JP2625838B2 - Magnetic head - Google Patents
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- JP2625838B2 JP2625838B2 JP63067346A JP6734688A JP2625838B2 JP 2625838 B2 JP2625838 B2 JP 2625838B2 JP 63067346 A JP63067346 A JP 63067346A JP 6734688 A JP6734688 A JP 6734688A JP 2625838 B2 JP2625838 B2 JP 2625838B2
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- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、いわゆるメタルテープ等の高抗磁力磁気記
録媒体への記録再生に使用される磁気ヘッドに関するも
のである。Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic head used for recording and reproducing on a high coercive force magnetic recording medium such as a so-called metal tape.
本発明は、少なくとも一方の磁気コア半体が酸化物磁
性材料と金属磁性薄膜により構成される一対の磁気コア
半体が突合わされ、上記金属磁性薄膜の突合わせ面に磁
気ギャップが形成されてなる磁気ヘッドにおいて、上記
金属磁性薄膜と酸化物磁性材料との界面に、電気陰性度
1.9以上の金属又は合金からなり酸素を含有する薄膜
を、反応防止膜として配することにより、金属磁性薄膜
と酸化物磁性材料との間の反応を防止して疑似ギャップ
の発生を抑制し、電磁変換特性および再生出力特性の向
上を図ろうとするものである。According to the present invention, a pair of magnetic core halves each having at least one magnetic core half composed of an oxide magnetic material and a metal magnetic thin film are abutted, and a magnetic gap is formed on the abutting surface of the metal magnetic thin film. In the magnetic head, the interface between the metal magnetic thin film and the oxide magnetic material has an electronegativity.
By arranging an oxygen-containing thin film made of a metal or alloy of 1.9 or more as a reaction prevention film, the reaction between the metal magnetic thin film and the oxide magnetic material is prevented to suppress the generation of a pseudo gap, and electromagnetic It is intended to improve conversion characteristics and reproduction output characteristics.
〔従来の技術〕 例えばVTR(ビデオテープレコーダ)等の磁気記録再
生装置においては、高画質化等の目的として情報信号の
短波長記録化が進められており、これに伴い磁性粉末に
強磁性金属粉末を用いた,いわゆるメタルテープや、ベ
ースフィルム上に強磁性金属材料を直接被着した,いわ
ゆる蒸着テープ等の高抗磁力磁気記録媒体が使用される
ようになってきている。[Prior Art] For example, in a magnetic recording / reproducing apparatus such as a VTR (video tape recorder), recording of short-wavelength information signals has been promoted for the purpose of improving image quality and the like. High coercive force magnetic recording media such as so-called metal tapes using powder or so-called vapor-deposited tapes in which a ferromagnetic metal material is directly applied on a base film have been used.
一方、磁気ヘッドの分野においてもこれに対処するべ
く研究が進められており、高抗磁力磁気記録媒体に好適
な磁気ヘッドとして磁性コアに金属磁性薄膜を用いた磁
気ヘッドが種々開発されている。In the field of magnetic heads, on the other hand, research is being carried out to cope with this, and various magnetic heads using a metal magnetic thin film for a magnetic core have been developed as magnetic heads suitable for high coercive force magnetic recording media.
かかる磁気ヘッドの一例として、例えば第8図に示す
如く構成されたものが知られている。As an example of such a magnetic head, for example, a magnetic head configured as shown in FIG. 8 is known.
上記磁気ヘッドは、第8図に示すように磁気ギャップ
Gを境として左右別々に作製された一対の磁気コア半体
(I),(II)が突合わされ、例えばガラス融着によっ
て接合一体化されてなるものである。In the magnetic head, as shown in FIG. 8, a pair of left and right magnetic core halves (I) and (II) produced separately from each other with a magnetic gap G as a boundary, but are joined and integrated by, for example, glass fusion. It is.
ここで、上記磁気コア半体(I),(II)は、フェラ
イト等の酸化物磁性材料からなる補助コア部(1),
(2)の対向面にそれぞれフロント側からバック側に至
るまで金属磁性薄膜(3),(4)が形成されたもので
ある。そして、これら金属磁性薄膜(3),(4)をギ
ャップスペーサ(図示は省略する。)を挟み込んで突合
わせることにより磁気ギャップGが形成されている。な
お、上記一方の補助コア部(2)にはコイルを巻装する
ための巻線溝(5)が形成されている。Here, the magnetic core halves (I) and (II) are composed of auxiliary core portions (1) made of an oxide magnetic material such as ferrite.
Metal magnetic thin films (3) and (4) are formed on the facing surfaces of (2) from the front side to the back side, respectively. A magnetic gap G is formed by abutting these metal magnetic thin films (3) and (4) with a gap spacer (not shown) sandwiched therebetween. A winding groove (5) for winding a coil is formed in the one auxiliary core portion (2).
この磁気ヘッドは、磁気ギャップG近傍部が高飽和磁
束密度を有する金属磁性薄膜(3),(4)、例えばセ
ンダスト等の強磁性金属薄膜で形成されているため、磁
気ギャップGから発生する磁界強度は大きくなりメタル
テープ等の高抗磁力磁気記録媒体に好適なものとなって
いる。Since the magnetic head is formed of a metal magnetic thin film (3) or (4) having a high saturation magnetic flux density in the vicinity of the magnetic gap G, for example, a ferromagnetic metal thin film such as Sendust, a magnetic field generated from the magnetic gap G is formed. The strength is increased, making it suitable for a high coercive force magnetic recording medium such as a metal tape.
ところで、上記金属磁性薄膜(3),(4)は、通常
スパッタリング法等の真空薄膜形成技術で成膜される。
このため、上記金属磁性薄膜(3),(4)とフェライ
トからなる補助コア部(1),(2)との界面K1,K2で
酸素の授受が行われ拡散層が形成される虞れがある。The metal magnetic thin films (3) and (4) are usually formed by a vacuum thin film forming technique such as a sputtering method.
For this reason, oxygen is transferred at interfaces K 1 and K 2 between the metal magnetic thin films (3) and (4) and the auxiliary cores (1) and (2) made of ferrite, and a diffusion layer may be formed. There is.
すなわち、金属磁性薄膜(3),(4)が例えばスパ
ッタリングによりフェライトからなる補助コア部
(1),(2)上に被着されると、フェライトは酸化物
として不安定であるため当該スパッタリング時の熱によ
りフェライトを構成する酸素原子が拡散し、センダスト
を構成するFe原子,Al原子あるいはSi原子と結合する。
この結果、上記界面K1,K2でのフェライトは還元された
状態となるとともに、金属磁性薄膜(3),(4)は酸
化された状態となり、いわゆる拡散層が形成される。こ
の拡散層は、非磁性に近いものであり、これら補助コア
部(1),(2)と金属磁性薄膜(3),(4)間の磁
気抵抗を増大して効率の低下をもたらすばかりか、特に
前記磁気ギャップGと平行に位置する場合は、周波数特
性にうねりを生ずるいわゆる疑似ギャップとして動作し
記録再生信号の劣化を招いている。このため、特に高性
能を要求される8ミリビデオテープレコーダ等の磁気ヘ
ッドへの適用は困難となっている。That is, when the metal magnetic thin films (3) and (4) are deposited on the auxiliary core portions (1) and (2) made of ferrite by, for example, sputtering, the ferrite is unstable as an oxide, so that the ferrite is not stable. Oxygen atoms forming the ferrite are diffused by the heat of the ferrite and are combined with Fe atoms, Al atoms or Si atoms forming the sendust.
As a result, the ferrite at the interfaces K 1 and K 2 is in a reduced state, and the metal magnetic thin films (3) and (4) are in an oxidized state, so that a so-called diffusion layer is formed. This diffusion layer is close to non-magnetic, and not only increases the magnetic resistance between these auxiliary cores (1) and (2) and the metal magnetic thin films (3) and (4) but also reduces the efficiency. In particular, when it is positioned in parallel with the magnetic gap G, it operates as a so-called pseudo gap that causes undulation in the frequency characteristics, causing deterioration of the recording / reproducing signal. For this reason, it is difficult to apply the present invention to a magnetic head such as an 8 mm video tape recorder which requires high performance.
なお、上記拡散層は、金属磁性薄膜(3),(4)形
成時のみならず、上記磁気コア半体(I),(II)を接
合一体化する際のガラス融着時の熱により生ずることも
ある。The diffusion layer is generated not only when the metal magnetic thin films (3) and (4) are formed, but also when the glass cores (I) and (II) are joined and integrated. Sometimes.
そこで、上記界面K1,K2に例えばSiO2やSi3N4よりなる
酸化物,窒化物等の薄膜を反応防止膜として配すること
で拡散層の形成を防止することが考えられるが、本発明
者等が検討を重ねた結果、これらSiO2膜やSi3N4膜では
有効に擬似ギャップを解消するには至らなかった。Therefore, it is conceivable to prevent the formation of the diffusion layer by disposing a thin film such as an oxide or a nitride made of, for example, SiO 2 or Si 3 N 4 at the interfaces K 1 and K 2 as a reaction prevention film. As a result of repeated studies by the present inventors, these SiO 2 films and Si 3 N 4 films did not effectively eliminate the pseudo gap.
すなわち、上記SiO2膜やSi3N4膜の膜厚が厚ければ上
記界面K1,K2での拡散を防止することができるが、これ
ら薄膜は非磁性であるためその膜厚に依存して反応防止
膜自体が疑似ギャップとして動作する虞れがある。反対
に、これら反応防止膜の膜厚を薄くすると、今度は当該
SiO2膜やSi3N4膜の薄膜を通して拡散が起こり易くなり
拡散層が形成され、やはり疑似ギャップとして動作し再
生信号にうねりを生ずる。That is, if the thickness of the SiO 2 film or the Si 3 N 4 film is large, diffusion at the interfaces K 1 and K 2 can be prevented, but since these thin films are nonmagnetic, they depend on the film thickness. As a result, the reaction prevention film itself may operate as a pseudo gap. Conversely, when the thickness of these reaction preventing films is reduced,
Diffusion easily occurs through the thin film of the SiO 2 film or the Si 3 N 4 film, and a diffusion layer is formed. The diffusion layer also operates as a pseudo gap, and swells the reproduced signal.
そこで本発明は、上述のような課題を解消するべく提
案されたものであって、金属磁性薄膜と酸化物磁性材料
との間の反応を防止し、これにより疑似ギャップの影響
を低減して電磁変換特性および記録再生特性に優れた磁
気ヘッドを提供することを目的とする。Therefore, the present invention has been proposed to solve the above-described problems, and prevents a reaction between a metal magnetic thin film and an oxide magnetic material, thereby reducing the effect of a pseudo gap to reduce electromagnetic interference. An object of the present invention is to provide a magnetic head having excellent conversion characteristics and recording / reproducing characteristics.
本発明者等は、前述の目的を達成せんものと鋭意研究
を重ねた結果、電気陰性度が1.9以上の金属又は合金を
主体とする薄膜が前記界面での反応防止に有効であると
の知見を得て本発明を完成するに至った。The present inventors have conducted extensive studies with the achievement of the above-mentioned object, and found that a thin film mainly composed of a metal or alloy having an electronegativity of 1.9 or more is effective in preventing a reaction at the interface. To complete the present invention.
すなわち本発明の磁気ヘッドは、少なくとも一方の磁
気コア半体が酸化物磁性材料と金属磁性薄膜により構成
される一対の磁気コア半体が突合わされ、上記金属磁性
薄膜の突合わせ面に磁気ギャップが形成されてなる磁気
ヘッドであって、上記金属磁性薄膜と上記酸化物磁性材
料との間に電気陰性度1.9以上の金属又は合金よりなる
薄膜が反応防止膜として配されており、上記反応防止膜
が酸素を含有することを特徴とするものである。That is, in the magnetic head of the present invention, at least one of the magnetic core halves has a pair of magnetic core halves each formed of an oxide magnetic material and a metal magnetic thin film, and a magnetic gap is formed at the abutting surface of the metal magnetic thin films. A magnetic head formed, wherein a thin film made of a metal or alloy having an electronegativity of 1.9 or more is disposed as a reaction preventing film between the metal magnetic thin film and the oxide magnetic material, and the reaction preventing film is formed. Is characterized by containing oxygen.
なお、電気陰性度とは、原子が化学結合をつくるとき
に電子を引きつける能力を表すもので、本明細書におい
ては、ポーリング(L.Pauling)が求めた値を採用し
た。The electronegativity indicates the ability to attract electrons when an atom forms a chemical bond. In this specification, a value determined by Pauling (L. Pauling) is used.
電気陰性度は、その元素が電子を引きつける能力を示
し、その値はイオン化エネルギーと電子親和力の和にほ
ぼ比例する。そして、電気陰性度の差が大きい元素の組
合せほど電子は一方に引きつけられ、結合のイオン性が
増大し化学的に安定になると言える。Electronegativity indicates the ability of the element to attract electrons, and its value is approximately proportional to the sum of ionization energy and electron affinity. Then, it can be said that as the combination of elements has a larger difference in electronegativity, electrons are attracted to one side, the ionicity of the bond increases, and the combination becomes chemically stable.
このような観点から見ると、電気陰性度が1.9以上の
金属は、酸化物磁性材料,例えばフェライトを構成する
金属原子(Fe,Mn,Zn等)に比べて酸素に対する結合力が
弱く、これらが接していたとしてもフェライト中の酸素
が前記金属中に移行することはない。From this point of view, metals having an electronegativity of 1.9 or more have a weaker bonding force to oxygen than metal atoms (Fe, Mn, Zn, etc.) constituting oxide magnetic materials, for example, ferrite. Even if it is in contact, oxygen in the ferrite does not migrate into the metal.
したがって、酸化物磁性材料と金属磁性薄膜との間に
電気陰性度が1.9以上の金属又は合金の薄膜を反応防止
膜として介在せしめると、当該薄膜が障壁となって、ス
パッタリングやガラス融着等の熱処理を経ても酸化物磁
性材料を構成する酸素の金属磁性薄膜側への移行・拡散
が抑制される。Therefore, when a thin film of a metal or alloy having an electronegativity of 1.9 or more is interposed between the oxide magnetic material and the metal magnetic thin film as a reaction prevention film, the thin film acts as a barrier, and sputtering and glass fusion are performed. Transfer and diffusion of oxygen constituting the oxide magnetic material to the metal magnetic thin film side are suppressed even after the heat treatment.
また、反応防止膜を電気陰性度が1.9以上の金属と磁
性金属の合金とすれば、当該反応防止膜自体に磁性が付
与されることになり、酸素の拡散が抑制されるばかりで
なく、磁気劣化が減少される。Further, if the reaction prevention film is made of an alloy of a metal having a electronegativity of 1.9 or more and a magnetic metal, the reaction prevention film itself will be provided with magnetism, which not only suppresses the diffusion of oxygen but also reduces the magnetic field. Deterioration is reduced.
さらに、前述の電気陰性度が1.9以上の金属又は合金
よりなる薄膜,電気陰性度が1.9以上の金属と磁性金属
の合金よりなる薄膜中に酸素を導入すれば、酸化物磁性
材料−金属磁性薄膜間の酸素濃度勾配が緩和され、酸素
の金属磁性薄膜側への移行・拡散がより一層抑制され
る。Further, if oxygen is introduced into the above-mentioned thin film made of a metal or alloy having an electronegativity of 1.9 or more, or a thin film made of an alloy of a metal and a magnetic metal having an electronegativity of 1.9 or more, an oxide magnetic material-metal magnetic thin film can be obtained. The oxygen concentration gradient between them is reduced, and the transfer and diffusion of oxygen to the metal magnetic thin film side is further suppressed.
以下、本発明を適用した一実施例について図面を参照
しながら説明する。Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
本実施例の磁気ヘッドは、第1図および第2図に示す
ように、Mn−Zn系フェライトやNi−Zn系フェライト等の
酸化物磁性材料からなる補助コア部(6),(7)と金
属磁性薄膜(8),(9)とを主要な構成要素とする磁
気コア半体(III),(IV)対を接合一体化してなるも
のである。As shown in FIGS. 1 and 2, the magnetic head of this embodiment has auxiliary cores (6) and (7) made of an oxide magnetic material such as Mn-Zn ferrite or Ni-Zn ferrite. The magnetic core thin films (8) and (9) are formed by joining and joining pairs of magnetic core halves (III) and (IV) having the main components.
ここで、磁気ギャップgは、上記金属磁性薄膜
(8),(9)をギャップスペーサ(図示は省略す
る。)を挟み込んで突合わせることにより形成される
が、本実施例の磁気ヘッドでは、補助コア部(6),
(7)に設けられたトラック幅規制溝(10),(11)に
より前記磁気ギャップgのトラック幅Twが決められ、当
該トラック幅Twはヘッドチップ厚Cwより小となってい
る。Here, the magnetic gap g is formed by abutting the metal magnetic thin films (8) and (9) with a gap spacer (not shown) sandwiched therebetween. Core part (6),
The track width Tw of the magnetic gap g is determined by the track width regulating grooves (10) and (11) provided in (7), and the track width Tw is smaller than the head chip thickness Cw.
また、本実施例の磁気ヘッドでは、磁気ギャップg近
傍の金属磁性薄膜(8),(9)が当該磁気ギャップg
と略平行に配置されており、したがって金属磁性薄膜
(8),(9)の膜厚と無関係にトラック幅を増加する
ことができ、トラック幅精度の向上が図れるとともに、
この成膜工程の高能率化が図れるようになっている。In the magnetic head of the present embodiment, the metal magnetic thin films (8) and (9) near the magnetic gap g are
And therefore, the track width can be increased irrespective of the thickness of the metal magnetic thin films (8) and (9), and the track width accuracy can be improved.
The efficiency of this film forming process can be improved.
上記トラック幅規制溝(10),(11)により削り落と
された切り欠き部には、接合ガラス(12),(13)が充
填され、磁気記録媒体に対する当たり特性を確保するよ
うになっている。The notched portions cut off by the track width regulating grooves (10) and (11) are filled with bonding glasses (12) and (13) to ensure the contact characteristics with the magnetic recording medium. .
また、上記各磁気コア半体(III),(IV)を構成す
る一方の補助コア部(6)の突合わせ面中途部には、コ
イルを巻装するための溝として巻線溝(14)が形成され
ている。A winding groove (14) as a groove for winding a coil is provided in the middle of the abutting surface of one of the auxiliary cores (6) constituting the magnetic core halves (III) and (IV). Are formed.
上記金属磁性薄膜(8),(9)は、上記巻線溝(1
4)内も含め前記補助コア部(6),(7)の突合わせ
面に沿ってフロント側からバック側に至るまで被着形成
されている。したがって、上記磁気コア半体(III),
(IV)同士を接合一体化することで、磁気ギャップg近
傍部が高飽和磁束密度を有する金属磁性薄膜(8),
(9)で形成され、当該磁気ギャップgでの磁界強度は
大きくなりメタルテープ等の高抗磁力磁気記録媒体に好
適な磁気ヘッドが実現される。The metal magnetic thin films (8) and (9) are connected to the winding groove (1).
4) It is formed from the front side to the back side along the abutting surfaces of the auxiliary core portions (6) and (7), including the inside. Therefore, the magnetic core half (III),
(IV) By joining and integrating each other, the metal magnetic thin film (8) having a high saturation magnetic flux density near the magnetic gap g,
The magnetic field strength at the magnetic gap g is increased by (9), and a magnetic head suitable for a high coercive force magnetic recording medium such as a metal tape is realized.
上記金属磁性膜(8),(9)には、高い飽和磁束密
度を有し且つ軟磁気特性に優れた強磁性材料が使用され
るが、かかる強磁性材料としては従来から公知のものが
いずれも使用でき、結晶質,非結晶質を問わない。例示
するならば、Fe−Al−Si系合金、Fe−Al系合金、Fe−Si
−Co系合金、Fe−Ni系合金、Fe−Al−Ge系合金、Fe−Ga
−Ge系合金、Fe−Si−Ge系合金、Fe−Co−Si−Al系合金
等の強磁性金属材料、あるいは、Fe−Ga−Si系合金、さ
らには、上記Fe−Ga−Si系合金の耐蝕性や耐摩耗性の一
層の向上を図るために、Fe,Ga,Co(Feの一部をCoで置換
したものを含む),Siを基本組成とする合金に、Ti,Cr,M
n,Zr,Nb,Mo,Ta,W,Ru,Os,Rh,Ir,Re,Ni,Pd,Pt,Hf,Vの少な
くとも1種を添加したものであってもよい。Ferromagnetic materials having a high saturation magnetic flux density and excellent soft magnetic properties are used for the metal magnetic films (8) and (9). Can also be used, regardless of whether it is crystalline or non-crystalline. For example, Fe-Al-Si alloy, Fe-Al alloy, Fe-Si
-Co alloy, Fe-Ni alloy, Fe-Al-Ge alloy, Fe-Ga
Ferromagnetic metal materials such as -Ge alloys, Fe-Si-Ge alloys, Fe-Co-Si-Al alloys, or Fe-Ga-Si alloys, and further, the above Fe-Ga-Si alloys In order to further improve the corrosion resistance and abrasion resistance of alloys, alloys containing Fe, Ga, Co (including those where Fe is partially replaced by Co) and Si,
n, Zr, Nb, Mo, Ta, W, Ru, Os, Rh, Ir, Re, Ni, Pd, Pt, Hf and V may be added.
また、強磁性非晶質金属合金、いわゆるアモルファス
合金(例えば、Fe,Ni,Coの1つ以上の元素とP,C,B,Siの
1つ以上の元素とからなる合金、またはこれを主成分と
しAl,Ge,Be,Sn,In,Mo,W,Ti,Mn,Cr,Zr,Hf,Nb等を含んだ
合金等のメタル−メタロイド系アモルファス合金、ある
いはCo,Hf,Zr等の遷移元素や希土類元素等を主成分とす
るメタル−メタル系アモルファス合金)等も使用され
る。Ferromagnetic amorphous metal alloys, so-called amorphous alloys (for example, alloys composed of one or more elements of Fe, Ni, Co and one or more elements of P, C, B, Si, or Metal-metalloid amorphous alloys such as alloys containing Al, Ge, Be, Sn, In, Mo, W, Ti, Mn, Cr, Zr, Hf, Nb, etc., or transitions of Co, Hf, Zr, etc. A metal-metal-based amorphous alloy containing an element or a rare earth element as a main component is also used.
これら金属磁性膜(8),(9)の成膜方法として
は、真空蒸着法,スパッタリング法,イオンプレーティ
ング法,クラスター・イオンビーム法等に代表される真
空薄膜形成技術が採用される。As a method of forming these metal magnetic films (8) and (9), a vacuum thin film forming technique represented by a vacuum evaporation method, a sputtering method, an ion plating method, a cluster ion beam method, or the like is employed.
また、上記金属磁性膜(8),(9)は前記強磁性合
金材料の単層膜であってもよいが、例えばSiO2,Ta2O3,A
l2O3,ZrO2,Si3N4等の絶縁膜を介して多層膜としてもよ
い。Further, the metal magnetic films (8) and (9) may be single-layer films of the ferromagnetic alloy material, for example, SiO 2 , Ta 2 O 3 , A
l 2 O 3, ZrO 2, or a multilayer film via an insulating film such as Si 3 N 4.
そして、本実施例の磁気ヘッドにあっては、上記金属
磁性薄膜(8),(9)と補助コア部(6),(7)と
の界面k1,K2に反応防止膜(15),(16)が形成されて
いる。In the magnetic head of this embodiment, the reaction preventing film (15) is provided on the interfaces k 1 and K 2 between the metal magnetic thin films (8) and (9) and the auxiliary cores (6) and (7). , (16) are formed.
上記反応防止膜(15),(16)の材料としては、例え
ば電気陰性度が1.9以上の金属又はこれらの合金であ
る。The material of the reaction prevention films (15) and (16) is, for example, a metal having an electronegativity of 1.9 or more, or an alloy thereof.
上記電気陰性度が1.9以上の金属としては、Re,Cu,Ag,
Au,Ru,Rh,Pd,Os,Ir,Pt等が挙げられ、なかでも電気陰性
度が2以上の白金族元素(Ru,Rh,Pd,Os,Ir,Pt)が好適
である。なお、前記金属を単独で反応防止膜(15),
(16)としてもよいし、電気陰性度が1.9以上の金属同
士を組み合わせた合金膜としてもよい。Metals having an electronegativity of 1.9 or more include Re, Cu, Ag,
Au, Ru, Rh, Pd, Os, Ir, Pt and the like can be mentioned. Among them, platinum group elements (Ru, Rh, Pd, Os, Ir, Pt) having an electronegativity of 2 or more are preferable. In addition, the metal alone is used as a reaction prevention film (15),
(16) or an alloy film combining metals having an electronegativity of 1.9 or more.
これらの金属は、酸化物磁性材料を構成する金属元素
(Fe,Mn,Zn等)に比べて化学的に安定で、酸素と結合し
難いものであるので、酸素原子の拡散を阻止し、上記金
属磁性薄膜(8),(9)と補助コア部(6),(7)
との界面k1,k2における反応を防止する役割を果たす。These metals are chemically stable compared to the metal elements (Fe, Mn, Zn, etc.) constituting the oxide magnetic material and are difficult to bond with oxygen. Metal magnetic thin films (8) and (9) and auxiliary core parts (6) and (7)
It serves to prevent reactions at the interfaces k 1 and k 2 with.
上述の反応防止膜(15),(16)は、前記電気陰性度
1.9以上の金属同士の組み合わせばかりでなく、当該金
属(電気陰性度が1.9以上の金属)と磁性金属とを組み
合わせた合金であってもよい。The above-mentioned reaction prevention films (15) and (16)
Not only a combination of 1.9 or more metals, but also an alloy in which the metal (a metal having an electronegativity of 1.9 or more) and a magnetic metal are combined.
この場合、使用可能な磁性金属としては、Fe,Co,Ni等
である。In this case, usable magnetic metals include Fe, Co, and Ni.
これら磁性金属との合金とすることにより、反応防止
膜(15),(16)にも磁性が付与され、界面に介在させ
たことによる磁気劣化を最小限に抑えることができる。By forming an alloy with these magnetic metals, the reaction preventing films (15) and (16) are also provided with magnetism, so that magnetic degradation caused by interposition at the interface can be minimized.
なお、前記磁性金属との合金とする場合、合金中に含
まれる電気陰性度1.9以上の金属の割合は2原子%以上
であることが好ましく、これを下回ると拡散防止効果が
不足することになる。In the case of forming an alloy with the magnetic metal, the proportion of the metal having an electronegativity of 1.9 or more contained in the alloy is preferably 2 atomic% or more, and if it is less than this, the diffusion preventing effect becomes insufficient. .
そして、本発明では、前述の電気陰性度1.9以上の金
属,合金あるいは磁性金属との合金よりなる反応防止膜
(15),(16)に、酸素を導入する。In the present invention, oxygen is introduced into the reaction prevention films (15) and (16) made of a metal, an alloy or an alloy with a magnetic metal having an electronegativity of 1.9 or more.
これによれば、補助コア部(6),(7)と反応防止
膜(15),(16)間及び該反応防止膜(15),(16)と
金属磁性薄膜(8),(9)間での酸素濃度勾配変化が
小さくなり、当該補助コア部(6),(7)を構成する
酸素原子の移動が抑制され拡散層の形成が防止される。According to this, between the auxiliary core portions (6) and (7) and the reaction prevention films (15) and (16), and between the reaction prevention films (15) and (16) and the metal magnetic thin films (8) and (9). The change in the oxygen concentration gradient between the auxiliary core portions (6) and (7) is reduced, and the movement of oxygen atoms constituting the auxiliary core portions (6) and (7) is suppressed, and the formation of a diffusion layer is prevented.
反応防止膜(15),(16)中に酸素を導入する手法と
しては、先のRe,Cu,Ag,Au等の金属あるいはRu,Rh,Pd,O
s,Ir,Pt等の白金族金属をスパッタリングや蒸着等によ
り補助コア部に成膜する際に、雰囲気中に酸素ガスを導
入する方法等が挙げられる。この際の酸素ガスの導入量
としては、例えばスパッタリングの場合では、通常の雰
囲気であるArガス中に当該酸素ガスを10%程度混入させ
る程度でよい。酸素ガスの導入量が過剰であるとスパッ
タリング効率が低下する虞れがある。As a method for introducing oxygen into the reaction preventing films (15) and (16), the above-mentioned metals such as Re, Cu, Ag, Au or Ru, Rh, Pd, O
When a platinum group metal such as s, Ir, or Pt is formed on the auxiliary core portion by sputtering, vapor deposition, or the like, a method of introducing oxygen gas into the atmosphere may be used. The amount of oxygen gas introduced at this time may be, for example, in the case of sputtering, such that about 10% of the oxygen gas is mixed into Ar gas which is a normal atmosphere. If the amount of the introduced oxygen gas is excessive, the sputtering efficiency may be reduced.
これにより、形成された薄膜中には酸素が強制固溶さ
れる。勿論、酸素が金属間に侵入するかたちでなく、例
えば電気陰性度1.9以上の金属の酸化物のかたちで導入
されたものであってもよい。Thereby, oxygen is forcibly dissolved in the formed thin film. Needless to say, oxygen may be introduced in the form of a metal oxide having an electronegativity of 1.9 or more, instead of the form in which oxygen penetrates between metals.
反応防止膜(15),(16)は、上述のような電気陰性
度1.9以上の金属又は合金に酸素を導入したものよりな
る単層膜であってもよいが、さらにはこれらを組み合わ
せた多層膜や磁性金属膜と組み合わせた積層膜等として
もよい。The reaction prevention films (15) and (16) may be a single-layer film made of a metal or alloy having an electronegativity of 1.9 or more and oxygen introduced as described above, or a multi-layer film obtained by combining these. It may be a laminated film combined with a film or a magnetic metal film.
したがって、積層膜としては、電気陰性度1.9以上の
金属又は合金膜と、酸素を含有する電気陰性度1.9以上
の金属又は合金膜とからなる積層膜や、電気陰性度1.9
以上の金属又は合金膜と、酸素を含有する磁性金属と合
金膜とからなる積層膜や、電気陰性度1.9以上の金属又
は合金膜と、酸素を含有する磁性金属膜とからなる積層
膜や、酸素を含有する電気陰性度1.9以上の金属又は合
金膜同士の積層膜や、酸素を含有する電気陰性度1.9以
上の金属又は合金膜と、電気陰性度1.9以上の金属と、
磁性金属の合金膜とからなる積層膜や、酸素を含有する
電気陰性度1.9以上の金属又は合金膜と、磁性金属とか
らなる積層膜や、酸素を含有する電気陰性度1.9以上の
金属と、磁性金属の合金膜と、磁性金属膜とからなる積
層膜等が例示される。Therefore, as the laminated film, a metal or alloy film having an electronegativity of 1.9 or more and a metal or alloy film containing oxygen having an electronegativity of 1.9 or more, or an electronegativity of 1.9 or more.
The above metal or alloy film, a laminated film of a magnetic metal and alloy film containing oxygen, a metal or alloy film having an electronegativity of 1.9 or more, a laminated film of a magnetic metal film containing oxygen, A stacked film of metal or alloy films containing electronegativity 1.9 or more containing oxygen, a metal or alloy film containing oxygen 1.9 or more containing oxygen, and a metal having an electronegativity 1.9 or more,
A laminated film composed of an alloy film of a magnetic metal and a metal or alloy film containing electronegativity 1.9 or more containing oxygen, a laminated film composed of a magnetic metal, and a metal containing electronegativity 1.9 or more containing oxygen, A laminated film composed of a magnetic metal alloy film and a magnetic metal film is exemplified.
この場合、積層膜の各層間で拡散が起こらないことが
好ましく、したがって相互の親和ポテンシャルが負とな
るような組み合わせとすることが好ましい。In this case, it is preferable that diffusion does not occur between the layers of the laminated film, and therefore, it is preferable that the combination is such that the mutual affinity potential is negative.
例えば、電気陰性度1.9以上の金属同士を多層化する
場合には、Pd−Pt,Pd−Rh等の組み合わせである。For example, when a metal having an electronegativity of 1.9 or more is to be multilayered, a combination of Pd-Pt, Pd-Rh, or the like is used.
上記Pd−Ptの積層膜は、第3図に示す状態図からも明
らかなように、Pd−50%Ptの積層膜ではおよそ800℃以
下の温度で2相分離している。つまりPt−Pd−Ptの順に
成膜すれば、この積層膜は800℃程度までは安定に存在
することを意味する。As is clear from the phase diagram shown in FIG. 3, the Pd-Pt laminated film is separated into two phases at a temperature of about 800 ° C. or less in the Pd-50% Pt laminated film. That is, if the films are formed in the order of Pt-Pd-Pt, this means that the laminated film exists stably up to about 800 ° C.
同様に、電気陰性度1.9以上の金属膜と磁性金属膜よ
りなる積層膜の場合には、Ag−Fe等の組み合わせが好適
で、Ag−Fe系では固相,液相において混じり合わないこ
とが知られている。このような組み合わせは、人工格子
膜等の分野で盛んに研究されており、したがってこれら
の中から高温で安定で磁性を有するような組み合わせを
選べばよい。特に、前記磁性金属膜を組み合わせた積層
膜の場合には、実質的な非磁性層は数原子層程度の膜厚
にまで薄くすることができ、疑似ギャップ効果の低減や
磁気抵抗の低減による出力の向上等が達成される。Similarly, in the case of a laminated film composed of a metal film having an electronegativity of 1.9 or more and a magnetic metal film, a combination of Ag-Fe or the like is preferable, and in the case of an Ag-Fe system, it is not mixed in a solid phase or a liquid phase. Are known. Such a combination has been actively studied in the field of artificial lattice films and the like. Therefore, a combination which is stable at high temperature and has magnetism may be selected from these. In particular, in the case of a laminated film in which the magnetic metal films are combined, the substantial nonmagnetic layer can be reduced to a thickness of about several atomic layers, and the output due to the reduction of the pseudo gap effect and the reduction of the magnetoresistance. Is achieved.
上記の反応防止膜(15),(16)の膜厚としては、い
ずれの場合にも1000Å以下であることが好ましく、実用
的には5Å以上、かつ光学ギャップ長の10分の1以下の
範囲であることが好ましい。すなわち、この範囲より反
応防止膜(15),(16)の膜厚が薄いと反応防止効果が
得られなくなり、逆に厚いと疑似ギャップによる弊害が
生ずる虞れがある。特に、積層膜とする場合には、その
反応防止効果が非常に高いので、数十Å以下とすること
が好ましい。The film thickness of the reaction preventing films (15) and (16) is preferably 1000 ° or less in each case, and practically 5 ° or more and 1/10 or less of the optical gap length. It is preferred that That is, if the thickness of the reaction preventing films (15) and (16) is smaller than this range, the effect of preventing the reaction cannot be obtained, and if the film is thicker, adverse effects due to the pseudo gap may occur. In particular, in the case of forming a laminated film, the effect of preventing the reaction is extremely high.
以上、本実施例の磁気ヘッドは、前述に掲げる材料に
より形成された反応防止膜(15),(16)の介在により
金属磁性薄膜と酸化物磁性材料との界面に拡散層が形成
されることがないため、金属磁性薄膜の被着条件、例え
ばスパッタリング温度,スパッタリング速度等の条件を
緩い条件で管理可能となる。さらには、ガラス融着時の
熱処理等の条件も緩和されるので、歩留りの向上や製造
条件の管理等の点で有利であり、信頼性の点においても
充分良好なものとなる。As described above, in the magnetic head of this embodiment, the diffusion layer is formed at the interface between the metal magnetic thin film and the oxide magnetic material by the interposition of the reaction prevention films (15) and (16) formed of the above-mentioned materials. Since there is no such condition, it is possible to control the conditions for depositing the metal magnetic thin film, for example, the conditions such as the sputtering temperature and the sputtering rate under mild conditions. Further, since conditions such as heat treatment at the time of glass fusion are relaxed, it is advantageous in terms of improvement in yield, management of manufacturing conditions, and the like, and sufficiently satisfactory in reliability.
なお、本実施例の磁気ヘッドにおいては、両方の磁気
コア半体(III),(IV)に対し磁気ギャップgの両端
においてトラック幅規制溝(10),(11)を斜めに切り
欠くことによりトラック幅Twを決定しているが、例えば
第4図に示すように一方の磁気コア半体(III)のみに
よりトラック幅を規定するようにしてもよい。In the magnetic head of this embodiment, the track width regulating grooves (10) and (11) are obliquely cut at both ends of the magnetic gap g with respect to both magnetic core halves (III) and (IV). Although the track width Tw is determined, for example, the track width may be defined by only one magnetic core half (III) as shown in FIG.
すなわち、一方の磁気コア半体(III)に関しては、
金属磁性薄膜(8)を被着形成した後に、所定のトラッ
ク幅Twと一致するL2なる幅で磁気ギャップg近傍部を切
り欠く。一方、磁気コア半体(IV)に関しては、予め補
助コア部(7)にトラック幅規制(11)を設けてから金
属磁性薄膜(9)を被着するが、このときトラック幅規
制(11)による磁気コア半体(IV)側の突き合わせ幅L2
に余裕を持たせておき、実際のトラック幅Twよりも若干
広めに設定しておく。That is, for one magnetic core half (III),
The metal magnetic thin film (8) after the deposited and formed, cutting out the magnetic gap g vicinity by L 2 becomes wide matches a predetermined track width Tw. On the other hand, regarding the magnetic core half (IV), the track width regulation (11) is provided in advance on the auxiliary core part (7), and then the metal magnetic thin film (9) is applied. Width L 2 of the magnetic core half (IV) side
Is set to be slightly larger than the actual track width Tw.
これような設定とすれば、磁気コア半体(III),(I
V)の接合時にトラックずれが生じたとしても、トラッ
ク幅Twは前記磁気コア半体(III)の突合わせ面の長さL
2により規制される。さらには、磁気ギャップgの両端
が明瞭なものとなるので、トラック幅Twは正確に制御さ
れる。With such a setting, the magnetic core halves (III), (I
Even if a track shift occurs at the time of joining of V), the track width Tw is equal to the length L of the butted surface of the magnetic core half (III).
Regulated by 2 . Furthermore, since both ends of the magnetic gap g become clear, the track width Tw is accurately controlled.
なお、第4図において、第1図および第2図に示す磁
気ヘッドと同一の部材には同一の符号を付し、その説明
は省略した。In FIG. 4, the same members as those of the magnetic head shown in FIGS. 1 and 2 are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.
また、本実施例では、両方の磁気コア半体に金属磁性
薄膜が形成された磁気ヘッドについて説明したが、本発
明はこれに限定されるものではなく、例えば片方の磁気
コア半体のみに金属磁性薄膜が形成された磁気ヘッドに
も適用できることは言うまでもない。Further, in the present embodiment, the magnetic head in which the metal magnetic thin film is formed on both magnetic core halves has been described. However, the present invention is not limited to this. Needless to say, the present invention can be applied to a magnetic head on which a magnetic thin film is formed.
次に、本発明者等が実際に試作した磁気ヘッドについ
て説明する。Next, a description will be given of a magnetic head actually manufactured by the present inventors.
参考例1 本例では、上記に掲げる材料のうち電気陰性度が1.9
以上の金属を反応防止膜(15),(16)に用いて、前記
第1図に示す如き磁気ヘッド(8ミリビデオテープレコ
ーダ用の磁気ヘッド。)を作製した。Reference Example 1 In this example, among the materials listed above, the electronegativity was 1.9
Using the above metals for the reaction preventing films (15) and (16), a magnetic head (a magnetic head for an 8 mm video tape recorder) as shown in FIG. 1 was manufactured.
すなわち、PtとPd金属をそれぞれ反応防止膜(15),
(16)とし、Mn−Zn系フェライトからなる補助コア部
(6),(7)にスパッタリングし、その上にFe−Ga−
Si−Ruからなる金属磁性薄膜(8),(9)を被着して
磁気コア半体を作製し、これら磁気コア半体をSiO2膜を
ギャップスペーサとして挟み込んでガラス融着した。な
お、上記PtとPd金属の膜厚をそれぞれ60Åとし,金属磁
性薄膜(8),(9)の膜厚を4μm,SiO2膜の膜厚を12
50Åとした。That is, the Pt and Pd metals are respectively reacted with a reaction prevention film (15),
(16) and sputtered on the auxiliary cores (6) and (7) made of Mn-Zn ferrite, and Fe-Ga-
Metal magnetic thin film made of Si-Ru (8), to prepare a magnetic core halves by adhering the (9), these magnetic cores halves and glass fusing sandwich the SiO 2 film as a gap spacer. The thicknesses of the Pt and Pd metals were each set to 60 °, the thickness of the metal magnetic thin films (8) and (9) was 4 μm, and the thickness of the SiO 2 film was 12 μm.
50 mm.
また、比較のために、反応防止膜(15),(16)を設
けず、フェライトからなる補助コア部(6),(7)に
直接Fe−Ga−Si−Ruの金属磁性薄膜(8),(9)を被
着して磁気コア半体を作製し、これら磁気コア半体をSi
O2膜をギャップスペーサとして挟み込んでガラス融着し
て磁気ヘッドを作製した。なお、その他の条件は先の磁
気ヘッドと同一とした。For comparison, a metal magnetic thin film (8) of Fe—Ga—Si—Ru is directly provided on the auxiliary cores (6) and (7) made of ferrite without providing the reaction prevention films (15) and (16). , (9) are applied to form magnetic core halves, and these magnetic core halves are
A magnetic head was manufactured by fusing glass with an O 2 film interposed as a gap spacer. The other conditions were the same as those of the magnetic head.
そして、これら磁気ヘッドを使用して再生を行った。
結果を第5図及び第6図に示す。なお、第5図はPtある
いはPdからなる反応防止膜(15),(16)を設けた場合
の再生信号の周波数特性を示し、第6図は比較例ヘッド
(反応防止膜なし)の再生信号の周波数特性を示す。Then, reproduction was performed using these magnetic heads.
The results are shown in FIGS. 5 and 6. FIG. 5 shows the frequency characteristics of the reproduced signal when the reaction prevention films (15) and (16) made of Pt or Pd are provided, and FIG. 6 shows the reproduction signal of the comparative example head (without the reaction prevention film). FIG.
その結果、PtあるいはPdを反応防止膜(15),(16)
として界面k1,k2に介在させた磁気ヘッドの周波数特性
(図中AはPtの場合、BはPdの場合をそれぞれ示す。)
には、いずれもうねりの幅がほとんど見られなかった。
すなわち、上記PtあるいはPdを反応防止膜(15),(1
6)として介在させた磁気ヘッドでは、そのうねりの幅
が0.3〜0.5dBと極めて小さい値であるので、8ミリビデ
オテープレコーダ用の磁気ヘッドとして充分な性能を有
していると判断された。As a result, Pt or Pd is converted to a reaction prevention film (15), (16)
Frequency characteristics of the magnetic head interposed at the interfaces k 1 and k 2 (A shows Pt, B shows Pd, respectively).
Had almost no swell in any case.
That is, the Pt or Pd is converted to a reaction prevention film (15), (1)
The magnetic head interposed in 6) had an extremely small undulation width of 0.3 to 0.5 dB, and thus was judged to have sufficient performance as a magnetic head for an 8 mm video tape recorder.
したがって、本例の磁気ヘッドは、フェライトと金属
磁性薄膜との界面で拡散層の形成が防止され、本来の磁
気ギャップと干渉を起こす疑似ギャップの発生が有効に
抑制されたものであると言える。Therefore, it can be said that the magnetic head of this example is one in which the formation of the diffusion layer at the interface between the ferrite and the metal magnetic thin film is prevented, and the generation of the pseudo gap causing interference with the original magnetic gap is effectively suppressed.
これに対して、反応防止膜(15),(16)が配されて
いない磁気ヘッドの周波数特性は、第6図に示すよう
に、そのうねりの幅は2〜3dB程度であった。すなわ
ち、フェライトと金属磁性薄膜との界面に拡散層が形成
され、これが疑似ギャップとして動作していることが示
された。On the other hand, as shown in FIG. 6, the frequency characteristic of the magnetic head without the reaction preventing films (15) and (16) had a swell width of about 2 to 3 dB. That is, it was shown that a diffusion layer was formed at the interface between the ferrite and the metal magnetic thin film, and this operated as a pseudo gap.
本発明の実施例 本例では、電気陰性度1.9以上の金属よりなる反応防
止膜(15),(16)に酸素を強制固溶せしめ、これを補
助コア部(6),(7)と金属磁性薄膜(8),(9)
との界面k1,k2に配してやはり第1図に示す如き磁気ヘ
ッドを作製した。Embodiment of the present invention In this embodiment, oxygen is forcibly solid-dissolved in the reaction prevention films (15) and (16) made of a metal having an electronegativity of 1.9 or more, and this is mixed with the auxiliary core portions (6) and (7). Magnetic thin film (8), (9)
A magnetic head as shown in FIG. 1 was also produced by disposing the magnetic heads at interfaces k 1 and k 2 .
本例の磁気ヘッドでは、上記補助コア部(6),
(7)と金属磁性薄膜(8),(9)間での酸素濃度変
化は、第7図に示すように小さい値であった。すなわ
ち、上記反応防止膜(15),(16)が酸素を含有するた
めに、補助コア部(6),(7)と反応防止膜(15),
(16)間,該反応防止膜(15),(16)と金属磁性薄膜
(8),(9)間の酸素濃度勾配がそれぞれ小さくな
り、全体として前記界面k1,k2の酸素濃度勾配は小さな
ものとなった。In the magnetic head of this embodiment, the auxiliary core (6),
The change in oxygen concentration between (7) and the metal magnetic thin films (8) and (9) was a small value as shown in FIG. That is, since the reaction prevention films (15) and (16) contain oxygen, the auxiliary cores (6) and (7) and the reaction prevention films (15) and (7)
During (16), the oxygen concentration gradient between the reaction preventing films (15) and (16) and the metal magnetic thin films (8) and (9) becomes smaller, and the oxygen concentration gradient at the interfaces k 1 and k 2 as a whole. Has become smaller.
このため、補助コア部(6),(7)を構成する酸素
原子の金属磁性薄膜(8),(9)側に向かっての移動
あるいは金属磁性薄膜(8),(9)から補助コア部
(6),(7)側へ向かっての酸素原子の移動が抑制さ
れた。For this reason, the oxygen atoms forming the auxiliary cores (6) and (7) move toward the metal magnetic thin films (8) and (9), or the oxygen atoms forming the auxiliary cores (8) and (9) The movement of oxygen atoms toward (6) and (7) was suppressed.
なお、上記反応防止膜(15),(16)の金属磁性薄膜
(8),(9)間では多少の酸素原子の移動が見られた
が、磁気特性に大きな影響を及ぼすものではなかった。Although some movement of oxygen atoms was observed between the metal magnetic thin films (8) and (9) of the reaction preventing films (15) and (16), they did not significantly affect the magnetic properties.
参考例2 本例は、反応防止膜(15),(16)に電気陰性度が1.
9以上の金属と磁性金属よりなる合金を用いたものであ
る。Reference Example 2 In this example, the reaction prevention films (15) and (16) have an electronegativity of 1.
An alloy composed of nine or more metals and a magnetic metal is used.
すなわち、FeとRuとの合金,例えばFe80Ru20を反応防
止膜(15),(16)として補助コア部(6),(7)と
金属磁性薄膜(8),(9)の界面k1,k2に配し、第1
図に示す如き磁気ヘッドを作製した。なお、上記Fe80Ru
20の膜厚は600Åとし、一方金属磁性薄膜(8),
(9)にはFe−Ga−Si−Ruを用いその膜厚を4μmとし
た。That is, an alloy of Fe and Ru, for example, Fe 80 Ru 20 is used as a reaction prevention film (15) or (16) as an interface k between the auxiliary core portions (6) and (7) and the metal magnetic thin films (8) and (9). 1 , k 2 and the first
A magnetic head as shown in FIG. The above Fe 80 Ru
The thickness of 20 is 600 mm, while the metal magnetic thin film (8),
For (9), Fe-Ga-Si-Ru was used and its film thickness was 4 μm.
そして、この磁気ヘッドを用いて再生を行い周波数特
性を調べたところ、そのうねりの幅は0.6dB程度と極め
て低い値が得られ、また再生出力は5MHzで8ミリビデオ
テープレコーダ用の磁気ヘッドとして実用可能な値が得
られた。When reproduction was performed using this magnetic head and the frequency characteristics were examined, the width of the undulation was as low as about 0.6 dB, and the reproduction output was 5 MHz and used as a magnetic head for an 8 mm video tape recorder. Practical values were obtained.
以上の説明からも明らかなように、本発明の磁気ヘッ
ドにおいては、金属磁性薄膜と酸化物磁性材料との界面
に、電気陰性度1.9以上の金属又は合金からなり酸素を
含有する反応防止膜を配しているので、当該界面におけ
る反応が確実に防止され、疑似ギャップとして動作する
拡散層が形成されなくなり、再生特性のうねり等が解消
される。As is clear from the above description, in the magnetic head of the present invention, at the interface between the metal magnetic thin film and the oxide magnetic material, an oxygen-containing reaction preventing film made of a metal or alloy having an electronegativity of 1.9 or more is provided. As a result, the reaction at the interface is reliably prevented, a diffusion layer that operates as a pseudo gap is not formed, and the undulation of the reproduction characteristics is eliminated.
また、本発明においては、前記反応防止膜の膜厚を極
めて薄くすることができ、場合によっては磁性を付与す
ることもできるので、それ自体が疑似ギャップとして動
作する虞れもなく、磁気劣化も最小限に抑えることがで
きる。Further, in the present invention, the thickness of the reaction preventing film can be made extremely thin, and in some cases, magnetism can be imparted. Can be minimized.
したがって、電磁変換特性に優れ極めて良好な再生出
力を発揮する磁気ヘッドが提供できる。Therefore, it is possible to provide a magnetic head having excellent electromagnetic conversion characteristics and exhibiting extremely good reproduction output.
第1図は本発明を適用した磁気ヘッドの一例を示す斜視
図、第2図はその記録媒体摺動面の要部拡大平面図、第
3図はPd−Pt系積層膜の状態図、第4図は磁気ヘッドの
他の例の記録媒体摺動面を示す要部拡大平面図、第5図
は反応防止膜を配した磁気ヘッドの再生出力の周波数依
存性を示す特性図、第6図は反応防止膜を配さない磁気
ヘッドの周波数依存性を示す特性図、第7図は酸素を含
有する反応防止膜を介在させた場合の酸素濃度の変化を
示す模式図である。第8図は従来の磁気ヘッドの一例を
示す斜視図である。 6,7……補助コア部 8,9……金属磁性薄膜 15,16……反応防止膜FIG. 1 is a perspective view showing an example of a magnetic head to which the present invention is applied, FIG. 2 is an enlarged plan view of a main part of a sliding surface of a recording medium, FIG. 3 is a state diagram of a Pd-Pt-based laminated film, and FIG. FIG. 4 is an enlarged plan view of a main part showing a sliding surface of a recording medium of another example of the magnetic head, FIG. 5 is a characteristic diagram showing the frequency dependence of the reproduction output of the magnetic head provided with the reaction preventing film, and FIG. FIG. 7 is a characteristic diagram showing the frequency dependence of a magnetic head having no reaction preventing film, and FIG. 7 is a schematic diagram showing a change in oxygen concentration when an oxygen-containing reaction preventing film is interposed. FIG. 8 is a perspective view showing an example of a conventional magnetic head. 6,7… Auxiliary core 8,9… Metal magnetic thin film 15,16… Reaction prevention film
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 本多 順一 東京都品川区北品川6丁目5番6号 ソ ニー・マグネ・プロダクツ株式会社内 (72)発明者 久村 達雄 東京都品川区北品川6丁目5番6号 ソ ニー・マグネ・プロダクツ株式会社内 (56)参考文献 特開 昭63−124208(JP,A) 特開 昭63−279404(JP,A) ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Junichi Honda 6-5-6 Kita-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Inside Sony Magne Products Inc. (72) Inventor Tatsuo Hisamura 6 Kita-Shinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo No. 5-6, Sony Magne Products Co., Ltd. (56) References JP-A-63-124208 (JP, A) JP-A-63-279404 (JP, A)
Claims (2)
性材料と金属磁性薄膜により構成される一対の磁気コア
半体が突合わされ、上記金属磁性薄膜の突合わせ面に磁
気ギャップが形成されてなる磁気ヘッドであって、 上記金属磁性薄膜と上記酸化物磁性材料との間に電気陰
性度1.9以上の金属又は合金よりなる薄膜が反応防止膜
として配されており、 上記反応防止膜が酸素を含有すること を特徴とする磁気ヘッド。A pair of magnetic core halves each having at least one magnetic core half composed of an oxide magnetic material and a metal magnetic thin film are abutted, and a magnetic gap is formed on the abutting surface of the metal magnetic thin film. A thin film made of a metal or an alloy having an electronegativity of 1.9 or more is disposed as a reaction preventing film between the metal magnetic thin film and the oxide magnetic material, and the reaction preventing film removes oxygen. A magnetic head characterized by containing.
と磁性金属との合金よりなる薄膜であることを特徴とす
る請求項1記載の磁気ヘッド。2. The magnetic head according to claim 1, wherein the reaction preventing film is a thin film made of an alloy of a metal having a electronegativity of 1.9 or more and a magnetic metal.
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- 1988-03-23 JP JP63067346A patent/JP2625838B2/en not_active Expired - Fee Related
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| JPH01241007A (en) | 1989-09-26 |
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