gate oxidationとは 意味・読み方・使い方

Then, by the RIE, after a trench for a trench gate is formed, sacrificial oxidation and gate one are carried out.例文帳に追加

次に、ＲＩＥにより、トレンチゲートのためのトレンチを形成した後、犠牲酸化及びゲート酸化を行う。 - 特許庁

Since oxidation of the polysilicon upon the selective oxidation can be suppressed, variations in the thickness of the gate oxide film can be suppressed.例文帳に追加

選択酸化時のポリシリコンの酸化を抑制することで、ゲート酸化膜厚のばらつきを抑える事ができる。 - 特許庁

The plasma oxidation shortens ingress distance of oxidized species, and controls oxidation of a polysilicon film and a gate insulating film.例文帳に追加

プラズマ酸化により酸化種の侵入距離を短くし、ポリシリコン膜やゲート絶縁膜の酸化を抑制する。 - 特許庁

To disclose a single tunnel gate oxidation method for fabricating a NAND memory string where a gate oxide (24) of select transistor and floating gate memory transistor is fabricated in a single oxidation step.例文帳に追加

選択トランジスタと浮遊ゲート・メモリ・トランジスタのゲート酸化物（２４）を単一の酸化工程で製造する、ＮＡＮＤメモリ・ストリングを製造するための単一トンネル・ゲート酸化方法を開示する。 - 特許庁

To provide a single tunnel gate oxidation process for fabricating NAND memory strings in which gate oxide of the selection transistor and floating gate memory transistor is fabricated in a single oxidation step.例文帳に追加

選択トランジスタ及び浮遊ゲート・メモリ・トランジスタのゲート酸化物を１つの酸化工程で製造する、ＮＡＮＤメモリ・ストリングを製造するための単一トンネル・ゲート酸化方法を提供する。 - 特許庁

To suppress the oxidation of a gate electrode due to the diffusion of an oxidizing agent during annealing.例文帳に追加

アニール時の酸化剤の拡散によるゲート電極の酸化を抑制する。 - 特許庁

The gate insulating film is formed by a thermal oxidation method by using dry oxygen.例文帳に追加

また、ゲート絶縁膜を乾燥酸素を用いた熱酸化法で形成する。 - 特許庁

Subsequently, gate oxidation is performed and a gate insulation film 5a is formed on the sidewall of the trench 4 and a gate insulation film 5b thicker than the gate insulation film 5a is formed on the bottom face of the trench 4.例文帳に追加

その後、ゲート酸化を行い、トレンチ４の側壁にゲート絶縁膜５ａを、トレンチ４の底面にゲート絶縁膜５ａより厚いゲート絶縁膜５ｂを形成する。 - 特許庁