exposure stationとは意味・読み方・使い方

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意味・対訳暴露場

JST科学技術用語日英対訳辞書での「exposure station」の意味

exposure station

暴露場

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該当件数 : 45件

例文

The exposure apparatus is equipped with a support base that reciprocally moves between an exposure station and a work station.例文帳に追加

露光装置は、露光ステーションと作業ステーションとの間を往復移動する支持台を備える。 - 特許庁

PRINTING PRESS USING EXPOSURE STATION OF SMALL WATER FRONT REQUIREMENTS例文帳に追加

小ウオ—タフロント要件の露光ステ—ションを用いた印刷機 - 特許庁

A substrate processing system includes: a cassette station; a processing station 5; an interface station 7; and an exposure device 6.例文帳に追加

基板処理システムは、カセットステーションと、処理ステーション５と、インターフェイスステーション７と、露光装置６とを有している。 - 特許庁

The exposing device EX is equipped with a first exposure station ST 1 and a second exposure station ST 2 capable of exposing a photosensitive substrate P and a control system CONT for controlling the exposure in such a manner that after the first exposure is performed in the first exposure station ST 1, the photosensitive substrate P undergoing the first exposure is continuously subjected to second exposure at the second exposure station ST 2.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、感光基板Ｐを露光可能な第１露光ステーションＳＴ１及び第２露光ステーションＳＴ２と、第１露光ステーションＳＴ１で第１の露光を行った後、この第１の露光を行った感光基板Ｐに対して第２露光ステーションＳＴ２で第２の露光を連続して行うように制御する制御系ＣＯＮＴとを備えている。 - 特許庁

To precisely measure positions of fine movement stages holding wafers at an exposure station and a measurement station.例文帳に追加

露光ステーション及び計測ステーションでウエハを保持する微動ステージの位置を精度良く計測する。 - 特許庁

An exposure apparatus has a measurement station for measuring a substrate and an exposure station for exposing the substrate while controlling the substrate based on the measurement results at the measurement station, wherein the exposure apparatus carries out exposure of an N-th substrate (where N is a natural number) at the exposure station and measurement of an N+1-th substrate at the measurement station in parallel.例文帳に追加

露光装置は、基板を計測する計測ステーションと、前記計測ステーションにおける計測の結果に基づいて基板を制御しながら該基板を露光する露光ステーションとを有し、前記露光ステーションにおけるＮ枚目（Ｎは自然数）の基板の露光と前記計測ステーションにおける（Ｎ＋１）枚目の基板の計測とを並行して実行する。 - 特許庁

例文

When executing exposure by an exposure station and measurement by a measurement station in parallel with each other, reference mark measurement by the measurement station is executed again in the case where a time required for the exposure is longer than the time of the measurement.例文帳に追加

露光ステーションによる露光と、計測ステーションによる計測を並行して実行する際、露光に要する時間が計測の時間よりも長い場合、計測ステーションによる基準マーク計測を再度行う。 - 特許庁

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日英・英日専門用語辞書での「exposure station」の意味

exposure station

撮影位置，写真撮影点

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「exposure station」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 45件

例文

To make it easy to deliver a substrate between an alignment station and an exposure station without complicating the structure of a device.例文帳に追加

装置を複雑化することなく、アライメントステーションと露光ステーションの間で基板の受け渡しを可能とする。 - 特許庁

To execute alignment measurement processing and exposure processing respectively in an accurately temperature-controlled environment in an exposure device having two stages replaceable between an alignment station and an exposure station.例文帳に追加

アライメントステーションと露光ステーションとの間で入れ替え可能な２つのステージを有する露光装置において、アライメント用の計測処理と露光処理とをそれぞれ正確に温度制御された環境で実施する。 - 特許庁

To provide an exposure method and apparatus, and a device manufacturing method that can measure and correct a difference of a stage drive performance at a measuring position or at a measuring station and an exposure position or at an exposure station.例文帳に追加

計測位置または計測ステーションと露光位置または露光ステーションでのステージ駆動特性差を計測及び補正することができる露光方法及び露光装置、デバイス製造方法を提供する。 - 特許庁

For example, the liquid displacement device can be mounted on a liquid handling device at a light-exposure station and can be disposed adjacent to a transfer passage between the light-exposure station and a measuring station or adjacent to a load/unload station or the sensor in the transfer passage.例文帳に追加

例えば、液体変位デバイスは、露光ステーションの液体ハンドリングデバイスに搭載することができ、露光ステーションと測定ステーションとの間の移送経路に隣接して、又は移送経路内に、ロード／アンロードステーションに、又はセンサに隣接して配置することができる。 - 特許庁

The aligner 100 is provided with the measuring station 110 measuring alignment and a focus in a substrate P, an exposure station 120 scanning and exposing respective shot regions of the substrate P which are measured by the measuring station 110, and a main control part 141 controlling an exposure operation in the exposure station 120 based on a measured result in the measuring station 110.例文帳に追加

露光装置１００は、基板Ｐに対してアライメント計測およびフォーカス計測を行う計測ステーション１１０と、計測ステーション１１０で計測された基板Ｐの各ショット領域を走査露光する露光ステーション１２０と、計測ステーション１１０での計測結果に基づいて露光ステーション１２０での露光動作を制御する主制御部１４１と、を有する。 - 特許庁

The plurality of measurement points are arranged over a length substantially equal to or longer than the width of an exposure slit of an exposure station in a non-scanning direction.例文帳に追加