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ion- assistedとは 意味・読み方・使い方
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「ion- assisted」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 36件
ION-ASSISTED FILM-FORMING APPARATUS例文帳に追加
イオンアシスト成膜装置 - 特許庁
ION-ASSISTED VAPOR DEPOSITION APPARATUS AND METHOD例文帳に追加
イオンアシスト蒸着装置及び方法 - 特許庁
ION-BEAM-ASSISTED VAPOR DEPOSITION METHOD AND APPARATUS例文帳に追加
イオンアシスト蒸着方法および装置 - 特許庁
ION-ASSISTED DEPOSITION METHOD, AND APPARATUS THEREFOR例文帳に追加
イオンアシスト蒸着方法とその装置 - 特許庁
CLUSTER ION-ASSISTED VAPOR DEPOSITION APPARATUS AND METHOD例文帳に追加
クラスターイオンアシスト蒸着装置及び方法 - 特許庁
The multilayer films 3, 4, 6, 7 are deposited with vacuum deposition, ion plating, ion assisted deposition and sputtering method.例文帳に追加
前記多層膜3,4,6,7は、真空蒸着、イオンプレーティング、イオンアシスト蒸着、スパッタリング法で成膜される。 - 特許庁
To provide an ion-assisted vapor deposition apparatus 1 capable of minimizing the exhaust time.例文帳に追加
排気時間を最大限に短縮することが可能なイオンアシスト蒸着装置1を提供する。 - 特許庁
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「ion- assisted」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 36件
Hard mask fabrication for magnetic random access memory elements using focused ion beam assisted selective chemical vapor deposition.発音を聞く 例文帳に追加
集中イオンビーム補助選択的化学蒸着を利用した磁気RAM素子のためのハードマスク製造。 - コンピューター用語辞典
Accordingly, an ion assisted effect can be obtained without use of an ion source, and a thin film of high density can be deposited onto the surface of the substrate 10.例文帳に追加
従って、イオン源を用いなくともイオンアシスト効果が得られ、基板10表面に高密度な薄膜を成膜することができる。 - 特許庁
To provide an improved method and apparatus relating to ion-assisted etching processing in a plasma processing system.例文帳に追加
プラズマ処理システムにおけるイオン支援エッチング処理に関する改良された方法及び装置を開示する。 - 特許庁
Simultaneously, an assisted ion beam provides ions directly to a substrate, thus improving the smoothness and softness of the spacer layer.例文帳に追加
同時に、支援イオンビームが基板に直接イオンを供給し、かくしてスペーサ層の柔軟度と平滑度を改善する。 - 特許庁
METHOD FOR DETERMINING RNA SEQUENCE BY ION-SOURCE DECAY USING MATRIX-ASSISTED LASER DESORPTION/IONIZATION TIME-OF-FLIGHT MASS SPECTROMETER例文帳に追加
マトリクス支援レーザー脱離イオン化飛行時間型質量分析装置を用いたイオン源内解裂によるRNA配列決定法 - 特許庁
The transparent conductive film 2, oxidation coloring film 3, electrolytic film 4, reduction coloring film 5, and transparent conductive film 6 are formed by vacuum vapor-deposition, ion plating, ion assisted vapor-deposition, sputtering, etc.例文帳に追加
透明導電膜2、酸化発色膜3、電解質膜4、還元発色膜5、透明導電膜6が、真空蒸着、イオンプレーティング、イオンアシスト蒸着、スパッタリング法等で成膜される。 - 特許庁
In the first film-forming step, a first film 103 with the thickness of ≥3 nm is formed on a particle irradiation surface of the substrate 101 after the pre-irradiation step by an ion assisted vapor deposition method using ion beams.例文帳に追加
第1の成膜工程では、前照射工程後の基板101の粒子照射面にイオンビームを用いたイオンアシスト蒸着法によって第1の膜103を3nm以上の厚みで成膜する。 - 特許庁
Thereby, an ion beam gas-assisted deposition membrane 19 is formed on the capillary column 5 cross-section, and the spray tip having a target opening diameter 20 can be worked.例文帳に追加
これにより、キャピラリーカラム5断面上にイオンビームガスアシストデポジション膜19を形成し、目的開口内径20を有するスプレーチップを加工することが出来る。 - 特許庁
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