJECTION ZONES BY APPLYING TIME MODULATION例文帳に追加

異なるエッチング及び重合体堆積速度の重合エッチングガスを異なる半径方向ガス噴射区域において時間変調で用いるプラズマエッチング処理 - 特許庁

To provide a semiconductor device capable of evaluating differences between an etching rate of a dense pattern and etching rates of other parts in a dry etching.例文帳に追加

ドライエッチングにおける、パターンが密な部分のエッチングレートとその他の部分のエッチングレートとの差を評価することができる半導体装置を提供する。 - 特許庁

A first etchant 23 and a second etchant 24 with respectively different rates of etching are used.例文帳に追加

エッチングレートが異なる第１のエッチング液２３および第２のエッチング液２４を用いる。 - 特許庁

In the upper layer overetching step, as its etching conditions, the etching rates of the Ti/TiN layer 16 is made to nearly match the etching rate of the AlCu layer 15.例文帳に追加

この上層オーバエッチング工程では、エッチング条件が、Ｔｉ／ＴｉＮ層１６のエッチングレートとＡｌＣｕ層１５のエッチングレートとがほぼ一致するような条件に変更される。 - 特許庁

By using their different etching rates, a first hole 14 is formed in the third insulating film 12.例文帳に追加

エッチングレートの違いを利用して第３の絶縁膜１２に第１の孔１４を形成する。 - 特許庁

A plasma chamber 1 is supplied with etching gases A, B and C from etching gas cylinders 4 and 5 at flow rates of (a-a1), (b-b1) and (c-c1), respectively.例文帳に追加

プラズマチャンバ１にエッチングガスボンベ４、５からエッチングガスＡ、Ｂ及びＣが夫々流量（ａ−ａ_1）、（ｂ−ｂ_1）及び（ｃ−ｃ_1）で供給される。 - 特許庁

To provide an etching apparatus by which the dispersion of etching rates can be reduced as small as possible in forming a wiring pattern on a printed circuit board.例文帳に追加

プリント基板の配線パターンなどを形成するに際し、エッチング速度のバラツキを少なくできるようにしたエッチング装置を提供すること。 - 特許庁

The crystal anisotropic wet etching is known to have different etching rates depending on crystalline planes, and only a specific crystalline plane can be exhibited by crystal anisotropic etching.例文帳に追加

結晶異方性ウェットエッチングは結晶面によりエッチング速度が異なることが知られており、結晶異方性エッチングを行うことで特定の結晶面のみを表出することが出来る。 - 特許庁