major defectとは 意味・読み方・使い方

To decide whether the defect generated on the surface of a substrate is the defect that arises from the defect existing on a prescribed pattern or not, in the substrate which is manufactured so that a repeated pattern is transferred on the major surface.例文帳に追加

主面に、繰り返しパターンが転写されて製造される基板において、その表面に生じる欠陥が、所定パターンに存在する欠陥に起因した欠陥であるか否かを確定する。 - 特許庁

To provide a defect inspection device for a plate-like transparent body and a method thereof capable of detecting a minute defect with a length of about 10 μm in a major axis which is present on a surface of the plate-like transparent body without microscope inspection.例文帳に追加

板状透明体の表面に存在している長径１０μｍ程度の微細傷を、顕微鏡精査を行うことなく検出することができる板状透明体の欠陥検査装置及びその方法を提供する。 - 特許庁

The defect inspection device is mainly formed of only the light condensing lens 13 and the CCD sensor 25 as major components, and thus the device can be reduced in size and in cost.例文帳に追加

また、集光レンズ１３およびＣＣＤセンサー２５のみを主要構成として欠陥検査装置を構成できるため、欠陥検査装置を小型化、低コスト化できる。 - 特許庁

Thereby, it is possible to reduce defect that a bonding wire connecting the uppermost semiconductor chip 2C and a wiring substrate 3 comes into contact with a major surface corner part of the lower semiconductor chip 2M2.例文帳に追加

これにより、最上の半導体チップ２Ｃと配線基板３とを接続するボンディングワイヤが下層の半導体チップ２Ｍ２の主面角部に接触する不良を低減できる。 - 特許庁

To provide a magnetic resonance imaging apparatus with which a position of a tomogram can be shifted by a BO shift and an influence of a fat suppression defect or the like can be reduced without a major modification of a hardware such as an iron shim or the like, and a magnetic resonance imaging data processing method.例文帳に追加

鉄シム等のハードウェアを大幅に改修することなく、Ｂ０シフトによる断層画像位置のシフトや脂肪抑制不良等の影響を低減させることが可能な磁気共鳴イメージング装置および磁気共鳴イメージングデータ処理方法である。 - 特許庁