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finished dimensionとは 意味・読み方・使い方
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「finished dimension」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 45件
To provide a high accuracy semiconductor integrated circuit for which the variation of a finished dimension is suppressed and the finished dimension is uniformized.例文帳に追加
仕上がり寸法のバラツキをより抑えて仕上り寸法を均一にできる高精度の半導体集積回路を得る。 - 特許庁
A test mold with a dimension approximate to a desired dimension of a finished component is produced.例文帳に追加
最終部品の所望の寸法に近似する寸法を有する試験金型を作製する。 - 特許庁
Then, a simulation error caused from the difference between a design dimension and an actually finished dimension can be reduced.例文帳に追加
設計寸法と実仕上がり寸法の誤差に起因する回路シミュレーション誤差を低減できる。 - 特許庁
The through hole 22 is finished to the required dimension 26 by second cutting being finish machining.例文帳に追加
仕上げ加工であるセカンドカットで、貫通穴２２を要求寸法２６へ仕上げる。 - 特許庁
Through the correction of the shooting period, the finished dimension of the pattern M2 in the Y direction is equal to the designed dimension thereof.例文帳に追加
ショット時間が補正された効果によって、Ｙ方向に関するパターンＭ２の仕上がり寸法は、設計寸法に等しくなっている。 - 特許庁
To provide a mask verifying method for precisely ensuring a finished dimension of a mask pattern.例文帳に追加
マスクパターンの仕上がり寸法保証を正確に行なうマスク検証方法を提供すること。 - 特許庁
Then, the thickness dimension is finished in a prescribed dimension forming the composite piezoelectric material 2 wherein the processed front face is defined as a prescribed state.例文帳に追加
すると、厚み寸法が所定寸法に仕上げられ、前面の加工状態を所定状態に規定した複合圧電体２が形成される。 - 特許庁
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「finished dimension」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 45件
To obtain a pattern drawing method capable of properly correcting an error in a finished dimension based upon a designed dimension when one pattern is drawn by a plurality of shots.例文帳に追加
複数のショットによって一つのパターンを描画する場合に、設計寸法に対する仕上がり寸法の誤差を適切に補正し得るパターン描画方法を得る。 - 特許庁
An inner diameter dimension and an outer diameter dimension as expected before burning are provided, and a seal ring of which inner and outer diameter are used as finished surface without correction by turning is manufactured.例文帳に追加
焼成前に予想した通りの内径寸法と外径寸法が得られ、内・外径を旋削によって修正せずとも仕上げ面として使用できるシールリングを製造できる。 - 特許庁
A correction dimension selecting means 42 selects a correction dimension δ relating to a correction pattern feature 23 which gives the highest evaluation of the finished state of the semiconductor device in each design dimension Wd based on the evaluation result 51.例文帳に追加
補正寸法選択手段４２は、評価結果５１に基づいて、設計寸法Ｗｄ毎に、半導体デバイスの仕上り状態の評価が最も高くなる補正パターン図形２３に関する補正寸法δを選択する。 - 特許庁
An estimated finished dimension, for example, a gate length obtained from data corrected through OPC is reflected (back annotation) in a circuit diagram (schematic).例文帳に追加
ＯＰＣによって補正を掛けられたデータより得られる推定仕上がり寸法、例えば、ゲート長を回路図（schematic)に反映する（Back Annotation）。 - 特許庁
To provide an etching processing apparatus and an etching processing method for fine-adjusting the etching process conditions so as to attain a desired finished dimension while suppressing variations in the pattern finish dimensions.例文帳に追加
エッチング処理条件を微調整して、パターン完成寸法のばらつきを押さえつつ所望の完成寸法を得る。 - 特許庁
To provide a measuring instrument which can measure a finished cutting dimension in the direction from top to bottom in a printed book on a three-way cutting machine.例文帳に追加
三方断裁機上で、刷本において天地方向となる断裁仕上げ寸法を精度良く測定できる測定器具を提供する。 - 特許庁
To provide a measuring instrument which can measure a finished cutting dimension in the direction from right to left in a printed book on a three-way cutting machine.例文帳に追加
三方断裁機上で、刷本において左右方向となる断裁仕上げ寸法を精度良く測定できる測定器具を提供する。 - 特許庁
The correcting device performs OPC of matching finished dimension by simulation within a movable range of a correcting object edge in which the process margin is secured and predicts a finished layout pattern at high speed and with high accuracy.例文帳に追加
この補正装置は、プロセスマージンを確保できる補正対象エッジの移動可能範囲内で、シミュレーションにより仕上がり寸法合わせのＯＰＣを行い、仕上がりレイアウトパターンを高速、高精度で予測する。 - 特許庁
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