ion monitorとは 意味・読み方・使い方

An electric charge neutralizing monitor 300 monitors the operation of the electric charge neutralizing device 120 for an ion implanting device 100.例文帳に追加

電荷中和モニター300 は、イオン注入装置100 のための電荷中和装置120 の作業を監視する。 - 特許庁

This invention generally provides methods and the apparatus to monitor an ion dose during the plasma processing.例文帳に追加

本発明は、一般に、プラズマプロセス中にイオンドーズ量を監視する方法及び装置を提供する。 - 特許庁

This is the beam profile monitor 10 which has an irradiation face 10a opposing to an ion beam source and measures intensity distribution of an ion beam in an irradiation face.例文帳に追加

イオンビーム源に対向する照射面１０ａを有し照射面におけるイオンビームの強度分布を計測するビームプロファイルモニター１０。 - 特許庁

This ion beam irradiation device is equipped with an ion source to generate an ion beam 4, an electron beam source G to emit an electron beam two-dimensionally scanned in the ion source 2, a power supply 14 for it, an ion beam monitor 10 to measure the two-dimensional beam current distribution of the ion beam 4 at a position equivalent to the substrate, and a control device 12.例文帳に追加

このイオンビーム照射装置は、イオンビーム４を発生するイオン源２と、イオン源２内で２次元で走査される電子ビームを放出する電子ビーム源Ｇと、それ用の電源１４と、基板相当位置におけるイオンビーム４の２次元のビーム電流分布を測定するイオンビームモニタ１０と、制御装置１２とを備えている。 - 特許庁

In this ion monitor, a cell 10 partitioned by two ion exchange membranes 11, 12 is provided between a set of a negative electrode 20 and a positive electrode 30, and the inside of the cell 10 is filled with an ion exchange resin 13.例文帳に追加

一組の陰極２０と陽極３０との間に、２枚のイオン交換膜１１，１２で仕切られたセル１０を配設し、このセル１０の内部にはイオン交換樹脂１３が充填してある。 - 特許庁

To provide an ionizer control system for automating the evaluation, monitoring and ion-balance control of the performance of an ionizer and an ion monitor and their operating conditions by using short-distance radio communication means such as the Bluetooth (a registered trademark) provided for each of the ionizer, the ion monitor and a server.例文帳に追加

イオナイザ、イオンモニタ及びサーバの相互間でブルートゥース（登録商標）等による近距離無線通信手段を構築し、この無線通信手段を用いて、イオナイザ，イオンモニタの性能や動作状態の評価、監視、並びにイオンバランスの調整等を自動的に行うイオナイザ制御システムを提供する。 - 特許庁

An amount of wear of an ion beam current detecting plate at a replacement time for the ion beam current detecting plate is preliminarily set and inputted to a set value input circuit 10 of an ion beam current detecting plate wear monitor 8.例文帳に追加

あらかじめイオンビーム電流検出板削れモニタ８の設定値入力回路１０に、イオンビーム電流検出板２の交換時期のイオンビーム電流検出板２の削れ量を設定入力する。 - 特許庁

This ion implanting device includes an ion source 100 for generating an ion beam 50, an electron beam source Gn for emitting an electron beam 138 scanned in the Y direction in the ion source 100, a power source 114 for the electron beam source, an ion beam monitor 80 for measuring the Y direction beam current distribution of the ion beam 50 in the vicinity of the implanting position, and a control device 90.例文帳に追加

このイオン注入装置は、イオンビーム５０を発生するイオン源１００と、イオン源１００内でＹ方向に走査される電子ビームを放出する電子ビーム源Ｇｎと、それ用の電源１１４と、注入位置近傍におけるイオンビーム５０のＹ方向のビーム電流密度分布を測定するイオンビームモニタ８０と、制御装置９０とを備えている。 - 特許庁