ex P.とは 意味・読み方・使い方

The device production system SYS has an exposure body portion EX which exposes a substrate P to light to transfer a pattern to the substrate P; conveying units H1 and H2 for conveying the substrate P from the exposure body portion EX to a stage portion ST; and a conveying unit H3 for conveying the substrate P from the stage portion ST to a substrate housing apparatus F.例文帳に追加

デバイス製造システムＳＹＳは、パターンを基板Ｐに露光する露光本体部ＥＸと、露光本体部ＥＸからステージ部ＳＴまで基板Ｐを搬送する搬送装置Ｈ１，Ｈ２と、ステージ部ＳＴから基板収納装置Ｆまで基板Ｐを搬送する搬送装置Ｈ３とを有している。 - 特許庁

The exposure apparatus EX is provided with a detecting device 60 that detects defects in thin films formed on the substrate P.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、基板Ｐ上に形成された薄膜の欠陥を検出する検出装置６０を備えている。 - 特許庁

The exposure device EX is a scanning exposure device wherein a mask M and a substrate P are moved synchronously to transfer the pattern PA of the mask M onto the substrate P through an projection optical system PL.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、マスクＭと基板Ｐとを同期移動してマスクＭのパターンＰＡを投影光学系ＰＬを介して基板Ｐ上に転写する走査型露光装置である。 - 特許庁

The exposure system EX fills a space between the projection lens system PL and the substrate P up with the liquid 50, and the substrate P is exposed by the projection lens system PL, by projecting an image of the pattern on the substrate P via the liquid 50.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、投影光学系ＰＬと基板Ｐとの間を液体５０で満たし、投影光学系ＰＬにより液体５０を介して基板Ｐ上にパターンの像を投影することによって基板Ｐを露光する。 - 特許庁

The exposure device SYS is provided with an exposure processing main body part EX which illuminates a mask M with exposing light EL to expose the pattern of the mask M to a photosensitive board P, and carrying systems MR and PR for carrying the mask and the photosensitive board P to the exposure processing main body part EX.例文帳に追加

露光装置ＳＹＳは、マスクＭを露光光ＥＬで照明し、マスクＭのパターンを感光基板Ｐに露光する露光処理本体部ＥＸと、露光処理本体部ＥＸに対してマスク及び感光基板Ｐを搬送する搬送系ＭＲ、ＰＲとを備えている。 - 特許庁

The exposure device EX comprises an exposure unit which exposes a substrate P to be exposed with a circuit pattern, and an alignment system 4 provided to penetrate the substrate P and to detect the position of the substrate P by passing light through an alignment mark AM becoming a position reference of exposure.例文帳に追加

本発明の露光装置ＥＸは、露光対象の基板Ｐに回路パターンを露光する露光部と、基板Ｐを貫通して設けられ、露光の位置基準となるアライメントマークＡＭに光を通して基板Ｐの位置を検出するアライメント系４を備える。 - 特許庁

An exposure device EX exposes a substrate P by projecting a pattern image on the substrate P through a projection optical system PL and liquid 1, and comprises a liquid supply mechanism 10 supplying the liquid 1 to a location between the projection optical system PL and the substrate P.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、投影光学系ＰＬと液体１とを介してパターン像を基板Ｐ上に投影することによって基板Ｐを露光するものであって、投影光学系ＰＬと基板Ｐとの間へ液体１を供給する液体供給機構１０を備えている。 - 特許庁

The exposure apparatus EX exposes a substrate P by irradiating the substrate P with exposure light EL through liquid 1, and comprises a substrate table PT for holding the substrate P, which is detachably provided with a plate member 30 having a liquid-shedding flat plane 30A.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、液体１を介して基板Ｐ上に露光光ＥＬを照射して、基板Ｐを露光するものであって、基板Ｐを保持するための基板テーブルＰＴを備え、基板テーブルＰＴに、撥液性の平坦面３０Ａを有するプレート部材３０が交換可能に設けられている。 - 特許庁