ion sputteredとは 意味・読み方・使い方

To provide a structure of an ion beam current measuring apparatus, where the area of a part to be sputtered is reduced by changing the shape of flag Faraday, or the area of the part to be sputtered can be reduced by changing the shape of a carbon plate or the like which is used as a cover.例文帳に追加

フラグファラデー形状を変更し、スパッタされる部分の面積を小さくする、またはカバーとして用いるカーボン板などの形状を変更し、スパッタされる部分の面積を小さくすることができるイオンビーム電流計測装置の構造を提供する。 - 特許庁

The ion beam sputtering system performs deposition on a substrate 14 by the particles jumped out of a target 21 by irradiating the target 21 with the ion beam 17, in which the shape of the sputtered surface 21a of the target 21 is formed as a recessed surface shape.例文帳に追加

ターゲット２１にイオンビーム１７を照射し、ターゲット２１から飛び出した粒子によって基板１４上に成膜を行うイオンビームスパッタ装置において、ターゲット２１のスパッタリングされる表面２１ａの形状を凹面形状とする。 - 特許庁

At that time, since the sputtered particles (b) are not magnetized, they are deposited uniformly on the anode 7, without being affected by a magnetic field E formed in the ion chamber 3.例文帳に追加

その際、スパッタ粒子ｂは磁性を有していないので、スパッタ粒子ｂはイオン化室３に形成された磁場Ｅの影響を受けることなくアノード７上に一様に堆積する。 - 特許庁

To provide a sample preparation method for a microsampling operation using a focused ion beam, which prevents substances sputtered by and which prevents sample processing from adhering to a sample surface.例文帳に追加

集束イオンビームを用いたマイクロサンプリングにおいて、試料加工の妨げとなる、スパッタリングされた物質の試料表面への付着を防止する試料の作製方法を提供する。 - 特許庁

In an apparatus for manufacturing the diffraction grating, an ion source 4 of applying ion beams, a target material 2 irradiated with ions so as to be sputtered, and a substrate 1 on which atoms driven away from the target material 2 are deposited are installed, and a mask 3 is arranged between the target material 2 and the substrate 1.例文帳に追加

イオンビームを照射するイオン源４とイオンが照射されてスパッタリングされるターゲット材２とターゲット材２から叩き出された原子が堆積する基板１が設置され、ターゲット材２と基板１の間にはマスク３が配設されている。 - 特許庁

Since the scattering plate 11 in the ion trap 9 has a corrugated plate shape, the incident angle of a part of the ions made incident on the scattering plate 11 is made shallow, and the scattering plate 11 is made hard to be sputtered.例文帳に追加

イオントラップ９の散乱板１１は波板状となっているので、散乱板１１に入射するイオンの一部はその入射角が浅くなり、散乱板１１はスパッタされにくくなる。 - 特許庁

The composite target materials are successively sputtered by using a common ion gun 2 so that vitreous films with the refractive index varying stepwise can be successively deposited on the surface of a substrate 3 with high accuracy.例文帳に追加

共通のイオンガン２で、前記複合ターゲット材料毎に順にスパッタすることで、基板３の表面に、屈折率が段階的に変化するガラス質の膜を高精度な膜厚で順次積層できる。 - 特許庁

To prevent generation of gas molecules and sputter particles generated by impact of other gas ions except sputtered metal ions on the inner wall of a wave guide in an ion accelerator equipped with a sputter type ion source and a mass separation mechanism to reduce the mixing of impurities on the downstream side.例文帳に追加

スパッタ型イオン源と質量分離機構を備えたイオン加速器において、スパッタさせた金属イオン以外のガスイオンがウェーブガイドの内壁に衝突することにより発生するガス分子やスパッタ粒子の発生を抑制して下流側での不純物の混人を低滅できるようにする。 - 特許庁