JP2500656B2 - Method for manufacturing semiconductor integrated circuit package - Google Patents
Method for manufacturing semiconductor integrated circuit packageInfo
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- H10W72/5363—Shapes of wire connectors the connected ends being wedge-shaped
Landscapes
- Wire Bonding (AREA)
- Die Bonding (AREA)
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は半導体素子が実装される
半導体集積回路パッケージの製造方法に関し、特に、高
周波特性の改善を図ることができる半導体集積回路パッ
ケージの製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a semiconductor integrated circuit package on which a semiconductor element is mounted, and more particularly to a method of manufacturing a semiconductor integrated circuit package capable of improving high frequency characteristics.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来の半導体集積回路パッケージは、例
えば図6に示すような工程により製造される。2. Description of the Related Art A conventional semiconductor integrated circuit package is manufactured by a process as shown in FIG.
【0003】すなわち、図6(a)に示すように、フレ
ーム16内の素子実装部21にAuSi、AuSn等の
固着材19を配置し、ホットプレート等の加熱冶具を用
いて、固着材の融点+30℃程度まで加熱する。That is, as shown in FIG. 6A, a fixing material 19 such as AuSi or AuSn is arranged on the element mounting portion 21 in the frame 16, and the melting point of the fixing material is changed by using a heating jig such as a hot plate. Heat to about + 30 ° C.
【0004】次に、図6(b)に示すように、半導体素
子14をピンセット、エアーピンセット等の保持冶具2
2で保持しながら素子実装部21でスクラブし、固着材
19を半導体素子14と素子実装部21間に浸透させ
る。その後、加熱冶具の温度を固着材の凝固点以下に下
げ、半導体素子14を固定する。次に、図6(c)に示
すように、半導体素子14の電極とフレーム16内のス
テッチ15状に形成されたメタル配線18をボンディン
グワイヤー20で接続する。この後、図6(d)に示す
ように、フレーム16とフレームカバー13を電気溶
接、半田材等によって密着固定し、内部の気密を保持し
ている。Next, as shown in FIG. 6B, a holding jig 2 for holding the semiconductor element 14 such as tweezers or air tweezers.
While being held by 2, the element mounting portion 21 scrubs, and the fixing material 19 permeates between the semiconductor element 14 and the element mounting portion 21. Then, the temperature of the heating jig is lowered below the freezing point of the fixing material, and the semiconductor element 14 is fixed. Next, as shown in FIG. 6C, the electrode of the semiconductor element 14 and the metal wiring 18 formed in the stitch 15 in the frame 16 are connected by a bonding wire 20. After that, as shown in FIG. 6D, the frame 16 and the frame cover 13 are tightly fixed to each other by electric welding, a solder material or the like to keep the inside airtight.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】この従来の半導体集積
回路パッケージの製造方法では、次のような問題があっ
た。The conventional method for manufacturing a semiconductor integrated circuit package has the following problems.
【0006】半導体素子を素子実装部にAuSi、Au
Snの固着剤を用いて固着する場合、固着剤表面の酸化
膜を破るために、必ずスクラブを行わなければならな
い。従来のパッケージの構成、製造方法では半導体素子
を保持し素子実装部上でスクラブしなければならない。
ピンセットで半導体素子を鋏んでスクラブする場合、図
6(b)に示すように、ピンセットで鋏む端面からは
0.8mm以上、その他の端面からは0.4mm以上間
隔をあけた作業面が必要となる。従って、図5に示すよ
うに、半導体素子とステッチ上に形成されているメタル
配線をつなぐボンディングワイヤーは1mm以上の長さ
なる。The semiconductor element is mounted on the element mounting portion by AuSi, Au.
In the case of fixing with an Sn fixing agent, scrubbing must be performed in order to break the oxide film on the surface of the fixing agent. In the conventional package structure and manufacturing method, the semiconductor element must be held and scrubbed on the element mounting portion.
When scrubbing a semiconductor element with scissors with tweezers, as shown in Fig. 6 (b), a work surface with a space of 0.8 mm or more from the end surface to be scissors with tweezers and 0.4 mm or more from the other end surface is required. Becomes Therefore, as shown in FIG. 5, the bonding wire connecting the semiconductor element and the metal wiring formed on the stitch has a length of 1 mm or more.
【0007】1GHz以上の高周波を扱うパッケージで
は、信号のロスを極力抑えるように信号伝送路となるメ
タル配線部分は、マイクロストリップラインやコプレナ
ーラインを用い伝送損失を抑え、半導体素子の入出力部
も信号のロスを抑えるために伝送路のインピーダンスと
整合するような回路形式を用いる。In a package handling a high frequency of 1 GHz or more, a metal strip portion serving as a signal transmission path uses a microstrip line or a coplanar line to suppress the transmission loss so as to suppress the signal loss as much as possible, thereby suppressing the transmission loss. Also uses a circuit format that matches the impedance of the transmission line in order to suppress signal loss.
【0008】ここで問題となるのが、半導体素子と伝送
路を接続するボンディングワイヤーである。例えば0.
4mmの間隙部に張られたボンディングワイヤーを考え
る。半導体素子の電極パットが素子端面から50μm内
側にあるとし、ステッチ端から50μm内側からボンデ
ィングし、ワイヤーは弧を描くと考えると、この部分の
ワイヤー長:1は 1=0.5mm×π≒1.57mm となり、ワイヤー径:aをφ20μm、半導体素子の高
さ:hを350μm,材質をAuとすると、ワイヤーの
インダクタンス:Lは(1)式で表わされる。The problem here is the bonding wire for connecting the semiconductor element and the transmission line. For example, 0.
Consider a bonding wire stretched in a 4 mm gap. Assuming that the electrode pad of the semiconductor element is 50 μm inside from the end face of the element, bonding is performed from 50 μm inside from the stitch end, and the wire draws an arc, the wire length of this part is 1 = 0.5 mm × π≈1 When the wire diameter: a is φ20 μm, the height of the semiconductor element: h is 350 μm, and the material is Au, the wire inductance: L is expressed by equation (1).
【0009】 [0009]
【0010】 μo:真空透磁率 μr:Auの比透磁率 このときのインピーダンスは表1のようになる。Μo: Vacuum permeability μr: Relative permeability of Au The impedance at this time is as shown in Table 1.
【0011】[0011]
【表1】 [Table 1]
【0012】このボンディングワイヤーのインピーダン
スが伝送路終端の不整合の原因となり、信号の反射・損
失を生む。また、半導体素子に入力される信号は、ボン
ディングワイヤーのインピーダンスと半導体素子の入力
部のインピーダンスとの比分だけ減衰することになる。
例えば、上記インピーダンスを単純抵抗に換算して考え
ると、半導体素子の入力インピーダンスと伝送路のイン
ピーダンスが50Ωであった場合、5GHzでは入力さ
れた信号の約50%しか半導体素子に入力されないこと
になる。インピーダンスは2πfLで示すように高周波
になるに従って増加し、特性を劣化させる。The impedance of the bonding wire causes a mismatch at the end of the transmission line, resulting in signal reflection and loss. Also, the signal input to the semiconductor element is attenuated by the ratio between the impedance of the bonding wire and the impedance of the input portion of the semiconductor element.
For example, considering the impedance as a simple resistance, if the input impedance of the semiconductor element and the impedance of the transmission line are 50Ω, only about 50% of the input signal is input to the semiconductor element at 5 GHz. . The impedance increases as the frequency becomes higher, as indicated by 2πfL, and deteriorates the characteristics.
【0013】このような高周波特性の劣化を防ぐには、
ボンディングワイヤーのインダクタンスの低減が必須で
あるが、従来の製造方法ではスクラブの作業面が必要な
ため、ボンディングワイヤーの短縮化によるインダクタ
ンスの低減は望めない。In order to prevent such deterioration of high frequency characteristics,
Although it is essential to reduce the inductance of the bonding wire, the conventional manufacturing method requires a work surface for scrubbing, and thus the reduction of the inductance by shortening the bonding wire cannot be expected.
【0014】[0014]
【課題を解決するための手段】本発明の目的は上述の従
来の欠点を解決し、ボンディングワイヤを短縮できる半
導体集積回路パッケージの製造方法を提供することにあ
る。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above-mentioned conventional drawbacks and to provide a method of manufacturing a semiconductor integrated circuit package capable of shortening the bonding wire.
【0015】本発明の半導体集積回路パッケージの製造
方法は、半導体素子と、該半導体素子を実装する素子実
装部を有するベースと、前記半導体素子を嵌合する素子
実装孔とメタル配線とを有するフレームと、前記半導体
素子と前記メタル配線を電気的に接続するボンディング
ワイヤーと、フレームカバーとから成る半導体集積回路
パッケージの製造方法において、前記ベースと前記フレ
ームを組み合わせる工程と、前記素子実装部に固着材を
配置する工程と、該固着材を挟んで前記半導体素子を前
記素子実装孔に配置する工程と、前記半導体素子を保持
し前記素子実装部を動かし前記半導体素子と前記素子実
装部の間に前記固着材を浸透させる工程と、前記半導体
素子を前記素子実装部に固着する工程と、前記ベースと
前記フレームを固着する工程と、前記半導体素子と前記
メタル配線を前記ボンディングワイヤーで接続する工程
と、前記フレームと前記フレームカバーを固着する工程
とから構成されている。A method of manufacturing a semiconductor integrated circuit package according to the present invention includes a frame having a semiconductor element, a base having an element mounting portion for mounting the semiconductor element, an element mounting hole into which the semiconductor element is fitted, and a metal wiring. A bonding wire for electrically connecting the semiconductor element and the metal wiring, and a frame cover in a method of manufacturing a semiconductor integrated circuit package, a step of combining the base and the frame, and a fixing material for the element mounting portion. Arranging, the step of arranging the semiconductor element in the element mounting hole with the fixing material sandwiched therebetween, the semiconductor element is held and the element mounting portion is moved, and the semiconductor element is disposed between the semiconductor element and the element mounting portion. A step of infiltrating a fixing material; a step of fixing the semiconductor element to the element mounting portion; and a step of fixing the base and the frame to each other. A step of a step of connecting the metal wire and the semiconductor element by the bonding wire, and a step of fixing the frame cover and the frame.
【0016】また、本発明の製造方法は、半導体素子実
装部が円柱形状を有し、前記フレームが前記半導体素子
実装部を嵌合する嵌合孔を有しており、前記半導体素子
実装部と前記嵌合孔を嵌合させて前記ベースと前記フレ
ームとを組み合わせる工程と、前記素子実装部に固着材
を配置する工程と、該固着材を挟んで前記素子実装孔に
前記半導体素子を配置する工程と、前記半導体素子を保
持し前記素子実装部を前記嵌合孔に挿入した状態で回転
させ前記半導体素子を前記素子と前記素子実装部の間に
前記固着材を浸透させる工程とを含んでいる。Further, in the manufacturing method of the present invention, the semiconductor element mounting portion has a cylindrical shape, and the frame has a fitting hole into which the semiconductor element mounting portion is fitted. The step of fitting the fitting hole to combine the base and the frame, the step of disposing a fixing material on the element mounting portion, and the step of disposing the semiconductor element in the element mounting hole with the fixing material sandwiched therebetween. And a step of holding the semiconductor element and rotating the element mounting portion with the element mounting portion inserted into the fitting hole to allow the semiconductor element to penetrate the fixing material between the element and the element mounting portion. There is.
【0017】[0017]
【実施例】次に本発明について図面を参照して詳細に説
明する。The present invention will be described in detail with reference to the drawings.
【0018】図1は本発明の半導体集積回路パッケージ
の製造方法を説明する工程図、図2は本発明の製造方法
にて組み立てられる半導体集積回路パッケージの分解
図、図3は本発明の製造方法にて組み立てられる半導体
集積回路パッケージの断面図である。FIG. 1 is a process diagram for explaining a method for manufacturing a semiconductor integrated circuit package of the present invention, FIG. 2 is an exploded view of a semiconductor integrated circuit package assembled by the manufacturing method of the present invention, and FIG. 3 is a manufacturing method of the present invention. 3 is a cross-sectional view of the semiconductor integrated circuit package assembled in FIG.
【0019】図1〜図3を参照すると、ベース7は全体
に金メッキが施されている金属で、中央の素子実装部は
円柱突起構造を有している。フレーム4は多層セラミッ
クで構成されており、フレームカバー1と接触する上部
とベース7と接触する下部は金属で構成されており金メ
ッキが施されている。フレーム4内部のステッチ10に
はメタル配線8が形成されており、リードを通じて外部
と電気的に接続される。ステッチ10には、半導体素子
3より僅かに大きな矩形孔である素子実装孔11(図
2)が設けられている。その下部にはベース7の素子実
装部6が嵌合するガイド孔9(図2)が設けられてお
り、素子実装部6と接触する面には金メッキが施されて
いる。With reference to FIGS. 1 to 3, the base 7 is a metal which is entirely plated with gold, and the central element mounting portion has a cylindrical projection structure. The frame 4 is made of a multi-layer ceramic, and the upper part that contacts the frame cover 1 and the lower part that contacts the base 7 are made of metal and are plated with gold. A metal wiring 8 is formed on the stitch 10 inside the frame 4 and is electrically connected to the outside through a lead. The stitch 10 is provided with an element mounting hole 11 (FIG. 2) which is a rectangular hole slightly larger than the semiconductor element 3. A guide hole 9 (FIG. 2) into which the element mounting portion 6 of the base 7 is fitted is provided in the lower portion, and the surface contacting the element mounting portion 6 is plated with gold.
【0020】固着材12には、AuSi、AuSn等の
ノンフラックスの共晶半田を用いる。For the fixing material 12, a non-flux eutectic solder such as AuSi or AuSn is used.
【0021】製造工程は次の通りである。The manufacturing process is as follows.
【0022】まず、図1(a)に示すように、ベース7
の素子実装部6の上面に固着材12を配置する。この
後、図1(b)に示すように、ベース7の素子実装部6
とフレーム4のガイド孔9とを嵌合させて組み合わせ
る。次に、エアーピンセットを用いて半導体素子3の上
面を吸着・保持し半導体実装孔11へ半導体素子3を配
置する。その後、ベース7を加熱し固着材12の融点+
30℃程度まで加熱し、固着材12を溶融させる。First, as shown in FIG. 1A, the base 7
The fixing material 12 is arranged on the upper surface of the element mounting portion 6. Thereafter, as shown in FIG. 1B, the element mounting portion 6 of the base 7 is formed.
And the guide hole 9 of the frame 4 are fitted and combined. Next, the upper surface of the semiconductor element 3 is suctioned and held using air tweezers, and the semiconductor element 3 is placed in the semiconductor mounting hole 11. After that, the base 7 is heated and the melting point of the fixing material 12 +
The fixing material 12 is melted by heating to about 30 ° C.
【0023】溶融した時点で、図1(c)に示すよう
に、フレーム4および半導体素子3を保持した状態でベ
ース7を回転させスクラブを行い、半導体素子3の裏面
と素子実装部6の間と、素子実装部6とガイド孔9の間
に浸透させる。このとき、半導体素子3が浮かないよう
に、若干上部から圧力を加えておく。At the time of melting, as shown in FIG. 1C, the base 7 is rotated and scrubbed while the frame 4 and the semiconductor element 3 are held, so that the back surface of the semiconductor element 3 and the element mounting portion 6 are separated from each other. Then, it is permeated between the element mounting portion 6 and the guide hole 9. At this time, some pressure is applied from above so that the semiconductor element 3 does not float.
【0024】次に、ベース7を冷却し固着材12の凝固
点以下に温度を下げ、ベース7、フレーム4および半導
体素子3を固定する。凝固点以下になった時点でエアー
ピンセットをはずす。この後、図1(d)に示すよう
に、ステッチ10部のメタル配線8と半導体素子3とを
ボンディングワイヤー2で接続し、さらに、図1(e)
に示すように、フレーム4とベース7、フレーム4とフ
レームカバー1を電気溶接で密着固定させ内部を気密封
止する。Next, the base 7 is cooled to lower the temperature below the freezing point of the fixing material 12, and the base 7, the frame 4 and the semiconductor element 3 are fixed. Remove the air tweezers when the temperature drops below the freezing point. After that, as shown in FIG. 1D, the metal wiring 8 in the stitch 10 portion and the semiconductor element 3 are connected by a bonding wire 2, and further, FIG.
As shown in, the frame 4 and the base 7, and the frame 4 and the frame cover 1 are tightly fixed by electric welding to hermetically seal the inside.
【0025】本発明の製造方法によれば、図4に示すよ
うに、ステッチ上のメタル配線と半導体素子のパッドの
感覚を100μm程度まで短縮可能である。このとき、
ワイヤーが弧を描くとしても、ワイヤー長は0.31m
m程度となり、インクダクタンスは0.26nHとな
る。このときのインピーダンスを従来と比べると表2の
ようになる。According to the manufacturing method of the present invention, as shown in FIG. 4, the feeling of the metal wiring on the stitch and the pad of the semiconductor element can be reduced to about 100 μm. At this time,
Even if the wire draws an arc, the wire length is 0.31m
m, and the ink inductance is 0.26 nH. The impedance at this time is as shown in Table 2 when compared with the conventional one.
【0026】[0026]
【表2】 [Table 2]
【0027】表2から明らかなように、本発明ではイン
ピーダンスを従来の約20%にまで低減できる。As is clear from Table 2, the impedance can be reduced to about 20% of the conventional value in the present invention.
【0028】また、半導体素子を、半導体素子より僅か
に大きな矩形孔である素子実装孔に挿入し固定すること
で、素子の位置が従来の製造方法より一様に固定される
ので自動化にも適している。Further, by inserting and fixing the semiconductor element into the element mounting hole which is a rectangular hole slightly larger than the semiconductor element, the position of the element is fixed more uniformly than in the conventional manufacturing method, so that it is also suitable for automation. ing.
【0029】[0029]
【発明の効果】以上説明したように、本発明の半導体集
積回路パッケージの製造方法によれば、半導体素子をフ
レームの素子実装孔に挿入し素子実装部を動かしスクラ
ブを行うことで、ステッチと半導体素子の端面の間隙を
縮小でき、ボンディングワイヤーの短縮化が可能となり
良好な高周波特性を得ることげできるという効果を有す
る。As described above, according to the method of manufacturing the semiconductor integrated circuit package of the present invention, the semiconductor element is inserted into the element mounting hole of the frame, the element mounting portion is moved, and the scrubbing is performed, whereby the stitch and the semiconductor The effect is that the gap between the end faces of the element can be reduced, the bonding wire can be shortened, and good high frequency characteristics can be obtained.
【図1】図1(a)〜(e)は本発明の半導体集積回路
パッケージ製造方法の工程図。FIG. 1A to FIG. 1E are process diagrams of a semiconductor integrated circuit package manufacturing method of the present invention.
【図2】図2は本発明の製造方法によって組み立てられ
る半導体集積回路パッケージの分解図。FIG. 2 is an exploded view of a semiconductor integrated circuit package assembled by the manufacturing method of the present invention.
【図3】図3は本発明の製造方法にて組み立てられる半
導体集積回路パッケージの断面図。FIG. 3 is a cross-sectional view of a semiconductor integrated circuit package assembled by the manufacturing method of the present invention.
【図4】図4は本発明の製造方法にて組み立てられる半
導体集積回路パッケージのボンディングワイヤーの拡大
図。FIG. 4 is an enlarged view of a bonding wire of a semiconductor integrated circuit package assembled by the manufacturing method of the present invention.
【図5】図5は従来の製造方法にて組み立てられた半導
体集積回路パッケージのボンディングワイヤーの拡大
図。FIG. 5 is an enlarged view of a bonding wire of a semiconductor integrated circuit package assembled by a conventional manufacturing method.
【図6】図6(a)〜(d)は従来の半導体集積回路パ
ッケージの製造方法の工程図。6A to 6D are process diagrams of a conventional method for manufacturing a semiconductor integrated circuit package.
1 フレームカバー 2 ボンディングワイヤー 3 半導体素子 4 フレーム 5 リード 6 素子実装部 7 ベース 8 メタル配線 9 素子実装部 10 ステッチ 11 素子実装孔 12 固着材 13 フレームカバー 14 半導体素子 15 ステッチ 16 フレーム 17 リード 18 メタル配線 19 固着材 20 ボンディングワイヤー 21 素子実装部 22 保持冶具 1 frame cover 2 bonding wire 3 semiconductor element 4 frame 5 lead 6 element mounting portion 7 base 8 metal wiring 9 element mounting portion 10 stitch 11 element mounting hole 12 fixing material 13 frame cover 14 semiconductor element 15 stitch 16 frame 17 lead 18 metal wiring 19 fixing material 20 bonding wire 21 element mounting portion 22 holding jig
Claims (2)
素子実装部を有するベースと、前記半導体素子を嵌合す
る素子実装孔とメタル配線とを有するフレームと、前記
半導体素子と前記メタル配線を電気的に接続するボンデ
ィングワイヤーと、フレームカバーとから成る半導体集
積回路パッケージの製造方法において、前記ベースと前
記フレームを組み合わせる第1の工程と、前記素子実装
部に固着材を配置する第2の工程と、該固着材を挟んで
前記半導体素子を前記素子実装孔に配置する第3の工程
と、前記半導体素子を保持し前記素子実装部を動かし前
記半導体素子と前記素子実装部の間に前記固着材を浸透
させる第4の工程と、前記半導体素子を前記素子実装部
に固着する第5の工程と、前記ベースと前記フレームを
固着させる第6の工程と、前記半導体素子と前記メタル
配線を前記ボンディングワイヤーで接続する第7の工程
と、前記フレームと前記フレームカバーを固着する第8
の工程とから構成されたことを特徴とする半導体集積回
路パッケージの製造方法。1. A semiconductor element, a base having an element mounting portion for mounting the semiconductor element, a frame having an element mounting hole for fitting the semiconductor element and metal wiring, and the semiconductor element and the metal wiring. In a method of manufacturing a semiconductor integrated circuit package including a bonding wire electrically connected and a frame cover, a first step of combining the base and the frame, and a second step of arranging a fixing material on the element mounting portion. And a third step of disposing the semiconductor element in the element mounting hole with the fixing material sandwiched between the semiconductor element and the element mounting portion by moving the element mounting portion while holding the semiconductor element. A fourth step of infiltrating a material, a fifth step of fixing the semiconductor element to the element mounting portion, and a sixth step of fixing the base and the frame. A step of connecting the semiconductor element and the metal wiring with the bonding wire, and an eighth step of fixing the frame and the frame cover.
And a method of manufacturing a semiconductor integrated circuit package.
装部が円柱形状を有し、前記フレームが前記半導体素子
実装部を嵌合する嵌合孔を有している半導体集積回路パ
ッケージの請求項1記載の製造方法において、前記第1
の工程が前記半導体素子実装部と前記嵌合孔を嵌合させ
て前記ベースと前記フレームとを組み合わせる工程であ
り、前記第4の工程が前記半導体素子を保持し前記素子
実装部を前記嵌合孔に挿入した状態で回転させ前記半導
体素子と前記素子実装部の間に前記固着材を浸透させる
工程であることを特徴とする半導体集積回路パッケージ
の製造方法。2. A semiconductor integrated circuit package according to claim 1, wherein the semiconductor element mounting portion has a cylindrical shape, and the frame has a fitting hole into which the semiconductor element mounting portion is fitted. Item 1. In the manufacturing method according to Item 1, the first
Is a step of fitting the semiconductor element mounting part and the fitting hole to combine the base and the frame, and the fourth step is to hold the semiconductor element and fit the element mounting part to the fitting part. A method of manufacturing a semiconductor integrated circuit package, comprising the step of rotating the semiconductor integrated circuit package inserted in the hole and allowing the fixing material to penetrate between the semiconductor element and the element mounting portion.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5295846A JP2500656B2 (en) | 1993-11-26 | 1993-11-26 | Method for manufacturing semiconductor integrated circuit package |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| JP5295846A JP2500656B2 (en) | 1993-11-26 | 1993-11-26 | Method for manufacturing semiconductor integrated circuit package |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07147344A JPH07147344A (en) | 1995-06-06 |
| JP2500656B2 true JP2500656B2 (en) | 1996-05-29 |
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ID=17825948
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP5295846A Expired - Lifetime JP2500656B2 (en) | 1993-11-26 | 1993-11-26 | Method for manufacturing semiconductor integrated circuit package |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2500656B2 (en) |
-
1993
- 1993-11-26 JP JP5295846A patent/JP2500656B2/en not_active Expired - Lifetime
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| JPH07147344A (en) | 1995-06-06 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19960123 |