「exposure station」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

An exposure apparatus has a measurement station for measuring a substrate and an exposure station for exposing the substrate while controlling the substrate based on the measurement results at the measurement station, wherein the exposure apparatus carries out exposure of an N-th substrate (where N is a natural number) at the exposure station and measurement of an N+1-th substrate at the measurement station in parallel.例文帳に追加

露光装置は、基板を計測する計測ステーションと、前記計測ステーションにおける計測の結果に基づいて基板を制御しながら該基板を露光する露光ステーションとを有し、前記露光ステーションにおけるＮ枚目（Ｎは自然数）の基板の露光と前記計測ステーションにおける（Ｎ＋１）枚目の基板の計測とを並行して実行する。 - 特許庁

When executing exposure by an exposure station and measurement by a measurement station in parallel with each other, reference mark measurement by the measurement station is executed again in the case where a time required for the exposure is longer than the time of the measurement.例文帳に追加

露光ステーションによる露光と、計測ステーションによる計測を並行して実行する際、露光に要する時間が計測の時間よりも長い場合、計測ステーションによる基準マーク計測を再度行う。 - 特許庁

To make it easy to deliver a substrate between an alignment station and an exposure station without complicating the structure of a device.例文帳に追加

装置を複雑化することなく、アライメントステーションと露光ステーションの間で基板の受け渡しを可能とする。 - 特許庁

To execute alignment measurement processing and exposure processing respectively in an accurately temperature-controlled environment in an exposure device having two stages replaceable between an alignment station and an exposure station.例文帳に追加

アライメントステーションと露光ステーションとの間で入れ替え可能な２つのステージを有する露光装置において、アライメント用の計測処理と露光処理とをそれぞれ正確に温度制御された環境で実施する。 - 特許庁

To provide an exposure method and apparatus, and a device manufacturing method that can measure and correct a difference of a stage drive performance at a measuring position or at a measuring station and an exposure position or at an exposure station.例文帳に追加

計測位置または計測ステーションと露光位置または露光ステーションでのステージ駆動特性差を計測及び補正することができる露光方法及び露光装置、デバイス製造方法を提供する。 - 特許庁

For example, the liquid displacement device can be mounted on a liquid handling device at a light-exposure station and can be disposed adjacent to a transfer passage between the light-exposure station and a measuring station or adjacent to a load/unload station or the sensor in the transfer passage.例文帳に追加

例えば、液体変位デバイスは、露光ステーションの液体ハンドリングデバイスに搭載することができ、露光ステーションと測定ステーションとの間の移送経路に隣接して、又は移送経路内に、ロード／アンロードステーションに、又はセンサに隣接して配置することができる。 - 特許庁

The aligner 100 is provided with the measuring station 110 measuring alignment and a focus in a substrate P, an exposure station 120 scanning and exposing respective shot regions of the substrate P which are measured by the measuring station 110, and a main control part 141 controlling an exposure operation in the exposure station 120 based on a measured result in the measuring station 110.例文帳に追加

露光装置１００は、基板Ｐに対してアライメント計測およびフォーカス計測を行う計測ステーション１１０と、計測ステーション１１０で計測された基板Ｐの各ショット領域を走査露光する露光ステーション１２０と、計測ステーション１１０での計測結果に基づいて露光ステーション１２０での露光動作を制御する主制御部１４１と、を有する。 - 特許庁

The plurality of measurement points are arranged over a length substantially equal to or longer than the width of an exposure slit of an exposure station in a non-scanning direction.例文帳に追加

複数の計測ポイントは、露光ステーションにおける露光スリットの非走査方向の幅とほぼ等しいか、又はそれ以上の長さにわたって配置されている。 - 特許庁

FIXED ARM ACTION STATE DISPLAY UNIT OF DEVICE REPLACING MECHANISM IN EXPOSURE PALLET PART IN SPACE STATION EXPERIMENTAL MODULE例文帳に追加

宇宙ステーション実験モジュールの曝露パレット部装置交換機構の固定アーム動作状態表示装置 - 特許庁

The support base receives the photomask 4 on the center support region 21 and on the rim support region 22 at the work station and conveys the photomask 4 to the exposure station.例文帳に追加

支持台は、作業ステーションにてフォトマスク４を中央支持領域２１および周縁支持領域２２上に受け取り、フォトマスク４を露光ステーションまで運ぶ。 - 特許庁

An exposure apparatus 100 has a third fine movement stage position measurement system which can measure positional information of the stage WFS2 when the stage WFS2 is carried from the measurement station 300 to the exposure station 200.例文帳に追加

露光装置１００は、ステージＷＦＳ２が計測ステーション３００から露光ステーション２００へ搬送される際、このステージＷＦＳ２の位置情報を計測可能な第３の微動ステージ計測系を有する。 - 特許庁

The exposure device is provided with a first blowout part 150a for blowing out a temperature-controlled gas toward a measurement processing region 120a in the alignment station 120, and a second blowout part 150b for blowing out a temperature-controlled gas toward an exposure processing region 111a in the exposure station 111.例文帳に追加

露光装置は、アライメントステーション１２０内の計測処理領域１２０ａに向けて温調された気体を吹出す第１吹出部１５０ａと、露光ステーション１１１内の露光処理領域１１１ａに向けて温調された気体を吹出す第２吹出部１５０ｂとを備える。 - 特許庁

The exposure apparatus has a controller that determines whether it should carry out second-round measurement on an N+1-th substrate at the measurement station in accordance with the time length from the completion of the first-round measurement of the N+1-th substrate at the measurement station till the exposure of the N-th substrate is completed at the exposure station.例文帳に追加

前記露光装置は、前記計測ステーションにおいて（Ｎ＋１）枚目の基板の１回目の計測処理が完了してから前記露光ステーションにおいてＮ枚目の基板の露光処理が完了するまでの時間に応じて前記計測ステーションにおいて（Ｎ＋１）枚目の基板の２回目の計測処理を実行するべきか否かを決定する制御部を備える。 - 特許庁

To provide a lithographic projection apparatus, in which interferometer systems 6, 8, 14, 15, and 16 have a capacity area, extending over a measurement station 4 and a exposure station 2, and a method.例文帳に追加

干渉計システム６、８、１４、１５、１６が第１の測定ステーション４及び第２の露光ステーション２にわたって広がる能力範囲を有するリソグラフィ投影装置１及び方法。 - 特許庁

A post exposure device is disposed between a developing device and a primary transfer part around the photoreceptor drum at a downstream image forming station.例文帳に追加

下流の画像形成ステーションで、感光ドラムの周囲のうち、現像装置と一次転写部との間に、ポスト露光装置を配置する。 - 特許庁

An exposure station 200 equipped with a projection optical system PL and the like, and a measurement station 300 equipped with an alignment device 99 and the like, are arranged so that the reference axes LV and LH thereof intersect perpendicularly.例文帳に追加

投影光学系ＰＬ等を備える露光ステーション２００とアライメント装置９９等を備える計測ステーション３００とが、それぞれの基準軸ＬＶ，ＬＨが直交するように、配置されている。 - 特許庁

The gas blowing-out direction (an X direction) from the first/second blowout parts 150a, 150b is almost orthogonal to the arrangement direction (a Y direction) of the alignment station 120 and the exposure station 111.例文帳に追加

第１吹出部１５０ａ及び第２吹出部１５０ｂからの気体の吹出の方向（Ｘ方向）は、アライメントステーション１２０及び露光ステーション１１１が配列された方向（Ｙ方向）とほぼ直交している。 - 特許庁

Then, the substrate table carrying the substrate is moved to an exposure station (to the left of figure 8) and vertical positions of the physical reference surface is again determined.例文帳に追加

次に、この基板を坦持する基板テーブルを露出ステーション（図８の左）へ移し、物理的参照面の垂直位置を再び決定する。 - 特許庁

The image forming device with the densitometer diagnostic system has a photoconductor 1 or more chargers, an exposure device, the toning station and the densitometer.例文帳に追加

濃度計診断システム付画像形成装置は、光伝導体、一つ以上のチャージャー、露出装置、トーニング・ステーション、及び濃度計を備え得る。 - 特許庁

A dual stage lithographic apparatus is provided with alignment marks to definitely establish the geometric configuration of the lateral mirrors, which are used only in the exposure station, so that the geometric configuration of the lateral mirrors can be measured while the substrate table is in the measurement station.例文帳に追加

基板テーブルが測定ステーションにある場合に、横ミラーの幾何形状を測定するように露光ステーションでのみ使用される横ミラーの幾何形状を規定するアライメントマークを備えたデュアルステージリソグラフィ装置。 - 特許庁

The inside of an interface station S3 located between a processing station S2, at which a development process is carried out and an exposure system S4 is cooled down to a temperature of 10 to 15°C at which a resolution reaction hardly proceeds, and a heating section 31 promoting a resolution reaction in resist is provided inside the interface station S3.例文帳に追加

現像処理等を行う処理ステ−ションＳ２と露光装置Ｓ４との間のインターフェイスステーションＳ３内をレジストの解像反応の進行を抑える程度の温度例えば１０〜１５℃程度に冷却すると共に、ここにレジストの解像反応を促進させる加熱部３１を設ける。 - 特許庁

The exposure apparatus exposes a substrate through the mask 1, and includes a station portion (exposure chamber 43 etc.) which cleans the mask 1, and a mask handling portion 9 which conveys a cleaning unit (foreign matter inspection device 7, foreign matter removing device 8-1, and foreign matter sticking preventing device 24) for cleaning the mask 1 to the station portion.例文帳に追加

本発明の露光装置は、マスク１を介して基板を露光する露光装置であって、マスク１のクリーン化を行うステーション部（露光室４３等）と、マスク１のクリーン化を行うクリーン化ユニット（異物検査装置７、異物除去装置８−１、異物付着防止装置２４）をステーション部に搬送するマスクハンドリング部９とを有する。 - 特許庁

In an exposure station 18, the surface 32 is exposed to form an electrostatic latent image, in a developing station 20, a toner image is formed by developing the electrostatic latent image with a toner-containing developer, and in a transfer station, the toner image is transferred to a recording medium 28 under a positive biased charging corotron.例文帳に追加

次いで、露光ステーション１８にてその面３２を露光させて静電潜像を発生させ、現像ステーション２０にてトナーを含む現像材でその静電潜像を現像してトナー像を発生させ、転写ステーションにてそのトナー像を帯電用正バイアスコロトロンの許で記録媒体２８上に転写させる。 - 特許庁

The encoder system has an encoder head, arranged in the moving body and a scale plate that is arranged at a position that can be made to face the encoder head of the moving body, arranged in the exposure station and the encoder head of the moving body arranged in the measurement station, respectively.例文帳に追加

エンコーダシステムは、移動体に配置されたエンコーダヘッドと、露光ステーションに配置される移動体のエンコーダヘッド、及び計測ステーションに配置される移動体のエンコーダヘッドのそれぞれと対向可能な位置に配置されたスケール板とを有する。 - 特許庁

A dual stage lithographic apparatus is so provided with an alignment mark for specifying geometric shape of the lateral mirrors 66 and 68 used only by an exposure station, as to measure the geometric shape of the lateral mirrors 66 and 68 in the case where the substrate table WT is at a measurement station.例文帳に追加

基板テーブルＷＴが測定ステーションにある場合に、横ミラー６６、６８の幾何形状を測定するように露光ステーションでのみ使用される横ミラー６６、６８の幾何形状を規定するアライメントマークを備えたデュアルステージリソグラフィ装置。 - 特許庁

A center table 130 for relaying the fine movement stages WFS1 and WFS2 between the coarse movement stages WCS1 and WCS2 is installed on the intersection of the reference axes LV and LH that come away respectively from the exposure station 200 and the measurement station 300.例文帳に追加

さらに、露光ステーション２００と計測ステーション３００とのそれぞれから離間する基準軸ＬＶ，ＬＨの交点上に、粗動ステージＷＣＳ１，ＷＣＳ２間で微動ステージＷＦＳ１，ＷＦＳ２をリレーするためのセンターテーブル１３０が設置されている。 - 特許庁

The correction amount is determined at the focus station to be the amount reducing the difference between a reference potential, which is a surface potential of the photosensitive drum after exposure when a ghost is not generated, and a surface potential of the photosensitive drum after exposure when the ghost is generated.例文帳に追加

当該補正量は、着目ステーションにおいて、ゴーストが生じない場合の露光後の感光ドラムの表面電位を基準電位として、ゴーストが生じた場合の露光後の感光ドラムの表面電位と当該基準電位との差分を低減する補正量に決定される。 - 特許庁

In a first image-forming station, a photoreceptor drum 21 starts exposure later than a color-based synchronization signal Vsync by a waiting time corresponding to a rotational position at the time when the Vsync is given.例文帳に追加

第１画像形成ステーションでは、色別垂直同期信号Ｖsyncが与えられたときの回転位置に応じた待機時間だけＶsyncタイミングから遅延したタイミングで感光体ドラム２１の露光が開始される。 - 特許庁

In a second image-forming station, the photoreceptor drum 21 starts exposure later than the color-based synchronization signal Vsync by the waiting time corresponding to the rotational position at the time when the Vsync is given.例文帳に追加

また、第２画像形成ステーションでは、色別垂直同期信号Ｖsyncが与えられたときの回転位置に応じた待機時間だけＶsyncタイミングから遅延したタイミングで感光体ドラム２１の露光が開始される。 - 特許庁

To provide a method for correcting the gray scale and an imaging apparatus in which an appropriate gray scale representation of an image being formed can be attained by extracting a range to be used for gray scale representation from the quantity of exposure being regulated stepwise and performing effective control of the quantity of exposure conforming to the development characteristics of an imaging station.例文帳に追加

段階的に調整される露光量のうち階調表現に使用すべき範囲を抽出して、画像形成ステーションの現像特性に適合した有効な露光量の制御をすることにより、形成される画像の適正な階調表現を可能にする階調補正方法および画像形成装置を提供する。 - 特許庁

An advertisement company server 2 sets a condition on the exposure of an advertisement concerning advertisement contents received from an advertiser server 1, generates a script containing set contents and supplies it to a broadcasting station 3 together with the advertisement contents.例文帳に追加

広告会社サーバ２は、広告主サーバ１から受けた広告コンテンツについて、広告の露出に関する条件を設定し、設定内容を含むスクリプトを生成し、広告コンテンツとともに放送局３に供給する。 - 特許庁

Therefore, the photo truck 12 of the system 10 is equipped with a controller 16 and a measurement tool 14 linked to the station of an operator, in addition to a cover tool, an exposure too, and a development tool.例文帳に追加

仕掛品の少なくとも１つのパラメータを測定し、それを表す測定済みデータを生じさせるために、加工ツールによる仕掛品の処理の前に前記仕掛品に適用される測定ツール１４を提供する。 - 特許庁

In an exposure station 200, positional information of a stage WFS1 for holding a wafer is measured by a first fine movement stage position measurement system including a measurement arm 71A, and in a measurement station 300, positional information of a stage WFS2 for holding a wafer is measured by a second fine movement stage position measurement system including a measurement arm 71B.例文帳に追加

露光ステーション２００では、ウエハを保持するステージＷＦＳ１の位置情報は、計測アーム７１Ａを含む第１の微動ステージ位置計測系により計測され、計測ステーション３００では、ウエハを保持するステージＷＦＳ２の位置情報は、計測アーム７１Ｂを含む第２の微動ステージ位置計測系により計測される。 - 特許庁

The interface station 7 includes: a storage vessel 300 storing a plurality of wafers W at multiple stages in the vertical direction and formed with openings 301, 302 on side faces on the processing station 5 side and on the exposure device 6 side; and diffusion plates 310, 311 horizontally projecting from the upper surface of the storage vessel 300.例文帳に追加

インターフェイスステーション７は、複数のウェハＷを上下方向に多段に収容し、処理ステーション５側と露光装置６側の側面に開口部３０１、３０２が形成された収容容器３００と、収容容器３００の上面から水平方向に張り出した拡散板３１０、３１１と、を有する。 - 特許庁

In advance, the intermediate transfer belt 31 is rotated and an image forming station 2K is operated (wherein exposure is turned off), only the carrier liquid is moved from a developing roller 241 to a photoreceptor 21, and then, transferred to the intermediate transfer belt 31.例文帳に追加

予め中間転写ベルト３１を回転させるとともに画像形成ステーション２Ｋを動作させ（ただし露光オフ）、現像ローラー２４１からキャリア液のみを感光体２１に移行させ、さらに中間転写ベルト３１に転写させる。 - 特許庁

When the wafer W on the fine movement stage WFS1 supported by a coarse movement stage WCS1 is exposed via a projection optical system PL with an illumination light IL at the exposure station 200, the position of the fine movement stage WFS1 within an XY plane is measured with good precision by a measurement system 70A.例文帳に追加

露光ステーション２００で、粗動ステージＷＣＳ１に支持された微動ステージＷＦＳ１上のウエハＷが照明光ＩＬで投影光学系ＰＬを介して露光される際に、計測系７０Ａにより微動ステージＷＦＳ１のＸＹ平面内の位置を精度良く計測する。 - 特許庁

At a retail shop, when a delivery operator checking a delivery label 400 detects that a commodity to be delivered has a quality problem due to exposure to a high temperature atmosphere, he/she photographs the delivery label 400 by a cellular phone 100 to transmit its image data to a warehouse 20 via a base station 200.例文帳に追加

小売店において、配送用ラベル４００をチェックした配送担当者は配送予定の商品が高温雰囲気に曝され、品質に問題があることを検知し、携帯電話１００に配送用ラベル４００を撮像させ、この画像データを基地局２００経由で倉庫２０へ送信させる。 - 特許庁

The image forming device comprises at least one or more image forming stations in which an electrifying means, an exposure means using an optical scanning device, a development means, and a transfer means are arranged around a photosensitive body, and transfers a toner image formed in the image forming station to a transfer medium.例文帳に追加

感光体の周囲に帯電手段、光走査装置を用いた露光手段、現像手段、転写手段を配した画像形成ステーションを少なくとも１つ以上設け、その画像形成ステーションで形成されたトナー像を転写媒体に転写させる画像形成装置。 - 特許庁

And, the absolute value of the surface potential Vr in this region is decreased lower than the absolute value of the potential Vd charged by a charging roller by exposing a region in which the second toner image is not formed around the surface of the photoreceptor of the downstream image forming station by the post exposure device.例文帳に追加

そして、ポスト露光装置により、下流の画像形成ステーションの感光ドラムの表面のうち、第２のトナー像が形成されていない領域を露光して、この領域の表面電位Ｖｒの絶対値を、帯電ローラにより帯電された電位Ｖｄの絶対値よりも低下させる。 - 特許庁

The image forming apparatus is provided with at least one or more image forming stations where an electrifying means, an exposure means using an optical scanner having a rotating polygon mirror, a developing means and a transfer means are arranged around an image carrier, and a toner image formed in the image forming station is transferred to a transfer medium.例文帳に追加

像担持体の周囲に帯電手段、回転多面鏡を有する光走査装置を用いた露光手段、現像手段、転写手段を配した画像形成ステーションを少なくとも１つ以上設け、その画像形成ステーションで形成されたトナー像を転写媒体に転写させる画像形成装置。 - 特許庁