ion beam damageとは 意味・読み方・使い方

To provide a cluster ion beam apparatus which a skimmer does not damage.例文帳に追加

スキマーが損傷しないクラスターイオンビーム装置を提供する。 - 特許庁

To provide an ion beam implantation device capable of preventing damage of an ion beam current detection means and exactly implanting ion beam.例文帳に追加

本発明は、イオンビーム電流検出手段の損傷を防止して正確にイオンビームを注入できるイオンビーム注入装置を提供する。 - 特許庁

To provide an ion beam processing method capable of preventing damage on a cross section by heat in cross section processing by irradiation of an ion beam.例文帳に追加

イオンビームの照射による断面加工において，断面に熱によるダメージを与えないイオンビーム加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide an ion beam cut-off device which can cut off a high-energy ion beam for a long time without suffering damage and where local overheat in a cutting-off part is little and scarce radioactivity remains.例文帳に追加

高エネルギーイオンビームを損傷を受けることなく長時間遮断することができ、遮断部の局部過熱が少なく、かつ残留放射能の少ないイオンビーム遮断装置を提供する。 - 特許庁

To provide a low acceleration voltage ion beam projection aligner as an ion beam proximity projection exposure system for solving the problem of increase in the scale of an optical system, the decrease in resist sensitivity at a high acceleration voltage, and the problem of damage in masks and wafers in the ion beam projection aligner using the conventional high-acceleration ion beam.例文帳に追加

従来の高加速イオンビームを用いるイオンビーム露光装置における、光学系の大規模化の問題、また高加速電圧ではレジスト感度が低いことや、マスクやウェハの損傷の問題を解決するため、イオンビーム近接投影露光方式として低加速電圧のイオンビーム露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a film removing device of a beam irradiation electrode capable of removing a film of a beam irradiation electrode while suppressing a damage in an ion source, an ion source equipped with this, and a member for removing a film of a beam irradiation electrode.例文帳に追加

イオン源内の損傷を抑えつつビーム照射電極の被膜を除去できるビーム照射電極の被膜除去装置、これを備えたイオン源、及びビーム照射電極の被膜除去用部材を提供することを課題とする。 - 特許庁

The ion beam apparatus includes a sample holder 4 for fixing a sample 6 formed with a section by irradiating with a predetermined focusing ion beam from a surface side, and a gas ion beam irradiation unit 2 for emitting a gas ion beam to a region including the section of the sample 6 fixed by the holder 4 to remove a damage layer on the section.例文帳に追加

表面側から所定の集束イオンビームが照射されて断面が形成された試料６を固定するための試料ホルダー４と、試料ホルダー４により固定された試料６の、上記断面を含む領域に気体イオンビームを照射して上記断面上のダメージ層を除去する気体イオンビーム照射装置２とを有する。 - 特許庁