ion beam depositionとは 意味・読み方・使い方

To improve a deposition speed without increasing the current density of an ion beam.例文帳に追加

イオンビームの電流密度を上げることなく、成膜スピードの向上を可能とする。 - 特許庁

PARTIAL ETCHING FOR SURFACE MODIFICATION OR CONTROLLING OF DEPOSITION BY PULSE ION BEAM例文帳に追加

パルスイオンビームによる表面改質のための局所エッチングまたは堆積の制御 - 特許庁

To obtain an ion beam deposition system which reduces a production cost by increasing the wafer throughput of a deposition system.例文帳に追加

堆積システムのウェハ・スループットを増加させることにより製造コストを減少させる、イオン・ビーム堆積システムを得る。 - 特許庁

To provide a method for removal of contaminants during electron beam-induced deposition, ion beam-induced deposition and laser beam-induced deposition, or a method for real-time inhibition of oxidation during deposition or etching of oxidizable materials.例文帳に追加

電子ビーム誘起付着、イオンビーム誘起付着およびレーザビーム誘起付着中に汚染物を除去する、または酸化可能な材料の付着またはエッチング中の酸化をリアルタイムで抑制する方法を提供する。 - 特許庁

The inorganic oxide layer is preferably manufactured by a vacuum deposition method, a spattering method, an ionization vapor deposition method, an ion beam method, or a chemical vapor phase deposition method.例文帳に追加

前記無機酸化物層は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオン化蒸着法、イオンビーム法、または化学気相蒸着法により作製されるのが好ましい。 - 特許庁

The current density of the ion beam 2 is favorably at most 65 μA/cm^2, and the magnetic material thin film can be irradiated with the ion beam during the deposition of the thin film.例文帳に追加

イオンビーム２の電流密度は、６５μＡ／ｃｍ^2以下であることが好ましく、磁性材料薄膜を成膜中にイオンビームを照射してもよい。 - 特許庁

The plasma for vapor deposition 10 is generated and maintained with the irradiation of the ion beam 9.例文帳に追加

イオンビーム９の照射によって蒸着用プラズマ１０の生成および維持が行われる。 - 特許庁

Hard mask fabrication for magnetic random access memory elements using focused ion beam assisted selective chemical vapor deposition.発音を聞く 例文帳に追加

集中イオンビーム補助選択的化学蒸着を利用した磁気RAM素子のためのハードマスク製造。 - コンピューター用語辞典