etching reactionとは 意味・読み方・使い方

To provide an etching method exhibiting high rate of reaction and uniformity.例文帳に追加

反応速度が速く、均一性の良いエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To inhibit deposition of a reaction product that is generated in dry etching, and to carry out etching with high machining accuracy.例文帳に追加

ドライエッチング時に生じる反応生成物の付着を抑制して、高い加工精度でエッチングを行う。 - 特許庁

The reaction products produced by the chlorine series etching seeds have a higher vapor pressure than the reaction products produced by the fluorine series etching seeds, so that the etching rate of chlorine series etching seeds is slow, the reaction products of the fluorine series etching seeds are attached to the oxide film 2 and the tungsten film 3 and conducive to an improvement in shape controllability.例文帳に追加

塩素系エッチング種から生成される反応生成物は弗素系反応生成物の蒸気圧より高いのでエッチング速度は遅く、反応生成物は酸化膜２とタングステン膜３の表面に付着し、形状の制御性を向上させるためにも有効となる。 - 特許庁

To perform uniform etching, and eventually perform uniform cleaning in a reaction tube.例文帳に追加

均一なエッチング、延いては均一な反応管内のクリーニングを行なう。 - 特許庁

The etching gas supply means supplies, to the reaction room 11, an etching gas capable of forming reaction products by reacting with the target to be processed.例文帳に追加

エッチングガス供給手段は、加工対象と反応して反応生成物を生成可能なエッチングガスを反応室１１内に供給する。 - 特許庁

To provide an etching device, an etching method and a method for manufacturing semiconductor device capable of accurately etching a BARC without leaving an etching residue generated by reaction with a bose layer film.例文帳に追加

下地膜と反応したエッチング残渣が残ることなく、ＢＡＲＣを精度良くエッチングできるエッチング装置、エッチング方法及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

This reaction rate limiting type etching is executed with an acid etching liquid containing hydrofluoric acid and nitric acid, and further containing acetic acid.例文帳に追加

反応律速型エッチングはフッ酸及び硝酸を含む酸エッチング液により行われ、酢酸を更に含む。 - 特許庁

ELECTROCHEMICAL ETCHING PERFORMED IN FORM OF REACTION LIQUID FLUIDIZED ON WORKING FACE例文帳に追加

反応液が加工面を流動する形態で行う電気化学的エッチング - 特許庁