ion vapor depositionとは 意味・読み方・使い方

The second oblique vapor deposition films 23 with gentle inclination are formed by ion-assist vapor deposition.例文帳に追加

緩傾斜の第２種の斜め蒸着膜２３は、イオンアシスト蒸着によって形成される。 - 特許庁

On a slide surface S2 of an outer clutch plate 34b, a diamond- like carbon thin film D is applied by a known method such as a CVD(Chemical Vapor Deposition) method, a PVD(Physical Vapor Deposition) method, and an ion deposition method.例文帳に追加

アウタクラッチプレート３４ｂの摺動面Ｓ２にＣＶＤ（ChemicalVapor Deposition ）法、ＰＶＤ（Physical Vapor Deposition ）法、イオン蒸着法等の公知の方法によりダイヤモンド状炭素薄膜Ｄを施す。 - 特許庁

A DLC-Si thin film D is applied to a sliding surface S2 of an outer clutch plate 34b by publicly known method such as CVD (Chemical Vapor Deposition) method, PVD (Physical Vapor Deposition) method and Ion Deposition method or the like.例文帳に追加

アウタクラッチプレート３４ｂの摺動面Ｓ２にＣＶＤ（ChemicalVapor Deposition ）法、ＰＶＤ（Physical Vapor Deposition ）法、イオン蒸着法等の公知の方法によりＤＬＣ−Ｓｉ薄膜Ｄを施す。 - 特許庁

The inorganic oxide layer is preferably manufactured by a vacuum deposition method, a spattering method, an ionization vapor deposition method, an ion beam method, or a chemical vapor phase deposition method.例文帳に追加

前記無機酸化物層は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオン化蒸着法、イオンビーム法、または化学気相蒸着法により作製されるのが好ましい。 - 特許庁

Further, it is possible that a vapor deposition with the vapor generated from the molten solution is performed simultaneously with the ion implantation.例文帳に追加

また、融液から発する蒸気による蒸着をイオン注入と同時に行うこともできる。 - 特許庁

The inorganic oriented film layer 41 is formed by, for example, a rhombic vapor-deposition process and the organic oriented film layer 42 is formed by an ion vapor-deposition process using an acrylic monomer as a vapor deposition material.例文帳に追加

無機配向膜層４１は例えば斜方蒸着法により形成され、有機配向膜層４２は、蒸着材料としてアクリルモノマーを用いたイオン蒸着法により形成される。 - 特許庁

The DLC-Si film D is applied to the sliding face S2 of an outer clutch plate 34b, by the well known method such as CVD (Chemical Vapor Deposition) method, PVD (Physical Vapor Deposition) method, ion vapor deposition method, and so on.例文帳に追加

アウタクラッチプレート３４ｂの摺動面Ｓ２にＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法、ＰＶＤ（Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法、イオン蒸着法等の公知の方法によりＤＬＣ−Ｓｉ薄膜Ｄを施す。 - 特許庁

The vapor deposition metal film 3 is formed by vacuum vapor deposition, ion plating, EB vapor deposition or sputtering and the thickness thereof is preferably 10-200 mμm.例文帳に追加

前記蒸着金属膜が３真空蒸着、イオンプレーティング、ＥＢ蒸着あるいはスパッタリングで形成されていること、厚さが１０ｍμｍ以上、２００ｍμｍ以下であることが好ましい。 - 特許庁