JP2980693B2 - ホスホリルフルオログルコサミン誘導体 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の目的】

【０００２】

【産業上の利用分野】本発明は、マクロファージ活性化
に基づいた抗腫瘍作用を有する、新規なホスホリルフル
オログルコサミン誘導体及びその塩に関する。

【０００３】

【従来の技術】腸内細菌から得られたグラム陰性菌の細
胞壁の最表層には、菌体外に分泌されない毒成分（内毒
素）が含まれており、この内毒素は、内毒素活性以外に
も、生体の自己防衛にかかわる免疫アジュバント活性、
マクロファージ活性、マイトジェン活性、発熱作用、腫
瘍壊死作用、抗体産生増強作用、ＴＮＦ誘導作用等の多
様な生物活性を示す。かかる内毒素はリポ多糖よりな
り、いわゆるリピドＡ部分が内毒素活性の活性中心であ
ることが確認されている（井本等、テトラヘドロン・レ
ターズ，26巻，1545頁（1985年））。一方、リピドＡ生
合成前駆体として、モノサッカライドであるリピドＸ、
Ｙが、E.coli変異株より分離され、これらもリピドＡと
同様の活性を示すことが明かとなった。

【０００４】これらの結果をもとにして、リピドＡ、Ｘ
又はＹの誘導体を合成し、その活性を調べることが行な
われることとなった（例えば、井本等、テトラヘドロン
・レターズ, 26巻, 1545頁 (1985年) 又は長谷川、木曽
等、カーボハイドレイト・リサーチ, 162 巻, 127 頁
（1987年))。しかしながら、細菌の内毒素そのものであ
るため、致死毒性、発熱作用、白血球減少、自己免疫疾
患の誘導等の問題が残る。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明者等は、リピド
Ａモノサッカライド誘導体に属する、ホスホリルフルオ
ログルコサミン誘導体の合成とその薬理活性について永
年に亘り、鋭意研究を行なった結果、既知のリピドＡモ
ノサッカライド誘導体とは構造を異にする、新規なホス
ホリルフルオログルコサミン誘導体が優れたマクロファ
ージ活性化作用を有し、免疫賦活剤又は抗腫瘍剤として
有用であることを見出し、本発明を完成した。

【０００６】

【発明の構成】本発明の新規なホスホリルフルオログル
コサミン誘導体は、一般式

【０００７】

【化２】

【０００８】［式中、R1及びR4のうち、一方は、水酸基
又は保護された水酸基を示し、他方、弗素原子を示す。

【０００９】R2及びR3は、同一又は異なって、置換され
ていてもよい炭素数６乃至20個の脂肪族アシル基（該置
換基は、下記Ａ群より選択される基を示す。）を示
す。］又は、一般式

【００１０】

【化３】

【００１１】［式中、R1及びR4のうち、一方は、水酸基
又は保護された水酸基を示し、他方は、弗素原子を示
す。

【００１２】R2及びR3は、同一で、置換されていてもよ
い炭素数６乃至20個の脂肪族アシル基（該置換基は、下
記Ａ群より選択される基を示す。）を示す。］で表わさ
れる。 ［Ａ群］ ハロゲン原子、アリール基、アラルキル基、水酸基又は
炭素数６乃至20個の脂肪族アシルオキシ基。

【００１３】上記一般式(I) において、R1及びR4の定義
における「保護された水酸基」の「保護基」としては、
反応における保護基及び生体に投与する際の保護基を示
し、例えば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチ
リル、イソブチリル、ペンタノイル、ピバロイル、バレ
リル、イソバレリル、オクタノイル、ラウロイル、ミリ
ストイル、トリデカノイル、パルミトイル、ステアロイ
ルのようなアルキルカルボニル基、クロロアセチル、ジ
クロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロア
セチルのようなハロゲン化アルキルカルボニル基、メト
キシアセチルのような低級アルコキシアルキルカルボニ
ル基、(E)-2-メチル-2- ブテノイルのような不飽和アル
キルカルボニル基等の脂肪族アシル基；ベンゾイル、α
−ナフトイル、β−ナフトイルのようなアリールカルボ
ニル基、2-ブロモベンゾイル、4-クロロベンゾイルのよ
うなハロゲン化アリールカルボニル基、2,4,6-トリメチ
ルベンゾイル、4-トルオイルのような低級アルキル化ア
リールカルボニル基、4-アニソイルのような低級アルコ
キシ化アリールカルボニル基、4-ニトロベンゾイル、2-
ニトロベンゾイルのようなニトロ化アリールカルボニル
基、2-（メトキシカルボニル）ベンゾイルのような低級
アルコキシカルボニル化アリールカルボニル基、4-フェ
ニルベンゾイルのようなアリール化アリールカルボニル
基等の芳香族アシル基；ビニル、アリルのような低級ア
ルケニル基；テトラヒドロピラン-2- イル、3-ブロモテ
トラヒドロピラン-2- イル、4-メトキシテトラヒドロピ
ラン-4- イル、テトラヒドロチオピラン-2- イル、4-メ
トキシテトラヒドロチオピラン-4- イルのようなテトラ
ヒドロピラニル又はテトラヒドロチオピラニル基；テト
ラヒドロフラン-2- イル、テトラヒドロチオフラン-2-
イルのようなテトラヒドロフラニル又はテトラヒドロチ
オフラニル基；トリメチルシリル、トリエチルシリル、
イソプロピルジメチルシリル、t-ブチルジメチルシリ
ル、メチルジイソプロピルシリル、メチルジ-t- ブチル
シリル、トリイソプロピルシリルのようなトリ低級アル
キルシリル基、ジフェニルメチルシリル、ジフェニル-t
- ブチルシリル、ジフェニルイソプロピルシリル、フェ
ニルジイソプロピルシリルのような１乃至２個のアリー
ル基で置換されたトリ低級アルキルシリル基等のシリル
基；メトキシメチル、1,1-ジメチル-1- メトキシメチ
ル、エトキシメチル、プロポキシメチル、イソプロポキ
シメチル、ブトキシメチル、t-ブトキシメチルのような
低級アルコキシメチル基、2-メトキシエトキシメチルの
ような低級アルコキシ化低級アルコキシメチル基、2,2,
2-トリクロロエトキシメチル、ビス(2- クロロエトキ
シ）メチルのようなハロゲン化低級アルコキシメチル等
のアルコキシメチル基；1-エトキシエチル、1-メチル-1
- メトキシエチル、1-（イソプロポキシ）エチルのよう
な低級アルコキシ化エチル基、2,2,2-トリクロロエチル
のようなハロゲン化エチル基、2-（フェニルゼレニル）
エチルのようなアリールゼレニル化エチル基等の置換エ
チル基；ベンジル、フェネチル、3-フェニルプロピル、
α−ナフチルメチル、β−ナフチルメチル、ジフェニル
メチル、トリフェニルメチル、α−ナフチルジフェニル
メチル、9-アンスリルメチルのような１乃至３個のアリ
ール基で置換された低級アルキル基、4-メチルベンジ
ル、2,4,6-トリメチルベンジル、3,4,5-トリメチルベン
ジル、4-メトキシベンジル、4-メトキシフェニルジフェ
ニルメチル、2-ニトロベンジル、4-ニトロベンジル、4-
クロロベンジル、4-ブロモベンジル、4-シアノベンジ
ル、4-シアノベンジルジフェニルメチル、ビス(2- ニト
ロフェニル）メチル、ピペロニルのような低級アルキ
ル、低級アルコキシ、ニトロ、ハロゲン、シアノ基でア
リール環が置換された１乃至３個のアリール基で置換さ
れた低級アルキル基等のアラルキル基；メトキシカルボ
ニル、エトキシカルボニル、t-ブトキシカルボニル、イ
ソブトキシカルボニルのような低級アルコキシカルボニ
ル基、2,2,2-トリクロロエトキシカルボニル、2-トリメ
チルシリルエトキシカルボニルのようなハロゲン又はト
リ低級アルキルシリル基で置換された低級アルコキシカ
ルボニル基等のアルコキシカルボニル基；ビニルオキシ
カルボニル、アリルオキシカルボニルのようなアルケニ
ルオキシカルボニル基；ベンジルオキシカルボニル、4-
メトキシベンジルオキシカルボニル、3,4-ジメトキシベ
ンジルオキシカルボニル、2-ニトロベンジルオキシカル
ボニル、4-ニトロベンジルオキシカルボニルのような、
１乃至２個の低級アルコキシ又はニトロ基でアリール環
が置換されていてもよいアラルキルオキシカルボニル
基；アリル基のような反応における保護基；式-COCH₂CH
₂COOH 、-COCH₂CH(OH)COOH若しくは-COCH=CH-COOH を有
する化合物のような末端にカルボキシ基を有するアシル
基；又はピバロイルオキシメチルオキシカルボニルのよ
うな生体の投与する際の保護基を挙げることができる。

【００１４】R2及びR3の定義における「置換されていて
もよい炭素数６乃至20個の脂肪族アシル基」の「炭素数
６乃至20個の脂肪族アシル基」及びＡ群の定義における
「炭素数６乃至20個の脂肪族アシルオキシ基」の「炭素
数６乃至20個の脂肪族アシル基」としては、例えばペン
チルカルボニル、ヘキシルカルボニル、ヘプチルカルボ
ニル、オクチルカルボニル、ノニルカルボニル、デシル
カルボニル、3-メチルノニルカルボニル、8-メチルノニ
ルカルボニル、3-エチルオクチルカルボニル、3,7-ジメ
チルオクチルカルボニル、ウンデシルカルボニル、ドデ
シルカルボニル、トリデシルカルボニル、テトラデシル
カルボニル、ペンタデシルカルボニル、ヘキサデシルカ
ルボニル、1-メチルペンタデシルカルボニル、14- メチ
ルペンタデシルカルボニル、13,13-ジメチルテトラデシ
ルカルボニル、ヘプタデシルカルボニル、15- メチルヘ
キサデシルカルボニル、オクタデシルカルボニル、1-メ
チルヘプタデシルカルボニル及びノナデシルカルボニル
を挙げることができるが、好適には炭素数10乃至16個の
直鎖又は分枝鎖脂肪族アシル基である。

【００１５】Ａ群の定義における「ハロゲン原子」とし
ては、弗素、塩素、臭素又は沃素を示す。

【００１６】Ａ群の定義における「アリール基」とは、
例えばフェニル、ナフチルのような炭素数6 乃至14個の
芳香族炭化水素基を挙げることができ、好適にはフェニ
ル基である。尚、該基は、アリール基の環上に、1 乃至
4 個の置換基を有していてもよく、斯かる置換基として
は、アミノ基；ニトロ基；シアノ基；後記「低級アルキ
ル」、後記「ハロゲノ低級アルキル」若しくは後記「ア
ラルキル」で置換されてエステル型となっていてもよい
ガルボン酸残基；カルバモイル基；炭素数1 乃至6 個の
直鎖又は分枝鎖アルキル基が置換した低級アルキル置換
カルバモイル基（好適には炭素数1 乃至4 個のアルキル
基が置換したカルバモイル基、更に好適には、メチルカ
ルバモイル、ジメチルカルバモイルである。）；前記ハ
ロゲン原子；メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピ
ル、n-ブチル、イソブチル、s-ブチル、t-ブチル、n-ペ
ンチル、イソペンチル、2-メチルブチル、ネオペンチ
ル、n-ヘキシル、4-メチルペンチル、3-メチルペンチ
ル、2-メチルペンチル、3,3-ジメチルブチル、2,2-ジメ
チルブチル、1,1-ジメチルブチル、1,2-ジメチルブチ
ル、1,3-ジメチルブチル、2,3-ジメチルブチルのような
炭素数1 乃至6 個の直鎖又は分枝鎖の低級アルキル基；
トリフルオロメチル、トリクロロメチル、ジフルオロメ
チル、ジクロロメチル、ジブロモメチル、フルオロメチ
ル、2,2,2-トリクロロエチル、2,2,2-トリフルオロエチ
ル、2-ブロモエチル、2-クロロエチル、2-フルオロエチ
ル、2,2-ジブロモエチルのようなハロゲノ低級アルキル
基；前記「脂肪族アシル基」；及びメチレンジオキシ、
エチレンジオキシ、プロピレンジオキシのような炭素数
1 乃至4 個のアルキレンジオキシ基を挙げることがで
き、好適には、低級アルキル基及びハロゲン原子であ
る。

【００１７】基全体としては、好適には、フェニル、ナ
フチルのようなアリール基；2-フルオロフェニル、3-フ
ルオロフェニル、4-フルオロフェニル、2-クロロフェニ
ル、3-クロロフェニル、4-クロロフェニル、2-ブロモフ
ェニル、3-ブロモフェニル、4-ブロモフェニル、3,5-ジ
フルオロフェニル、2,5-ジフルオロフェニル、2,6-ジフ
ルオロフェニル、2,4-ジフルオロフェニル、3,5-ジブロ
モフェニル、2,5-ジブロモフェニル、2,6-ジクロロフェ
ニル、2,4-ジクロロフェニル、2,3,6-トリフルオロフェ
ニル、2,3,4-トリフルオロフェニル、3,4,5-トリフルオ
ロフェニル、2,5,6-トリフルオロフェニル、2,4,6-トリ
フルオロフェニル、2,3,6-トリブロモフェニル、2,3,4-
トリブロモフェニル、3,4,5-トリブロモフェニル、2,5,
6-トリクロロフェニル、2,4,6-トリクロロフェニル、1-
フルオロ-2- ナフチル、2-フルオロ-1- ナフチル、3-フ
ルオロ-1- ナフチル、1-クロロ-2- ナフチル、2-クロロ
-1- ナフチル、3-ブロモ-1- ナフチル、3,8-ジフルオロ
-1- ナフチル、2,3-ジフルオロ-1- ナフチル、1,8- ジ
フルオロ-1- ナフチル、5,6-ジフルオロ、- 1-ナフチ
ル、3,8-ジクロロ-1- ナフチル、2,3ジクロロ-1- ナフ
チル、4,8-ジブロモ-1- ナフチル、5,6-ジブロモ-1- ナ
フチル、2,3,6-トリフルオロ-1- ナフチル、2,3,4-トリ
フルオロ-1- ナフチル、3,4,5-トリフルオロ-1- ナフチ
ル、4,5,6-トリフルオロ-1- ナフチル、2,4,8-トリフル
オロ-1- ナフチルのようなハロゲン原子で置換されたア
リール基；2-トリフルオロメチルフェニル、3-トリフル
オロメチルフェニル、4-トリフルオロメチルフェニル、
2-トリクロロメチルフェニル、3-ジクロロメチルフェニ
ル、4-トリクロロメチルフェニル、2-トリブロモメチル
フェニル、3-ジブロモメチルフェニル、4-ジブロモメチ
ルフェニル、3,5-ビストリフルオロメチルフェニル、2,
5-ビストリフルオロメチルフェニル、2,6-ビストリフル
オロメチルフェニル、2,4-ビストリフルオロメチルフェ
ニル、3,5-ビストリブロモメチルフェニル、2,5-ビスジ
ブロモメチルフェニル、2,6-ビスジクロロメチルメチル
フェニル、2,4-ビスジクロロメチルフェニル、2,3,6-ト
リストリフルオロメチルフェニル、2,3,4-トリストリフ
ルオロメチルフェニル、3,4,5-トリストリフルオロメチ
ルフェニル、2,5,6-トリストリフルオロメチルフェニ
ル、2,4,6-トリストリフルオロメチルフェニル、2,3,6-
トリストリブロモメチルフェニル、2,3,4-トリスジブロ
モメチルフェニル、3,4,5-トリストリブロモメチルフェ
ニル、2,5,6-トリスジクロロメチルメチルフェニル、2,
4,6-トリスジクロロメチルフェニル、1-トリフルオロメ
チル- 2-ナフチル、2-トリフルオロメチル- 1-ナフチ
ル、3-トリフルオロメチル- 1-ナフチル、1-トリクロロ
メチル- 2-ナフチル、2-ジクロロメチル- 1-ナフチル、
3-トリブロモメチル- 1-ナフチル、3,8-ビストリフルオ
ロメチル- 1-ナフチル、2,3-ビストリフルオロメチル-
1-ナフチル、4,8-ビストリフルオロメチル- 1-ナフチ
ル、5,6-ビストリフルオロメチル- 1-ナフチル、3,8-ビ
ストリクロロメチル- 1-ナフチル、2,3-ビスジクロロメ
チル- 1-ナフチル、4,8-ビスジブロモメチル- 1-ナフチ
ル、5,6-ビストリブロモメチル- 1-ナフチル、2,3,6-ト
リストリフルオロメチル- 1-ナフチル、2,3,4-トリスト
リフルオロメチル- 1-ナフチル、3,4,5-トリストリフル
オロメチル- 1-ナフチル、4,5,6-トリストリフルオロメ
チル- 1-ナフチル、2,4,8-トリストリフルオロメチル-
1-ナフチルのようなハロゲノ低級アルキル基で置換され
たアリール基；2-メチルフェニル、3-メチルフェニル、
4-メチルフェニル、2-エチルフェニル、3-プロピルフェ
ニル、4-エチルフェニル、2-ブチルフェニル、3-ペンチ
ルフェニル、4-ペンチルフェニル、3,5-ジメチルフェニ
ル、2,5-ジメチルフェニル、2,6-ジメチルフェニル、2,
4-ジメチルフェニル、3,5-ジブチルフェニル、2,5-ジペ
ンチルフェニル、2,6-ジプロピルメチルフェニル、2,4-
ジプロピルフェニル、2,3,6-トリメチルフェニル、2,3,
4-トリメチルフェニル、3,4,5-トリメチルフェニル、2,
5,6-トリメチルフェニル、2,4,6-トリメチルフェニル、
2,3,6-トリブチルフェニル、2,3,4-トリペンチルフェニ
ル、３，４，５−トリブチルフェニル、2,5,6-トリプロ
ピルメチルフェニル、2,4,6-トリプロピルフェニル、1-
メチル- 2-ナフチル、2-メチル- 1-ナフチル、3-メチル
- 1-ナフチル、1-エチル- 2-ナフチル、2-プロピル- 1-
ナフチル、3-ブチル-1- ナフチル、3,8-ジメチル- 1-ナ
フチル、2,3-ジメチル- 1-ナフチル、4,8-ジメチル- 1-
ナフチル、5,6-ジメチル-1- ナフチル、3,8-ジエチル-1
- ナフチル、2,3-ジプロピル-1- ナフチル、4,8-ジペン
チル-1- ナフチル、5,6-ジブチル-1- ナフチル、2,3,6-
トリメチル-1- ナフチル、2,3,4-トリメチル- 1-ナフチ
ル、3,4,5-トリメチル-1- ナフチル、4,5,6-トリメチル
-1- ナフチル、2,4,8-トリメチル-1- ナフチルのような
低級アルキル基で置換されたアリール基；2-アミノフェ
ニル、3-アミノフェニル、4-アミノフェニル、3,5-ジア
ミノフェニル、2,5-ジアミノフェニル、2,6-ジアミノフ
ェニル、2,4-ジアミノフェニル、2,3,6-トリアミノフェ
ニル、2,3,4-トリアミノフェニル、3,4,5-トリアミノフ
ェニル、2,5,6-トリアミノフェニル、2,4,6-トリアミノ
フェニル、1-アミノ-2- ナフチル、2-アミノ-1- ナフチ
ル、3-アミノ-1- ナフチル、3,8-ジアミノ- 1-ナフチ
ル、2,3-ジアミノ- 1-ナフチル、4,8-ジアミノ-1- ナフ
チル、5,6-ジアミノ-1- ナフチル、2,3,6-トリアミノ-
1-ナフチル、2,3,4-トリアミノ-1- ナフチル、3,4,5-ト
リアミノ- 1-ナフチル、4,5,6-トリアミノ- 1-ナフチ
ル、2,4,8-トリアミノ- 1-ナフチルのようなアミノ基で
置換されたアリール基；2-ニトロフェニル、3-ニトロフ
ェニル、4-ニトロフェニル、3,5-ジニトロフェニル、2,
5-ジニトロフェニル、2,6-ジニトロフェニル、2,4-ジニ
トロフェニル、2,3,6-トリニトロフェニル、2,3,4-トリ
ニトロフェニル、3,4,5-トリニトロフェニル、2,5,6-ト
リニトロフェニル、2,4,6-トリニトロフェニル、1-ニト
ロ- 2-ナフチル、2-ニトロ- 1-ナフチル、3-ニトロ- 1-
ナフチル、3,8-ジニトロ- 1-ナフチル、2,3-ジニトロ-
1-ナフチル、4,8-ジニトロ- 1-ナフチル、5,6-ジニトロ
- 1-ナフチル、2,3,6-トリニトロ- 1-ナフチル、2,3,4-
トリニトロ- 1-ナフチル、3,4,5-トリニトロ- 1-ナフチ
ル、４，5,6-トリニトロ- 1-ナフチル、2,4,8-トリニト
ロ- 1-ナフチルのようなニトロ基で置換されたアリール
基；2-シアノフェニル、3-シアノフェニル、4-シアノフ
ェニル、3,5-ジシアノフェニル、2,5-ジシアノフェニ
ル、2,6-ジシアノフェニル、2,4-ジシアノフェニル、2,
3,6-トリシアノフェニル、2,3,4-トリシアノフェニル、
3,4,5-トリシアノフェニル、2,5,6-トリシアノフェニ
ル、2,4,6-トリシアノフェニル、1-シアノ- 2-ナフチ
ル、2-シアノ- 1-ナフチル、3-シアノ- 1-ナフチル、3,
8-ジシアノ- 1-ナフチル、2,3-ジシアノ- 1-ナフチル、
4,8-ジシアノ- 1-ナフチル、5,6-ジシアノ- 1-ナフチ
ル、2,3,6-トリシアノ- 1-ナフチル、2,3,4-トリシアノ
- 1-ナフチル、3,4,5-トリシアノ-1- ナフチル、4,5,6-
トリシアノ- 1-ナフチル、2,4,8-トリシアノ- 1-ナフチ
ルのようなシアノ基で置換されたアリール基；2-アセチ
ルフェニル、3-アセチルフェニル、4-アセチルフェニ
ル、3,5-ジアセチルフェニル、2,5-ジアセチルフェニ
ル、2,6-ジアセチルフェニル、2,4-ジアセチルフェニ
ル、2,3,6-トリプロピオニルフェニル、2,3,4-トリプロ
ピオニルフェニル、3,4,5-トリプロピオニルフェニル、
2,5,6-トリブチリルフェニル、2,4,6-トリブチリルフェ
ニル、1-アセチル- 2-ナフチル、2-アセチル- 1-ナフチ
ル、3-アセチル-1- ナフチル、3,8-ジアセチル- 1-ナフ
チル、2,3-ジプロピオニル- 1-ナフチル、4,8-ジブチリ
ル- 1-ナフチル、5,6-ジブチリル- 1-ナフチル、2,3,6-
トリアセチル- 1-ナフチル、2,3,4-トリアセチル- 1-ナ
フチル、3,4,5-トリプロピオニル- 1-ナフチル、4,5,6-
トリブチリル- 1-ナフチル、2,4,8-トリブチリル- 1-ナ
フチルのような脂肪族アシル基で置換されたアリール
基；2-カルボキシフェニル、3-カルボキシフェニル、4-
カルボキシフェニル、3,5-ジカルボキシフェニル、2,5-
ジカルボキシフェニル、2,6-ジカルボキシフェニル、2,
4-ジカルボキシフェニルのようなカルボキシ基で置換さ
れたアリール基；2-カルバモイルフェニル、3-カルバモ
イルフェニル、4-カルバモイルフェニル、3,5-ジカルバ
モイルフェニル、2,5-ジカルバモイルフェニル、2,6-ジ
カルバモイルフェニル、2,4-ジカルバモイルフェニルの
ようなカルバモイル基で置換されたアリール基；3,4-メ
チレンジオキシフェニルのようなアルキレンジオキシ基
で置換されたアリール基を挙げることができる。

【００１８】Ａ群の定義における「アラルキル基」と
は、上記「アリール基」が前記「低級アルキル基」に結
合した基をいい、例えば、ベンジル、α- ナフチルメチ
ル、β- ナフチルメチル、ジフェニルメチル、トリフェ
ニルメチル、α- ナフチルジフェニルメチル、9-アンス
リルメチル、ピペロニル、1-フェネチル、2-フェネチ
ル、1-ナフチルエチル、2-ナフチルエチル、1-フェニル
プロピル、2-フェニルプロピル、3-フェニルプロピル、
1-ナフチルプロピル、2-ナフチルプロピル、3-ナフチル
プロピル、1-フェニルブチル、2-フェニルブチル、3-フ
ェニルブチル、4-フェニルブチル、1-ナフチルブチル、
2-ナフチルブチル、3-ナフチルブチル、4-ナフチルブチ
ル、1-フェニルペンチル、2-フェニルペンチル、3-フェ
ニルペンチル、4-フェニルペンチル、5-フェニルペンチ
ル、1-ナフチルペンチル、2-ナフチルペンチル、3-ナフ
チルペンチル、4-ナフチルペンチル、5-ナフチルペンチ
ル、1-フェニルヘキシル、2-フェニルヘキシル、3-フェ
ニルヘキシル、4-フェニルヘキシル、5-フェニルヘキシ
ル、6-フェニルヘキシル、1-ナフチルヘキシル、2-ナフ
チルヘキシル、3-ナフチルヘキシル、4-ナフチルヘキシ
ル、5-ナフチルヘキシル、6-ナフチルヘキシル、2-フル
オロベンジル、3-フルオロベンジル、4-フルオロベンジ
ル、2-クロロベンジル、3-クロロベンジル、4-クロロベ
ンジル、2-ブロモベンジル、3-ブロモベンジル、4-ブロ
モベンジル、3,5-ジフルオロベンジル、2,5-ジフルオロ
フェネチル、2,6-ジフルオロベンジル、2,4-ジフルオロ
フェネチル、3,5-ジブロモベンジル、2,5-ジブロモフェ
ネチル、2,6-ジクロロベンジル、2,4-ジクロロフェネチ
ル、2,3,6-トリフルオロベンジル、2,3,4-トリフルオロ
フェネチル、3,4,5-トリフルオロベンジル、2,5,6-トリ
フルオロフェネチル、2,4,6-トリフルオロベンジル、2,
3,6-トリブロモフェネチル、2,3,4-トリブロモベンジ
ル、3,4,5-トリブロモフェネチル、2,5,6-トリクロロベ
ンジル、2,4,6-トリクロロフェネチル、1-フルオロ- 2-
ナフチルメチル、2-フルオロ-1- ナフチルエチル、3-フ
ルオロ-1- ナフチルメチル、1-クロロ-2- ナフチルエチル、2-
クロロ-1- ナフチルメチル、3-ブロモ-1- ナフチルエチ
ル、3,8-ジフルオロ-1- ナフチルメチル、2,3-ジフルオ
ロ-1- ナフチルエチル、4,8-ジフルオロ-1- ナフチルメ
チル、5,6-ジフルオロ-1- ナフチルエチル、3,8-ジクロ
ロ-1- ナフチルメチル、2,3-ジクロロ-1- ナフチルエチ
ル、4,8-ジブロモ-1- ナフチルメチル、5,6-ジブロモ-1
- ナフチルエチル、2,3,6-トリフルオロ-1- ナフチルメ
チル、2,3,4-トリフルオロ-1- ナフチルエチル、3,4,5-
トリフルオロ-1- ナフチルメチル、4,5,6-トリフルオロ
-1- ナフチルエチル、2,4,8-トリフルオロ-1- ナフチル
メチル、ビス(2- フルオロフェニル）メチル、3-フルオ
ロフェニルフェニルメチル、ビス（4-フルオロフェニ
ル）メチル、4-フルオロフェニルフェニルメチル、ビス
（2-クロロフェニル）メチル、ビス（3-クロロフェニ
ル）メチル、ビス（4-クロロフェニル）メチル、4-クロ
ロフェニルフェニルメチル、2-ブロモフェニルフェニル
メチル、3-ブロモフェニルフェニルメチル、ビス（4-ブ
ロモフェニル）メチル、ビス（3,5-ジフルオロフェニ
ル）メチル、ビス（2,5-ジフルオロフェニル）メチル、
ビス（2,6-ジフルオロフェニル）メチル、2,4-ジフルオ
ロフェニルフェニルメチル、ビス（3,5-ジブロモフェニ
ル）メチル、2,5-ジブロモフェニルフェニルメチル、2,
6-ジクロロフェニルフェニルメチル、ビス（2,4-ジクロ
ロフェニル）メチル、ビス（2,3,6-トリフルオロフェニ
ル）メチルのようなハロゲン原子で置換されたアラルキ
ル基；2-トリフルオロメチルベンジル、3-トリフルオロ
メチルフェネチル、4-トリフルオロメチルベンジル、2-
トリクロロメチルフェネチル、3-ジクロロメチルベンジ
ル、4-トリクロロメチルフェネチル、2-トリブロモメチ
ルベンジル、3-ジブロモメチルフェネチル、4-ジブロモ
メチルベンジル、3,5-ビストリフルオロメチルフェネチ
ル、2,5-ビストリフルオロメチルベンジル、2,6-ビスト
リフルオロメチルフェネチル、2,4-ビストリフルオロメ
チルベンジル、3,5-ビストリブロモメチルフェネチル、
2,5-ビスジブロモメチルベンジル、2,6-ビスジクロロメ
チルメチルフェネチル、2,4-ビスジクロロメチルベンジ
ル、2,3,6-トリストリフルオロメチルフェネチル、2,3,
4-トリストリフルオロメチルベンジル、3,4,5-トリスト
リフルオロメチルフェネチル、2,5,6-トリストリフルオ
ロメチルベンジル、2,4,6-トリストリフルオロメチルフ
ェネチル、2,3,6-トリストリブロモメチルベンジル、2,
3,4-トリスジブロモメチルフェネチル、3,4,5-トリスト
リブロモメチルベンジル、2,5,6-トリスジクロロメチル
メチルフェネチル、2,4,6-トリスジクロロメチルベンジ
ル、1-トリフルオロメチル−2-ナフチルエチル、2-トリ
フルオロメチル-1- ナフチルメチル、3-トリフルオロメ
チル-1- ナフチルエチル、1-トリクロロメチル−2-ナフ
チルメチル、2-ジクロロメチル-1- ナフチルエチル、3-
トリブロモメチル-1- ナフチルメチル、3,8-ビストリフ
ルオロメチル-1- ナフチルエチル、2,3-ビストリフルオ
ロメチル-1- ナフチルメチル、4,8-ビストリフルオロメ
チル-1- ナフチルエチル、5,6-ビストリフルオロメチル
-1- ナフチルメチル、3,8-ビストリクロロメチル-1- ナ
フチルエチル、2,3-ビスジクロロメチル-1- ナフチルメ
チル、4,8-ビスジブロモメチル-1- ナフチルエチル、5,
6-ビストリブロモメチル-1- ナフチルメチル、2,3,6-ト
リストリフルオロメチル-1- ナフチルエチル、2,3,4-ト
リストリフルオロメチル-1- ナフチルメチル、3,4,5-ト
リストリフルオロメチル-1- ナフチルエチル、4,5,6-ト
リストリフルオロメチル-1- ナフチルメチル、2,4,8-ト
リストリフルオロメチル-1- ナフチルメチル、ビス（4-
トリフルオロメチルフェニル）メチル、4-トリフルオロ
メチルフェニルフェニルメチル、ビス（2-トリクロロメ
チルフェニル）メチル、ビス（3-トリクロロメチルフェ
ニル）メチル、ビス（4-トリクロロメチルフェニル）メ
チル、2-トリブロモメチルフェニルフェニルメチル、3-
トリブロモメチルフェニルフェニルメチル、ビス（4-ト
リブロモメチルフェニル）メチル、ビス（3,5-ビストリ
フルオロメチルフェニル）メチル、ビス（2,5-ビストリ
フルオロメチルフェニル）メチル、ビス（2,6-ビストリ
フルオロメチルフェニル）メチル、2,4-ビストリフルオ
ロメチルフェニルフェニルメチル、ビス（3,5-ビストリ
ブロモメチルフェニル）メチル、2,5-ビストリブロモメ
チルフェニルフェニルメチル、2,6-ビストリクロロメチ
ルフェニルフェニルメチル、ビス(2,4- ビストリクロロ
メチルフェニル）メチル、ビス（2,3,6-トリストリフル
オロメチルフェニル）メチルのようなハロゲノ低級アル
キル基で置換されたアラルキル基；2-メチルベンジル、
3-メチルベンジル、4-メチルベンジル、2-メチルフェネ
チル、4-メチルフェネチル、2-エチルベンジル、3-プロ
ピルフェネチル、4-エチルベンジル、2-ブチルフェネチ
ル、3-ペンチルベンジル、4-ペンチルフェネチル、3,5-
ジメチルベンジル、2,5-ジメチルフェネチル、2,6-ジメ
チルベンジル、2,4-ジメチルフェネチル、3,5-ジブチル
ベンジル、2,5-ジペンチルフェネチル、2,6-ジプロピル
ベンジル、2,4-ジプロピルフェネチル、2,3,6-トリメチ
ルベンジル、2,3,4-トリメチルフェネチル、3,4,5-トリ
メチルベンジル、2,4,6-トリメチルベンジル、2,5,6-ト
リメチルフェネチル、2,3,6-トリブチルフェネチル、2,
3,4-トリペンチルベンジル、3,4,5-トリブチルフェネチ
ル、2,5,6-トリプロピルベンジル、2,4,6-トリプロピル
フェネチル、1-メチル−2-ナフチルメチル、2-メチル-1
- ナフチルエチル、3-メチル-1- ナフチルメチル、1-エ
チル−2-ナフチルエチル、2-プロピル-1- ナフチルメチ
ル、3-ブチル-1- ナフチルエチル、3,8-ジメチル-1- ナ
フチルメチル、2,3-ジメチル-1- ナフチルエチル、4,8-
ジメチル-1- ナフチルメチル、5,6-ジメチル-1- ナフチ
ルエチル、3,8-ジエチル-1- ナフチルメチル、2,3-ジプ
ロピル-1- ナフチルメチル、4,8-ジペンチル-1- ナフチ
ルエチル、5,6-ジブチル-1- ナフチルメチル、2,3,6-ト
リメチル-1- ナフチルメチル、2,3,4-トリメチル-1- ナ
フチルエチル、3,4,5-トリメチル-1- ナフチルメチル、
4,5,6-トリメチル-1- ナフチルメチル、2,4,8-トリメチ
ル-1- ナフチルメチル、ビス（2-メチルフェニル）メチ
ル、3-メチルフェニルフェニルメチル、ビス（4-メチル
フェニル）メチル、4-メチルフェニルフェニルメチル、
ビス（2-エチルフェニル）メチル、ビス（3-エチルフェ
ニル）メチル、ビス（4-エチルフェニル）メチル、2-プ
ロピルフェニルフェニルメチル、3-プロピルフェニルフ
ェニルメチル、ビス（4-プロピルフェニル）メチル、ビ
ス（3,5-ジメチルフェニル）メチル、ビス（2,5-ジメチ
ルフェニル）メチル、ビス（2,6-ジメチルフェニル）メ
チル、2,4-ジメチルフェニルフェニルメチル、ビス（3,
5-ジプロピルフェニル）メチル、2,5-ジプロピルフェニ
ルフェニルメチル、2,6-ジエチルフェニルフェニルメチ
ル、ビス（2,4-ジエチルフェニル）メチル、ビス（2,3,
6-トリメチルフェニル）メチルのような低級アルキル基
で置換されたアラルキル基；2-アミノフェネチル、3-ア
ミノベンジル、4-アミノフェネチル、3,5-ジアミノベン
ジル、2,5-ジアミノフェネチル、2,6-ジアミノベンジ
ル、2,4-ジアミノフェネチル、2,3,6-トリアミノベンジ
ル、2,3,4-トリアミノフェネチル、3,4,5-トリアミノベ
ンジル、2,5,6-トリアミノフェネチル、2,4,6-トリアミ
ノベンジル、1-アミノ-2- ナフチルメチル、2-アミノ-1
- ナフチルエチル、3-アミノ-1- ナフチルメチル、3,8-
ジアミノ-1- ナフチルメチル、2,3-ジアミノ-1- ナフチ
ルエチル、4,8-ジアミノ-1- ナフチルメチル、5,6-ジア
ミノ-1- ナフチルメチル、2,3,6-トリアミノ-1- ナフチ
ルエチル、2,3,4-トリアミノ-1- ナフチルメチル、3,4,
5-トリアミノ-1- ナフチルメチル、4,5,6-トリアミノ-1
- ナフチルエチル、2,4,8-トリアミノ-1- ナフチルメチ
ル、ビス（2-アミノフェニル）メチル、3-アミノフェニ
ルフェニルメチル、ビス（4-アミノフェニル）メチル、
4-アミノフェニルフェニルメチル、ビス（3,5-ジアミノ
フェニル）メチル、ビス（2,5-ジアミノフェニル）メチ
ル、ビス（2,6-ジアミノフェニル）メチル、2,4-ジアミ
ノフェニルフェニルメチル、ビス（2,3,6-トリアミノフ
ェニル）メチルのようなアミノ基で置換されたアラルキ
ル基；2-ニトロフェネチル、3-ニトロベンジル、4-ニト
ロベンジル、4-ニトロフェネチル、3,5-ジニトロベンジ
ル、2,5-ジニトロフェネチル、2,6-ジニトロベンジル、
2,4-ジニトロフェネチル、2,3,6-トリニトロベンジル、
2,3,4-トリニトロフェネチル、3,4,5-トリニトロベンジ
ル、2,5,6-トリニトロフェネチル、2,4,6-トリニトロベ
ンジル、1-ニトロ−2-ナフチルメチル、2-ニトロ-1- ナ
フチルエチル、3-ニトロ-1- ナフチルメチル、3,8-ジニ
トロ-1- ナフチルメチル、2,3-ジニトロ-1- ナフチルエ
チル、4,8-ジニトロ-1- ナフチルメチル、5,6-ジニトロ
-1- ナフチルメチル、2,3,6-トリニトロ-1- ナフチルエ
チル、2,3,4-トリニトロ-1- ナフチルメチル、3,4,5-ト
リニトロ-1- ナフチルメチル、4,5,6-トリニトロ-1- ナ
フチルエチル、2,4,8-トリニトロ-1- ナフチルメチル、
ビス(2- ニトロフェニル）メチル、3-ニトロフェニルフ
ェニルメチル、ビス（4-ニトロフェニル）メチル、4-ニ
トロフェニルフェニルメチル、ビス（3,5-ジニトロフェ
ニル）メチル、ビス（2,5-ジニトロフェニル）メチル、
ビス（2,6-ジニトロフェニル）メチル、2,4-ジニトロフ
ェニルフェニルメチル、ビス（2,3,6-トリニトロフェニ
ル）メチルのようなニトロ基で置換されたアラルキル
基；2-シアノフェネチル、3-シアノベンジル、4-シアノ
ベンジル、4-シアノベンジルジフェニルメチル、4-シア
ノフェネチル、3,5-ジシアノベンジル、2,5-ジシアノフ
ェネチル、2,6-ジシアノベンジル、2,4-ジシアノフェネ
チル、2,3,6-トリシアノベンジル、2,3,4-トリシアノフ
ェネチル、3,4,5-トリシアノベンジル、2,5,6-トリシア
ノフェネチル、2,4,6-トリシアノベンジル、1-シアノ−
2-ナフチルメチル、3-シアノ-1- ナフチルメチル、3,8-
ジシアノ-1- ナフチルメチル、2,3-ジシアノ-1- ナフチ
ルエチル、4,8-ジシアノ-1- ナフチルメチル、5,6-ジシ
アノ-1- ナフチルメチル、2,3,6-トリシアノ-1- ナフチ
ルエチル、2,3,4-トリシアノ-1- ナフチルメチル、3,4,
5-トリシアノ-1- ナフチルメチル、4,5,6-トリシアノ-1
- ナフチルエチル、2,4,8-トリシアノ-1- ナフチルメチ
ル、ビス（2-シアノフェニル）メチル、3-シアノフェニ
ルフェニルメチル、ビス（4-シアノフェニル）メチル、
4-シアノフェニルフェニルメチル、ビス（3,5-ジシアノ
フェニル）メチル、ビス（2,5-ジシアノフェニル）メチ
ル、ビス（2,6-ジシアノフェニル）メチル、2,4-ジシア
ノフェニルフェニルメチル、ビス（2,3,6-トリシアノフ
ェニル）メチルのようなシアノ基で置換されたアラルキ
ル基；2-アセチルフェネチル、3-アセチルベンジル、4-
アセチルフェネチル、3,5-ジアセチルベンジル、2,5-ジ
アセチルフェネチル、2,6-ジアセチルベンジル、2,4-ジ
アセチルフェネチル、2,3,6-トリプロピオニルベンジ
ル、2,3,4-トリプロピオニルフェネチル、3,4,5-トリプ
ロピオニルベンジル、2,5,6-トリブチリルフェネチル、
2,4,6-トリブチリルベンジル、1-アセチル−2-ナフチル
メチル、2-アセチル-1- ナフチルエチル、3-アセチル-1
- ナフチルメチル、3,8-ジアセチル-1- ナフチルメチ
ル、2,3-ジプロピオニル-1- ナフチルエチル、4,8-ジブ
チリル-1- ナフチルメチル、5,6-ジブチリル-1- ナフチ
ルメチル、2,3,6-トリアセチル-1- ナフチルエチル、2,
3,4-トリアセチル-1- ナフチルメチル、3,4,5-トリプロ
ピオニル-1- ナフチルメチル、4,5,6-トリブチリル-1-
ナフチルエチル、2,4,8-トリブチリル-1- ナフチルメチ
ル、ビス(2- アセチルフェニル）メチル、3-アセチルフ
ェニルフェニルメチル、ビス（4-アセチルフェニル）メ
チル、4-アセチルフェニルフェニルメチル、ビス（2-プ
ロピオニルフェニル）メチル、ビス（3-プロピオニルフ
ェニル）メチル、ビス（4-プロピオニルフェニル）メチ
ル、2-ブチリルフェニルフェニルメチル、3-ブチリルフ
ェニルフェニルメチル、ビス（4-ブチリルフェニル）メ
チル、ビス（3,5-ジアセチルフェニル）メチル、ビス
（2,5-ジアセチルフェニル）メチル、ビス（2,6-ジアセ
チルフェニル）メチル、2,4-ジアセチルフェニルフェニ
ルメチル、ビス（3,5-ジブチリルフェニル）メチル、2,
5-ジブチリルフェニルフェニルメチル、2,6-ジプロピオ
ニルフェニルフェニルメチル、ビス（2,4-ジプロピオニ
ルフェニル）メチル、ビス（2,3,6-トリアセチルフェニ
ル）メチルのような脂肪族アシル基で置換されたアラル
キル基；2-カルボキシフェネチル、3-カルボキシベンジ
ル、4-カルボキシフェネチル、3,5-ジカルボキシベンジ
ル、2,5-ジカルボキシフェネチル、2,6-ジカルボキシベ
ンジル、2,4-ジカルボキシフェネチル、ビス（2-カルボ
キシフェニル）メチル、3-カルボキシフェニルフェニル
メチル、ビス（4-カルボキシフェニル）メチル、4-カル
ボキシフェニルフェニルメチル、ビス（3,5-ジカルボキ
シフェニル）メチル、ビス（2,5-ジカルボキシフェニ
ル）メチル、ビス（2,6-ジカルボキシフェニル）メチ
ル、2,4-ジカルボキシフェニルフェニルメチル、ビス
（2,3,6-トリカルボキシフェニル）メチルのようなカル
ボキシ基で置換されたアラルキル基；2-カルバモイルベ
ンジル、3-カルバモイルフェネチル、4-カルバモイルベ
ンジル、3,5-ジカルバモイルフェネチル、2,5-ジカルバ
モイルベンジル、2,6-ジカルバモイルフェネチル、2,4-
ジカルバモイルベンジル、ビス（2-カルバモイルフェニ
ル）メチル、3-カルバモイルフェニルフェニルメチル、
ビス(4- カルバモイルフェニル）メチル、4-カルバモイ
ルフェニルフェニルメチル、ビス（3,5-ジカルバモイル
フェニル）メチル、ビス（2,5-ジカルバモイルフェニ
ル）メチル、ビス（2,6-ジカルバモイルフェニル）メチ
ル、2,4-ジカルバモイルフェニルフェニルメチル、ビス
（2,3,6-トリカルバモイルフェニル）メチルのようなカ
ルバモイル基で置換されたアラルキル基；3,4-メチレン
ジオキシベンジル、3,4-メチレンジオキシフェネチル、
ビス（3,4-メチレンジオキシフェニル）メチル、3,4-メ
チレンジオキシフェニルフェニルメチルのようなアルキ
レンジオキシ基で置換されたアラルキル基を挙げること
ができ、好適には、無置換のアラルキル基及び低級アル
コキシ置換アラルキル基であり、更に好適には、ベンジ
ル基及び低級アルコキシ置換ベンジル基であり、最も好
適には、ベンジル及び4-メトキシベンジルである。

【００１９】本発明の化合物(I) は、塩にすることがで
きるが、そのような塩としては、好適にはナトリウム
塩、カリウム塩又はカルシウム塩のようなアルカリ金属
又はアルカリ土類金属の塩；トリエチルアミン塩、トリ
メチルアミン塩のような有機塩基の塩を挙げることがで
きる。

【００２０】本発明の化合物(I) は、分子中に不斉炭素
を有し、各々がＳ配位、Ｒ配位である立体異性体が存在
するが、その各々、或いはそれらの混合物のいずれも本
発明に包含される。

【００２１】本発明の代表的化合物としては、例えば、
第１表に記載する化合物を挙げることができるが、本発
明はこれらの化合物に限定されるものではない。

【００２２】第１表

【００２３】

【化４】

【００２４】

【００２５】上記例示化合物のうち、好適な化合物とし
ては、１，２，３，４，５，６，７，８，９，１０，１
１，１２，１３，１４，１５，１６，１７，１８，１
９，２０，３７，３８，３９，４０，４１，４２，４
３，４４，４５，４６，４７，４８，４９，５０，５
１，５２，５３，５４，５５，５６，５７，５８，５
９，６０，６７，６８，６９，７０，７１，７２，７
３，７４，７５，７６，７７，７８，７９及び８０の化
合物を挙げることができる。

【００２６】本発明のオスホリルフルオログルコサミン
誘導体は、以下に記載する方法によって、公知化合物で
あるグルコサミン(1) 出発原料として製造することがで
きる。

【００２７】［Ａ法］

【００２８】

【化５】

【００２９】［Ｂ法］

【００３０】

【化６】

【００３１】［Ａ法］は、本願発明化合物(I) におい
て、１位に弗素原子が結合した化合物を製造する方法で
ある。［Ｂ法］は、本願発明化合物(I) において、６位
に弗素原子が結合した化合物を製造する方法である。

【００３２】上記式中、R2′ 及びR3′ は、置換されて
いてもよい炭素数６乃至20個の脂肪族アシル基（該置換
基は、下記Ｂ群より選択される基を示す。）を示す。 ［Ｂ群］ ハロゲン原子、アリール基、アラルキル基、水酸基、保
護された水酸基（R1及びR4の定義における『保護された
水酸基』と同様の基を示す。）及び炭素数６乃至20個の
脂肪族アシルオキシ基。

【００３３】R6は、例えば、前記「脂肪族アシル基」；
前記「芳香族アシル基」；前記「アルコキシカルボニル
基」；前記「アルケニルオキシカルボニル基」；前記
「アラルキルオキシカルボニル基」；前記「シリル基」
又は前記「アラルキル基」のようなアミンの保護基を示
す。

【００３４】R7及びR9は同一又は異なって、R1及びR4の
定義における「保護された水酸基」の保護基と同様の基
を示す。

【００３５】R8は、ジオールの保護基を示し、好適に
は、メチリデン、エチリデン、イソプロピリデンのよう
な低級アルキリデン基；ベンジリデンのようなアラルキ
リデン基又はメトキシエチリデン、エトキシエチリデン
のようなアルコキシエチリデン基を挙げることができ
る。

【００３６】R10 は、同一又は異なって、前記「アリー
ル基」又は前記「アラルキル基」のような燐酸基の保護
基を示す。

【００３７】第１工程は、グルコサミン塩酸塩(1) を、
トリフルオロ酢酸とジシクロヘキシルカルボジイミド(D
CC) のような縮合剤、無水トリフルオロ酢酸とトリエチ
ルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、N-メチルモル
ホリン、ピリジン、4-(N,N- ジメチルアミノ) ピリジ
ン、N,N-ジメチルアニリン、1,5-ジアザビシクロ[4.3.
0] ノナ-5- エン、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2] オクタ
ン、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0] ウンデク-7- エン(DB
U) のような有機塩基類、又はトリフルオロ酢酸エチル
のようなトリフルオロ酢酸エステルと上記有機塩基類と
の反応によりアミド体(2) を製造する工程である。

【００３８】使用される溶媒としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、メチレンクロリド、クロロホルム
のようなハロゲン化炭化水素類；エーテル、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタンのようなエー
テル類；メタノール、エタノール、n-プロパノール、イ
ソプロパノール、n-ブタノール、イソブタノール、イソ
アミルアルコールのようなアルコール類；ジメチルホル
ムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホ
ロトリアミドのようなアミド類；ジメチルスルホキシド
のようなスルホキシド類を挙げることができる。反応温
度は0 ℃乃至100 ℃で行なわれるが、好適には、室温で
あり、反応時間は、主に反応温度、原料化合物又は使用
される溶媒の種類によって異なるが、通常0.1 時間乃至
24時間である。

【００３９】第２工程は、アミト体(2) を、酸触媒下、
一般式R7-OH を有するアルコール類 (例えば、メタノー
ル、エタノール、ベンジルアルコール、アリルアルコー
ル、2-（トリメチルシリル）エタノール）とグリコシド
結合を作り化合物(3) を製造する工程である。

【００４０】溶媒は、反応試薬である一般式R7-OH を有
するアルコール類を大過剰使用する。使用される酸は、
通常、酸として機能するものであれば特に限定はない
が、好適には塩酸、硫酸のような鉱酸又はパラトルエン
スルホン酸のような有機酸を挙げることができ、含水の
上記酸も使用できる。反応温度は0 ℃乃至2000 ℃で行
なわれるが、好適には、還流する温度であり、反応時間
は、主に反応温度、原料化合物又は使用される溶媒の種
類によって異なるが、通常0.1 時間乃至24時間である。

【００４１】第３工程は、化合物(3) の4 位と6 位のア
ルコールを、溶媒中、酸触媒下、イソプロピリデン化、
ベンジリデン化、エチリデン化のようなジオールの保護
化を行ない、化合物(4) を製造する工程である。

【００４２】ジオールの保護化に使用される試薬として
は、通常、ジオールの保護化に使用されるものであれば
特に限定はないが、好適には、ベンズアルデヒドのよう
なアルデヒド誘導体、アセトンのようなケトン誘導体、
2,2-ジメトキシプロパン、ジメトキシベンジルのような
ジメトキシ化合物を挙げることができる。溶媒は、反応
を阻害しないものであれば特に限定はないが、好適に
は、メチレンクロリド、クロロホルムのようなハロゲン
化炭化水素類、ジオキサン、テトラヒドロフランのよう
なエーテル類、ヘキサン、ペンタンのような炭化水素
類、ベンゼン、トルエンのような芳香族炭化水素類、酢
酸エチルのようなエステル類又はジメチルホルムアミ
ド、アセトンのような極性溶媒を挙げることができる。
使用する酸触媒は、通常酸として使用されるものであれ
ば特に限定はないが、好適にはパラトルエンスルホン
酸、カンファースルホン酸、ピリジウム パラトルエン
スルホネートのような有機酸又は塩酸のような無機酸を
挙げることができる。反応温度は、使用する酸触媒、原
料化合物等により、変化するが、通常、0 〜100 ℃にて
行なわれ、反応時間は、主に反応温度、原料化合物又は
使用される溶媒の種類によって異なるが、通常0.1 時間
乃至24時間である。

【００４３】第４工程は、化合物(4) のR6基を除去し、
化合物(5) を製造する工程である。

【００４４】R6基として、シリル基を使用した場合に
は、通常弗化テトラブチルアンモニウムのような弗素ア
ニオンを生成する化合物で処理することにより除去す
る。反応溶媒は反応を阻害しないものであれば特に限定
はないが、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ
ーテル類が好適である。反応温度及び反応時間は特に限
定はないが、通常室温で10分乃至18時間反応させる。

【００４５】R6基が、脂肪族アシル基、芳香族アシル基
又はアルコキシカルボニル基である場合には、水性溶媒
の存在下に塩基で処理することにより、又は還元により
除去することができる。塩基としては、化合物の他の部
分に影響を与えないものであれば特に限定はないが、好
適には炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ
金属炭酸塩、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのよう
なアルカリ金属水酸化物又は濃アンモニア水−メタノー
ルを用いて実施される。使用される溶媒としては通常の
加水分解反応に使用されるものであれば特に限定はな
く、水又は水とメタノール、エタノール、n-プロパノー
ルのようなアルコール類若しくはテトラヒドロフラン、
ジオキサンのようなエーテル類のような有機溶媒との混
合溶媒が好適である。反応温度及び反応時間は出発物質
及び用いる塩基等によって異なり特に限定はないが、副
反応を抑制するために、通常は0 ℃乃至150 ℃で、1 乃
至10時間である。還元による除去は、常法に従って、水
素化ホウ素ナトリウム等の還元剤により行なわれる。

【００４６】R6基が、アラルキル基又はアラルキルオキ
シカルボニル基である場合には、白金若しくはパラジウ
ム炭素のような触媒を使用して、常温で接触還元を行な
い除去する方法が好適である。接触還元による除去にお
いて使用される溶媒としては本反応に関与しないもので
あれば特に限定はないが、メタノール、エタノール、イ
ソプロパノールのようなアルコール類、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル
類、トルエン、ベンゼン、キシレンのような芳香族炭化
水素類、ヘキサン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化
水素類、酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル
類、酢酸のような脂肪酸類又はこれらの有機溶媒と水と
の混合溶媒が好適である。使用される触媒としては、通
常、接触還元反応に使用されるものであれば、特に限定
はないが、好適にはパラジウム炭素、ラネーニッケル、
酸化白金、白金黒、ロジウム−酸化アルミニウム、トリ
フェニルホスフィン−塩化ロジウム、パラジウム−硫酸
バリウムが用いられる。圧力は、特に限定はないが、通
常１乃至10気圧で行われる。反応温度及び反応時間は、
出発物質及び触媒の種類等により異なるが、通常、０℃
乃至100 ℃で、５分乃至24時間実施される。

【００４７】R6基が、アルケニルオキシカルボニル基で
ある場合は、通常前記アミノ基の保護基が脂肪族アシル
基、芳香族アシル基又は低級アルコキシカルボニル基で
ある場合の除去反応の条件と同様にして塩基と処理する
ことにより脱離させることができる。尚、アリルオキシ
カルボニルの場合は、特にパラジウム及びトリフェニル
ホスフィン若しくはニッケルテトラカルボニルを使用し
て除去する方法が簡便で、副反応が少なく実施すること
ができる。

【００４８】第５工程は、化合物(5) の２位アミノ基を
アシル化し、化合物(6) を製造する工程である。

【００４９】アシル化の方法としては、一般式R2′-OH
を有するカルボン酸［式中、R2′ は前記と同意義を示
す。] を、ジシクロヘキシルカルボイミド(DCC) 、カル
ボニルジイミダゾールのような縮合剤の存在下に反応さ
せるか、又は活性化したアシル化剤R2′-X (式中、R
2′ は前記と同意義を示し、X は、一式OR2′を有する
基；塩基、臭素、沃素のようなハロゲン原子；アセトキ
シ、プロピオニルオキシのようなアルキルカルボニルオ
キシ基、クロロアセチルオキシ、ジクロロアセチルオキ
シ、トリクロロアセチルオキシ、トリフルオロアセチル
オキシのようなハロゲン化アルキルカルボニルオキシ
基、メトキシアセチルオキシのような低級アルコキシア
ルキルカルボニルオキシ基、(E)-2-メチル-2- ブテノイ
ルオキシのような不飽和アルキルカルボニルオキシ基等
の脂肪族アシルオキシ基；ベンゾイルオキシのようなア
リールカルボニルオキシ基、2-ブロモベンゾイルオキ
シ、4-クロロベンゾイルオキシのようなハロゲン化アリ
ールカルボニルオキシ基、2,4,6-トリメチルベンゾイル
オキシ、4-トルオイルオキシのような低級アルキル化ア
リールカルボニルオキシ基、4-アニソイルオキシのよう
な低級アルコキシ化アリールカルボニルオキシ基、4-ニ
トロベンゾイルオキシ、2-ニトロベンゾイルオキシのよ
うなニトロ化アリールカルボニルオキシ基等の芳香族ア
シルオキシ基；トリクロロメチルオキシのようなトリハ
ロゲノメチルオキシ基；メタンスルホニルオキシ、エタ
ンスルホニルオキシのような低級アルカンスルホニルオ
キシ基；トリフルオロメタンスルホニルオキシ、ペンタ
フルオロエタンスルホニルオキシのようなハロゲノ低級
アルカンスルホニルオキシ基；ベンゼンスルホニルオキ
シ、p-トルエンスルホニルオキシのようなアリールスル
ホニルオキシ基等の脱離基を示す。) と、溶媒中、塩基
の存在下に反応させる。溶媒は、反応を阻害しないもの
であれば特に限定はないが、好適には、メチレンクロリ
ド、クロロホルム、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化
水素類、エーテル、ジオキサン、テロラヒドロフランの
ようなエーテル類、ヘキサンのような炭化水素類、ベン
ゼン、トルエンのような芳香族炭化水素類、酢酸エチル
のようなエステル類、ジメチルスルホキシド、ジメチル
ホルムアミドのような極性溶媒を挙げることができる。
使用される塩基としては、好適には、有機塩基を挙げる
ことができ、例えばトリエチルアミン、ピリジン、DBU
、DBN 、N,N-ジメチルアニリン、N,N-ジエチルアニリ
ン、N,N-ジメチルアミノピリジンである。反応温度は0
℃乃至100 ℃で行なわれるが、好適には、20℃乃至50℃
であり、反応時間は、主に反応温度、原料化合物又は使
用される溶媒の種類によって異なるが、通常0.1 時間乃
至24時間である。

【００５０】第６工程は、化合物(6) の3 位水酸基を、
上記第５工程のアミノ基のアシル化と同様にして、R3′
基で修飾し、化合物(7) を製造する工程である。

【００５１】第７工程は、化合物(7) のジオールの保護
基R8を除去し、化合物(8) を製造する工程である。

【００５２】例えば、含水酢酸、テトラヒドロフラン、
ジオキサンのようなエーテル類又はエタノール、メタノ
ールのようなアルコール類等の溶媒中、希塩酸、希硫
酸、含水パラトルエンスルホン酸を触媒として、0 〜10
0 ℃にて反応させ除去するか、-78 ℃乃至室温にて、パ
ラジウム炭素触媒下、接触還元することにより、所望に
より、更に酸化白金触媒下に接触還元を行なうことによ
り実施される。

【００５３】第８工程は、化合物(8) の6 位水酸基をR9
基で保護し、化合物(9) を製造する工程である。

【００５４】尚、R9基は、R7基と区別して除去できる保
護基でなければならない。このような組み合わせとして
は、例えば、１位が弗素原子である本願発明化合物(I)
を製造する場合には、R7基がアリルのような低級アルケ
ニル基群で、R9基はベンジルオキシカルボニルのような
アラルキルオキシカルボニル基群を使用するのが好適で
あり、６位が弗素原子である本願発明化合物(I) を製造
する場合には、R7基がアリルのような低級アルケニル基
群で、R9基はトリメチルシリル、t-ブチルジメチルシリ
ルのようなシリル基群を使用するのが好適である。

【００５５】6 位の1 級水酸基を、一般式R9-Xを有する
化合物 (式中、R9及びX は前記と同意義を示し、本工程
においては、好適には、ベンジルオキシカルボニルクロ
リド、t-ブチルジメチルシリルクロリドを挙げることが
できる。) で、−50〜50℃にて溶媒中（例えば、メチレ
ンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素のようなハロゲ
ン化炭化水素類、エーテル、ジオキサン、テトラヒドロ
フランのようなエーテル類、ヘキサンのような炭化水素
類、ベンゼン、トルエンのような芳香族炭化水素類、酢
酸エチルのようなエステル類、ジメチルスルホキシド、
ジメチルホルムアミド、アセトンのような極性溶媒）、
塩基（例えば、DBU 、DBN 、DMAP、DABCO 、ピリジン、
トリエチルアミン、アニリン、N,N-ジメチルアニリン、
N,N-ジエチルアニリン）、又は溶媒中（例えば、アセト
ン、テトラヒドロフラン、ジオキサン）、塩基（例え
ば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム）の水溶液を
使用して製造することができる。

【００５６】第９工程は、化合物(9) の4 位水酸基を燐
酸化し、化合物(10) を製造する工程である。

【００５７】燐酸化は、溶媒中、塩基によりアニオンを
形成した後に、燐酸化剤と反応させることにより実施さ
れる。溶媒としては、反応を阻害しないものであれば特
に限定はないが、好適にはエーテル、ジオキサン、テト
ラヒドロフランのようなエーテル類又はクロロホルム、
メチレンクロリドのようなハロゲン化炭化水素類を挙げ
ることができる。使用される塩基も、通常アニオンを形
成させるものであれば特に限定はないが、好適にはノル
マルブチルリチウム、フェニルリチウムのようなリチウ
ム化合物又はDBU 、DBN 、DMAP、トリエチルアミン、ピ
リジンのような有機塩基類を挙げることができる。燐酸
化剤としては、ジベンジルクロロホスフェイト、ジフェ
ニルクロロホスフェイトのような通常燐酸化に使用され
る試薬が用いられる。反応温度は-78 乃至50℃で行なわ
れるが、好適には、-78 ℃乃至室温であり、反応時間
は、主に反応温度、原料化合物又は使用される溶媒の種
類によって異なるが、通常10分乃至24時間である。

【００５８】第１０工程は、化合物(10) の１位水酸基
の保護基R7基を選択的に除去し、化合物(11)を製造する
工程である。

【００５９】R7基が、シリル基、アラルキルオキシカル
ボニル基、アラルキル基、脂肪族アシル基、芳香族アシ
ル基、アルコキシカルボニル基、アルコキシメチル基又
は置換されたエチル基である場合には、第４工程に従っ
て、前記R6基が該当する基である場合の除去方法に準じ
て実施される。R7基が、テトラヒドロピラニル基、テト
ラヒドロフラニル基、ビニル基等である場合には、通常
溶媒中で酸で処理することにより除去することができ
る。使用される酸としては、好適には塩酸、酢酸、硫酸
又はp-トルエンスルホン酸等である。使用される溶媒と
しては本反応に関与しないものであれば特に限定はない
が、メタノール、エタノールのようなアルコール類；テ
トラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類又は
これらの有機溶媒と水との混合溶媒が好適である。反応
温度及び反応時間は出発物質及び用いる酸の種類等によ
って異なるが、通常は0 ℃乃至50℃で、10分乃至18時間
である。

【００６０】R7基が、アルケニルオキシカルボニル基で
ある場合は、通常、R7基が脂肪族アシル基、芳香族アシ
ル基又はアルコキシカルボニル基である場合の除去反応
の条件と同様にして塩基と処理することにより脱離させ
ることができる。尚、アリルオキシカルボニルの場合
は、特にパラジウム及びトリンフェニルホスフィン若し
くはニッケルテトラカルボニルを使用して除去する方法
が簡便で、副反応が少なく、実施すことができる。

【００６１】R7基が、アリルのような低級アルケニル基
である場合は、好適には、溶媒中、触媒存在下に反応を
行ない、二重結合を移動しエノールエーテル型とし、直
ちにピリジン−沃素−水を加えるか、又は希塩酸を加え
ることにより、除去することができる。溶媒は、反応を
阻害しないものであれば特に限定はないが、好適には、
メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素のような
ハロゲン化炭化水素類、エーテル、ジオキサン、テトラ
ヒドロフランのようなエーテル類、ヘキサンのような炭
化水素類、ベンゼン、トルエンのような芳香族炭化水素
類、酢酸エチルのようなエスステル類、ジメチルスルホ
キシド、ジメチルホルムアミドのような極性溶媒を挙げ
ることができる。使用される触媒としては、塩化パラジ
ウム、酢酸パラジウムのようなパラジウム触媒、1,5-シ
クロオクタジエン−ビス［メチルジフェニルホスフィ
ン] ロジウムヘキサフルオロホスフェイト、酢酸ロジウ
ムのようなロジウム触媒、1,5- シクロオクタジエン-
ビス［メチルジフェニルホスフィン] イリジウムヘキサ
フルオロホスフェイトのようなイリジウム触媒等の二重
結合移動剤を挙げることができる。反応温度は、使用す
る触媒、溶媒等により変化するが、通常0 〜100 ℃にて
行なわれる。反応時間は、上記の他に反応温度によって
も変化するが、通常1 乃至5 時間である。

【００６２】第１１工程は、化合物(11)の１位水酸基
を、溶媒中、弗素化試薬を用いて、弗素原子で置換し、
化合物(12)を製造する工程である。

【００６３】使用される溶媒としては、反応を阻害せ
ず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定
はないが、好適には、ヘキサン、ヘプタン、リグロイ
ン、石油エーテルのような脂肪族炭化水素類；ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メ
チレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロ
エタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハ
ロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プ
ロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエステル
類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル
類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、イソホロン、シクロヘキサノンのようなケトン
類を挙げることができる。使用される弗素化試薬として
は、通常、アルコールの弗素化に使用される試薬であれ
ば特に限定はないが、好適には、一般式(R11)(R12)NSF₃
（式中、R11 及びR12 は同一又は異なって、前記「低級
アルキル基」（好適には、メチル及びエチル基であ
る。）を示すか、一緒になって、酸素原子で中断されて
いてもよい低級アルキレン基を示す。ここで、「低級ア
ルキレン基」とは、例えば、メチレン、メチルメチレ
ン、エチレン、プロピレン、トリメチレン、テトラメチ
レン、1-メチルトリメチレン、2-メチルトリメチレン、
3-メチルトリメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレ
ンのような炭素数1 乃至6 個のアルキレン基が挙げるこ
とができ、好適には、テトラメチレン又はペンタメチレ
ンである。）で表されるジアルキルアミノサルファトリ
フルオライド化合物が用いられる。反応温度は-20 ℃乃
至120 ℃で行なわれるが、好適には、0 ℃乃至100 ℃で
ある。反応時間は、主に反応温度、原料化合物、使用さ
れる弗素化試薬又は使用される溶媒の種類によって異な
るが、通常0.1 時間乃至5 日間である。

【００６４】第１２工程は、化合物(12)の6 位水酸基の
保護基R9基を除去し、化合物(13)を製造する工程であ
り、第１０工程に準じて実施される。

【００６５】第１３工程は、化合物(13)の燐酸残基の保
護基を除去し、所望により、R2′ 基及び／又はR3′ 基
中に存在する水酸基の保護基を除去し、本願発明化合物
(14)を製造する工程である。

【００６６】原則的には、燐酸残基の保護基の除去反応
及び水酸基の保護基の除去反応は、保護基の種類により
異なるが、順不同で希望する除去反応を順次実施するこ
とができ、又、水酸基の保護基を除去する操作によっ
て、燐酸残基の保護基が同時に除去されることもある
が、一般的には取扱の容易さから、燐酸残基の保護基R1
0 基は最後に除去するのが好適である。燐酸残基の保護
基の除去反応は、通常、-78 ℃乃至0 ℃にて、パラジウ
ム炭素触媒下、接触還元することにより達成されるが、
パラジウム炭素触媒下における接触還元の後、更に酸化
白金触媒下に接触還元を行なうことにより達成される場
合もある。

【００６７】R2′ 及び/ 又はR3′ 上に水酸基の保護基
がある場合には、その保護基の除去は、第１０工程に準
じて実施される。

【００６８】尚、燐酸の水溶性の塩を得る場合は、例え
ば、クロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類の溶媒
に溶解し、一度希塩酸のような水で希釈した無機酸で洗
ってから、塩基を含有する水を加えることにより得るこ
とができる。

【００６９】第１４工程は、化合物(10)の６位水酸基の
保護基R9基を選択的に除去し、化合物(15)を製造する工
程であり、第１０工程に準じて実施される。

【００７０】第１５工程は、化合物(15)の６位水酸基
を、弗素原子に変換し、化合物(16)を製造する工程であ
り、第１１工程に準じて実施される。

【００７１】第１６工程は、化合物(16)の１位水酸基の
保護基R7基を除去し、化合物(17)を製造する工程であ
り、第１２工程に準じて実施される。

【００７２】第１７工程は、化合物(17)の燐酸残基の保
護基を除去し、所望により、R2′ 基及び／又はＲ3′基
中に存在する水酸基の保護基を除去し、本願発明化合物
(18)を製造する工程であり、第１３工程に準じて実施さ
れる。

【００７３】

【発明の効果】本発明の新規なホスホリルフルオログル
コサミン類縁体は、優れたマクロファージ活性化作用を
有し、且つ、毒性も少ないので、免疫賦活剤又は抗腫瘍
剤として有用である。

【００７４】本発明の化合物(I) の投与形態としては、
例えば、錠剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤若しくはシロ
ップ剤等による経口投与又は注射剤若しくは坐剤等によ
る非経口投与を挙げることができる。これらの製剤は、
賦形剤、結合剤、崩壊剤、滑沢剤、安定剤、矯味矯臭剤
等の添加剤を用いて周知の方法で製造される。その使用
量は症状、年齢等により異なるが、1 日0.01-50mg/kg体
重を通常成人に対して、１日１回又は数回に分けて投与
することができる。

【００７５】以下に、実施例を挙げて、本発明を更に具
体的に説明する。

【００７６】

【実施例１】(a) Ｎ−トリフルオロアセチルグルコサミ
ン 塩酸Ｄ-(+)- グルコサミン160 g(0.742 mol)をメタノー
ル(99.6%)2200 mlに溶解し、トリエチルアミン187.9 g
(1.86 mol) を加えた。更に115.9 g のトリフルオロ酢
酸エチルを氷冷下にて滴下し、室温で一夜攪拌した。減
圧下濃縮し、ベンゼン250 ml×2 、酢酸エチル 250 ml
を順次加え、減圧下濃縮し、更に、真空ポンプにて十分
乾燥した。ここで得られた粗トリフルオロアセチル体を
精製することなしに、(b) に進んだ。

【００７７】(b) アリル 2-デオキシ-2- トリフルオロ
アセトアミド−Ｄ−グルコピラノサイド (a) で得られた、粗トリフルオロアセチル体に、2%塩酸
−アリルアルコール溶液1850 ml を加え30分間加熱還流
した。氷水で50℃前後に冷却し、セライト濾過した。濾
液を濃縮し、更に、真空ポンプにて十分乾燥した。ここ
で得られた粗アリルエーテル体を精製することなしに、
(c) に進んだ。

【００７８】(c) アリル 2-デオキシ-2- トリフルオロ
アセトアミド−4,6-Ｏ- イソプロピリデン−Ｄ−グルコ
ピラノサイド (b) で得られた、粗アリルエーテル体を、N,N-ジメチル
ホルムアミド 740 ml に溶解し、2,2-ジメトキシプロパ
ン 370 ml を加え、更に、ピリジニウム p-トルエンス
ルホネート7.5 g を加えて室温で一夜攪拌した。減圧下
濃縮し、酢酸エチルにて希釈した。沈殿物を濾過除去
し、濾液を炭酸水素ナトリウム水、水、食塩水で洗浄し
た。無水硫酸マグネシウムで乾燥し、セライト、活性炭
を用い濾過して濃縮した。残渣をシリカゲルカラムに付
し、シクロヘキサン：酢酸エチル＝3:2 にて、１位のエ
ーテル結合がα及びβのものを、それぞれ、80.5 g、7
7.3 g分離した。尚、α体、β体のどちらも、これ以後
の反応に使用できる。 ［α−アリル体］ マススペクトル m/z : 356(M⁺+1), 340, 298, 282, 25
6, 240, 222, 211, 193, 168, 126, 109,101. ［β−アリル体］ マススペクトル m/z : 356(M⁺+1), 340, 298, 280, 25
6, 240, 222, 211, 193, 168, 155, 145,126, 114, 101
。

【００７９】(d) アリル 2-デオキシ-2- アミノ-4,6-
Ｏ−イソプロピリデン−α−Ｄ−グルコピラノサイド (c) で得られた、トリフルオロアセチル体10 gを、エタ
ノール(99.5%)200 ml に溶解し、1 規定の水酸化ナトリ
ウム水溶液を、100 ml加え、加熱還流を４時間行なっ
た。減圧下濃縮し、酢酸エチルにて希釈した。酢酸エチ
ル層を水、食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて
乾燥した。濾過し、酢酸エチルを減圧下留去し、残渣の
油状物をシリカゲルカラムに付し、酢酸エチルにて精製
し、6.6 g(90.5%)の目的化合物を得た。 NMR スペクトル（60MHz)(CDCl₃) δ ppm 1.42(3H,s); 1.50(3H,s); 2.98(2H,broad); 3.5-4.4(5
H,m); 4.6-6.3(7H,m). 元素分析 (C₁₂H₂₁NO₅=259.302 として）

【００８０】(e) アリル 2-デオキシ-2-[(3′R)-3′-
ベンジルオキシテトラデカノイルアミノ]-4,6-Ｏ−イソ
プロピリデン−α−Ｄ−グルコピラノサイド及び アリル 2-デオキシ-2-[(3′S)-3′- ベンジルオキシテ
トラデカノイルアミノ]-4,6-Ｏ−イソプロリデン−α−
Ｄ−グルコピラノサイド (d) で得られた、化合物5 g(19.3 mmol)を、塩化メチレ
ン100 mlに溶解し、6.8 gの（±）-3- ベンジルオキシ
テトラデカン酸を加え、更に、N,N′−ジクロヘキシル
カルボジイミド4.78 gを加え、室温にて１時間攪拌し
た。濾過後、減圧下濃縮し、酢酸エチルにて希釈した。
酢酸エチル層を炭酸水素ナトリウム水、食塩水にて洗浄
し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。濾過し、酢酸
エチルを減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムに付
し、シクロヘキサン：酢酸エチル9:11にて精製し、目的
とする3′-R体（Rf=0.289)4.1 g、3′-S体（Rf=0.196)
4.2 g 得た。 [3′R体] 赤外吸収スペクトル ν max (KBr) cm^-1 : 3510, 328
0, 1643. NMR スペクトル（270MHz) (CDCl₃) δ ppm : 0.88(3H,t,J=6.9 Hz); 1.20-1.41(18H,m); 1.45(3H,s);
1.52(3H,s); 1.56-1.70(2H,m); 2.43(1H,dd,J=6.9,15.
4 Hz); 2.56(1H,dd,J=3.7,15.0 Hz); 3.19-3.29(1H,m);
3.46-3.63(2H,m); 3.75-3.94(5H,m); 4.18-4.24(1H,
m); 4.36(1H,d,J=2.6 Hz); 4.45-4.62(3H,m); 5.12-5.2
6(2H,m); 5.70-5.88(1H,m); 6.72(1H,d,J=5.9 Hz); 7.3
0- 7.37(5H,m). [3′S体] 赤外吸収スペクトル ν max (KBr) cm^-1 : 3510, 328
0, 1643. NMR スペクトル（270MHz) (CDCl₃) δ ppm : 0.88(3H,t,J=6.6 Hz); 1.15-1.73(20H,m); 1.45(3H,s);
1.53(3H,s); 2.35-2.62(2H,m); 3.02(1H,d,J=2.6 Hz);
3.55-4.25(9H,m); 4.54,4.59(2H,ABq,J=11.4 Hz); 4.7
8(1H,d,J=3.7 Hz); 5.10-5.28(2H,m); 5.66-5.84(1H,
m); 6.77(1H,d,J=8.8 Hz); 7.25-7.37(5H,m) 。

【００８１】(f) アリル 2-[(R)-3′-ベンジルオキシ
テトラデカノイルアミノ］-2- デオキシ-3- Ｏ−[(R)-
3″-テトラデカノイルオキシテトラデカノイル］-4.6-
Ｏ−イソプロピリデン−α−Ｄ−グルコピラノサイド及
び アリル 2-[(S)-3′-ベンジルオキシテトラデカノイル
アミノ］-2- デオキシ-3- Ｏ−[(R)-3″-テトラデカノ
イルオキシテトラデカノイル］-4.6- Ｏ−イソロピリデ
ン−α−Ｄ−グルコピラノサイド (e) で得られた、化合物（3′R 体又は3′S 体）1 gを
テトラヒドロフランに溶解し、3(R) テトラデカノイル
オキシテトラデカン酸0.869 g を加え、更に、N,N′-
ジメチルシクロヘキシルカルボジイミド0.466 g 、4-ジ
メチルアミノピリジン0.23 3 g を加え、室温にて４時
間攪拌した。濾過後、減圧下濃縮し、酢酸エチルにて希
釈し、炭酸水素ナトリウム水溶液、食塩水にて、洗浄
後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥した。濾過し、酢酸
エチルを減圧下留去し、残渣を、シリカゲルクロマトに
て（展開溶媒シクロヘキサン：酢酸エチル85：15）精製
し、目的物3′R 体1.23 g(70%) 、3′S 体1.27 g(73%)
が得られた。 [3′R体] 赤外吸収スペクトル ν max (液膜）cm^-1 : 3350, 17
30, 1650, 1530, 1470, 1370. NMR スペクトル（270MHz) (CDCl₃) δ ppm : 0.80-1.00(9H,m); 1.00-1.80(68H,m); 2.10-2.70(6H,
m); 3.60-4.40(8H,m); 4.49,4.54(2H,d,J=11.7 Hz); 4.
65-4.90(1H,m); 5.03-5.35(4H,m); 5.60-5.95(1H,m);
6.25(1H,d,J=9.5 Hz); 7.25-7.65(5H,m). [3′S体] 赤外吸収スペクトル ν max (液膜）cm^-1 : 3400, 17
30, 1670, 1650. NMR スペクトル（270MHz) (CDCl₃) δ ppm : 0.80-0.97(9H,m); 1.10-1.70(68H,m); 2.12-2.64(6H,
m); 3.63-3.90(6H,m); 3.95-4.05(1H,m); 4.22-4.34(1
H,m); 4.49,4.60(2H,d,J=11.4 Hz); 4.78(1H,d,J=3.7 H
z); 5.05-5.23(4H,m); 5.60-5.77(1H,m); 6.85(1H,d,J=
9.2 Hz); 7.25-7.40(5H,m) 。

【００８２】(g) アリル 2-[(R)-3′-ベンジルオキシ
テトラデカノイルアミノ］-2- デオキシ-3- Ｏ−[(R)-
3″-テトラデカノイルオキシテトラデカノイル］−α−
Ｄ−グルコピラノサイド及び アリル 2-[(S)-3′-ベンジルオキシテトラデカノイル
アミノ］-2- デオキシ-3- Ｏ−[(R)-3″-テトラデカノ
イルオキシテトラデカノイル］−α−Ｄ−グルコピラノ
サイド (f) で得られた、3′R 体又は3′S 体、それぞれ1 g
を、90% 酢酸20 ml に溶解し、55〜60℃にて１時間攪拌
した。酢酸を減圧下濃縮し、酢酸エチルにて希釈した。
希釈した物を炭酸水素ナトリウム水溶液、食塩水にて洗
浄し、シリカゲルクロマト（展開溶媒シクロヘキサン：
酢酸エチル=3.2) にて精製した。目的物は、3′R 体よ
り 0.6 g(57%) 、3′S 体より0.66 g(69%) ずつ得られ
た。 [3′R体] 赤外吸収スペクトル ν max (ヌジョール）cm^-1 : 34
80, 3400, 3300, 1735, 1720, 1700, 1650, 1550, 146
5, 1380, 1310. NMR スペクトル（270MHz) (CDCl₃) δ ppm : 0.82-0.95(9H,m); 1.15-1.70(64H,m); 2.24-2.58(6H,
m); 3.62-3.92(6H,m); 4.00-4.10(1H,m); 4.20-4.30(1
H,m); 4.50,4.55(2H,d); 4.79(1H,d,J=3.3 Hz); 5.03-
5.24(4H,m); 5.65-5.82(1H,m); 6.33(1H,d,J=9.5 Hz);
7.22-7.36(5H,m). [3′ S体] 赤外吸収スペクトル ν max (ヌジョール）cm^-1 : 32
80, 1737, 1722, 1643, 1550, 1466, 1177, 1103, 105
3. NMR スペクトル（270MHz) (CDCl₃) δ ppm : 0.80-0.95(9H,m); 1.15-1.72(62H,m); 2.24-2.50(6H,
m); 3.62-3.92(6H,m); 4.00-4.10(1H,m); 4.18-4.30(1
H,m); 4.50,4.57(2H,dd,J=11.4 Hz);4.86(1H,d,J=3.3 H
z); 5.02-5.27(4H,m); 5.64-5.81(1H,m); 6.80(1H,d,J=
8.8 Hz); 7.25-7.40(5H,m)。

【００８３】(h) アリル 6-Ｏ−ベンジルオキシカルボ
ニル-2-[(R)-3′- ベンジルオキシテトラデカノイルア
ミノ］-2- デオキシ-3- Ｏ−[(R)-3″-テトラデカノイ
ルオキシテトラデカノイル］−α−Ｄ−グルコピラノサ
イド及び アリル 6-Ｏ−ベンジルオキシカルボニル-2-[(S)-3′-
ベンジルオキシテトラデカノイルアミノ］-2- デオキ
シ-3- Ｏ−[(R)-3″-テトラデカノイルオキシテトラデ
カノイル］−α−Ｄ−グロコピラノサイド (g) で得られた、化合物3′(R) 又は3′(S) 体を、それ
ぞれ0.645 g、ジクロロメタン10 ml に溶解し、氷冷
下、ベンジルオキシカルボニルクロライド0.136 g 、4-
ジメチルアミノピリジン0.122 g を添加後、室温で２時
間攪拌した。ジクロロメタンを減圧下濃縮し、酢酸エチ
ルで希釈後、炭酸水素ナトリウム水溶液、食塩水にて洗
浄した。無水硫酸マグネシウムにて乾燥し、濾過後、酢
酸エチルを減圧下留去し、シリカゲルクロマトにて残渣
を精製し（展開溶媒シクロヘキサン：酢酸エチル＝4:
1)、目的物（3′R 体、3′S 体相）を、それぞれ0.46 g
(63%) を得た。 [3′ R体] 赤外吸収スペクトル ν max(ヌジョール）cm^-1 : 350
0, 3310, 1730, 1650, 1545, 1465, 1380, 1305, 1280. NMR スペクトル（270MHz) (CDCl₃) δ ppm : 0.80-0.96(9H,m); 1.10-1.70(62H,m); 2.22-2.60(6H,
m); 3.34(1H,d,J=4.0 Hz); 3.53-3.66(1H,m); 3.72-3.9
0(3H,m); 3.95-4.05(1H,m); 4.20-4.32(1H,m); 4.35-4.
52(2H,m); 4.49,4.56(2H,dd,J=11.7 Hz); 4.77(1H,d,J=
3.7 Hz); 5.00-5.25(6H,m); 5.62-5.78(1H,m); 6.29(1
H,m); 7.22-7.43(10H,m). [3′ S体] 赤外吸収スペクトル ν max(ヌジョール）cm^-1 : 350
0, 3290, 1737, 1720, 1647, 1546, 1466, 1282. NMR スペクトル（270MHz) (CDCl₃) δ ppm : 0.82-0.93(9H,m); 1.15-1.65(62H,m); 2.22-2.50(6H,
m); 3.33(1H,d,J=4.0 Hz); 3.55-3.67(1H,m); 3.67-3.9
0(3H,m); 3.96-4.05(1H,m) ;4.18-4.30(1H,m); 4.37-4.
52(2H,m); 4.49,4.57(2H,dd,J=11.4 Hz); 4.83(1H,d,J=
3.3 Hz); 5.00-5.22(6H,m); 5.60-5.77(1H,m); 6.76(1
H,d,J=8.8Hz); 7.25-7.42(10H,m) 。

【００８４】(i) アリル 2-デオキシ-6- Ｏ−ベンジル
オキシカルボニル-2-[(R)-3′- ベンジルオキシテトラ
デカノイルアミノ］-4- Ｏ-(ジフェニルホスホリル-3-
Ｏ−[(R)-3″-テトラデカノイルオキシテトラデカノイ
ル］−α−Ｄ−グルコピラノサイド及び アリル 2-デオキシ-6- Ｏ−ベンジルオキシカルボニル
-2-[(S)-3′- ベンジルオキシテトラデカノイルアミ
ノ］-4- Ｏ- ジフェニルホスホリル-3- Ｏ−[(R)-3″-
テトラデカノイルオキシテトラデカノイル］−α−Ｄ−
グルコピラノサイド (h) で得られた、化合物3′(R) 又は3′(S) 体を、それ
ぞれ11.3 g、ジクロロメタン230 mlに溶解し、ジフェニ
ルクロロフォスフェート8.22 g、4-ジメチルアミノピリ
ジン7.48 gを加え、室温で１時間攪拌した。ジクロロメ
タンを減圧濃縮し、酢酸エチルにて希釈した。希釈した
物を炭酸水素ナトリウム水溶液、食塩水にて洗浄し、無
水硫酸マグネシウムにて乾燥した。濾過後、減圧下、酢
酸エチルを留去し、残渣をシリカゲルクロマト（シクロ
ヘキサン：酢酸エチル=7:3) にて精製し、目的物3′R
体、6.12 g(45%) 、3′S体11.34 g(83%)を得た。 [3′ R体] 赤外吸収スペクトル ν max(ヌジョール）cm^-1 : 173
5, 1720, 1665, 1590, 1485, 1255, 1066, 965. NMR スペクトル（270MHz) (CDCl₃) δ ppm : 0.82-0.94(9H,m); 1.10-1.60(62H,m); 2.10-2.20(2H,
m); 2.30-2.46(4H,m); 3.67-3.78(1H,m); 3.78-3.90(1
H,m); 3.90-4.03(1H,m); 4.15-4.37(3H,m); 4.48-4.54
(2H,ABq,J=11.4 Hz); 4.72(1H,dd,J=9.2,19.1 Hz); 4.8
0(1H,d,J=3.3 Hz); 5.00-5.20(5H,m); 5.40(1H,dd,J=9.
2,10.6 Hz); 5.65-5.77(1H,m); 6.22(1H,d,J=8.8 Hz);
7.10-7.38(20H,m). [3′ S体] 赤外吸収スペクトル ν max（ヌジョール）cm^-1 : 33
50, 1745, 1650, 1590, 1490, 960. NMR スペクトル（270MHz) (CDCl₃) δ ppm : 0.80-0.93(9H,m); 1.10-1.65(62H,m); 2.08-2.20(2H,
m); 2.30-2.52(4H,m); 3.65-3.87(2H,m); 3.93-4.05(2
H,m); 4.16-4.35(3H,m); 4.49,4.61(2H,d,J=11.4 Hz);
4.72(1H,dd,J=9.2,4.7 Hz); 4.85(1H,d,J=3.3 Hz); 5.0
1-5.20(5H,m) ;5.39(1H,dd,J=9.2,10.6 Hz); 5.59-5.74
(1H,m); 6.86(1H,d,J=8.8 Hz); 7.10-7.20(20H,m)。

【００８５】(j) 2-デオキシ-6- Ｏ−ベンジルオキシカ
ルボニル-2-[(R)-3′- ベンジルオキシテトラデカノイ
ルアミノ］-4- Ｏ- ジフェニルホスホリル-3- Ｏ−[(R)
-3″-テトラデカノイルオキシテトラデカノイル］−Ｄ
−グルコピラノサイド及び 2- デオキシ-6- Ｏ−ベンジルオキシカルボニル-2-[(S)
-3′- ベンジルオキシテトラデカノイルアミノ］-4- Ｏ
- ジフェニルホスホリル-3- Ｏ−[(R)-3″-テトラデカ
ノイルオキシテトラデカノイル］−Ｄ−グルコピラノサ
イド (i) で得られた、化合物3′(R) 又は3′(S) 体を、それ
ぞれ0.28 g、テトラヒドロフラン5 mlに溶解し、ビス
（メチルジフェニルホスフィン）シクロオクタジエンイ
リジウム8.9 mgを加え、窒素置換をした後、水素置換を
し、イリジウム錯体を活性化させ、再び窒素置換し、室
温で３時間攪拌した。水0.5 ml、ヨウ素0.1 g 、ピリジ
ン0.066 g を加え、室温で30分攪拌した。テトラヒドロ
フランを減圧濃縮し、酢酸エチルにて希釈した。酢酸エ
チル層を炭酸水素ナトリウム水溶液、食塩水で洗浄し、
酢酸エチルを減圧留去した。シリカゲルクロマト（シク
ロヘキサン：酢酸エチル＝7:3)にて精製し、目的物を
3′R 体0.23 g(84%) 、3′S 体0.24 g(88%) 得た。 [3′ R体] 赤外吸収スペクトル ν max（ヌジョール）cm^-1 : 33
20, 1735, 1650, 1590, 1535, 1490, 1455. NMR スペクトル（270MHz) (CDCl₃) δ ppm : 0.82-0.93(9H,m); 1.08-1.70(62H,m); 2.10-2.22(2H,
m); 2.27-2.35(2H,m); 2.38-2.44(2H,m); 2.50(1H,dd,J
=1.1,4.4 Hz); 3.82-3.93(1H,m); 4.10-4.39(4H,m); 4.
39,4.60(2H,ABg,J=11.0 Hz); 4.68(1H,dd,J=9.2,18.3 H
z); 5.00-5.13(4H,m); 5.39(1H,dd,J=9.2,11.6 Hz); 6.
22(1H,d,J=8.8 Hz); 7.09-7.39(20H,m). [3′ S体] 赤外吸収スペクトル ν max（液膜）cm^-1 : 3600-320
0, 1748, 1640, 1540, 1490, 961. NMR スペクトル（270MHz) (CDCl₃) δ ppm : 0.82-0.96(9H,m); 1.07-1.65(62H,m); 2.12-2.22(2H,
m); 2.32-2.46(4H,m); 2.99(1H,dd,J=1.5,4.0 Hz); 3.7
0-3.82(1H,m); 4.13-4.38(4H,m); 4.52,4.57(2H,d,J=1
1.0 Hz); 4.71(1H,dd,J=9.2,18.7 Hz); 4.97-5.25(4H,
m); 5.46(1H,dd,J=9.2,10.6 Hz); 6.86(1H,d,J=8.4 H
z); 7.08-7.40(20H,m)。

【００８６】(k) 6-Ｏ- ベンジルオキシカルボニル−2-
[(R)−3′−ベンジルオキシテトラデカノイルアミノ］-
1,2-ジデオキシ-4 Ｏ−ジフェニルホスホリル-1 フルオ
ロ-3- Ｏ-[(R)-3″- テトラデカノイルオキシテトラデ
カノイル]-α- Ｄ−グルコピラノサイド及び 6-Ｏ- ベンジルオキシカルボニル-2-[(R)-3′- ベンジ
ルオキシテトラデカノイルアミノ]-1,2-ジデオキシ-4-
Ｏ−ジフェニルホスホリル-1- フルオロ-3 Ｏ-[(R)-3″
−テトラデカノイルオキシテトラデカノイル]-β−Ｄ−
グルコピラノサイド ジエチルアミノサルファートリフルオライド(DAST)1.36
g(8.44 ミリモル）を乾燥塩化メチレン30 ml に溶解
し、氷冷下、(j) で得られた、2-デオキシ-6 Ｏ−ベン
ジルオキシカルボニル-2- [(R)-3′-ベンジルオキシミ
リストイルアミド]-4-Ｏ-(ジフェニルホスホリル)-3-Ｏ
-[(R)-3″−ミリストイルオキシミリストイル]-Ｄ- グ
ルコピラノサイド2.74 g(2.11 ミリモル）の乾燥塩化メ
チレン25 ml 溶液を徐々に添加し、氷冷にて１時間攪拌
する。反応液を氷水130 mlに注加し、塩化メチレン層を
分取した。水層を塩化メチレンで抽出し、塩化ナトリウ
ム水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧
濃縮して残渣をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィ
ー（シクロヘキサン：酢酸エチル＝８：２）で精製する
と表記のα−フルオライド化合物が1.10 g(40%) 、β−
フルオライド化合物が1.14 g(42%) 白色固形物として得
られた。 ［α−フルオライド化合物］ 赤外吸収スペクトル ν max (ヌジョール) cm^-1 : 33
80, 1740, 1660, 1590. 元素分析値(C75H111NO14FPとして) ［β−フルオライド化合物］ 赤外吸収スペクトル ν max (ヌジョール) cm^-1 : 33
20, 1745, 1725, 1662,1590. 元素分析値(C75H111NO14FPとして)

【００８７】(1) 1,2-ジデオキシ-4- Ｏ−ジフェニルホ
スホリル-1- フルオロ-2-[(R)-3′−ヒドロキシテトラ
デカノイルアミノ]-3-Ｏ-[(R)-3″- テトラデカノイル
オキシテトラデカノイル]-α−Ｄ−グルコピラノサイド (k) で得られたグリコピラノシルフルオライド0.4 g を
テトラヒドロフラン6 mlに溶解し、これに10% パラジウ
ム炭素を0.4 g を添加し、次いでメタノール24 ml と蟻
酸50 mg を加えて水素気流中室温で４時間攪拌した。反
応液からパラジウム炭素をセライト濾過して除去し、濾
液を減圧乾固した。残渣をシリカゲルフラッシュクロマ
トグラフィー（シクロヘキサン：酢酸エチル＝６：４）
で精製すると標記化合物が固形物として0.1 g(30%) 得
られた。 赤外吸収スペクトル ν max (ヌジョール) cm^-1 : 35
50, 3420, 1732, 1646,1590。

【００８８】(m) 1,2-ジデオキシ-1- フルオロ-2-[(R)-
3′−ヒドロキシテトラデカノイルアミノ]-3-Ｏ-[(R)-
3″−テトラデカノイルオキシテトラデカノイル]-α−
Ｄ−グルコピラノシル−４−ホスフェート (l) で得られた化合物85 mg を乾燥テトラヒドロフラン
5 mlに溶解し、酸化白金17 mg を添加して、水素気流
中、室温で４時間攪拌した。反応液を４５℃に加温し
て、不溶物を溶解させ、セライト濾過した。溶媒を減圧
下、留去すると標記化合物が固形物として、72 mg(97%)
得られた。 NMR スペクトル(270 MHz) (d5-ピリジン) δ ppm: 0.82-0.95(9H,m), 1.15-1.90(62H,m), 2.48(2H,t,J=7.3
Hz), 2.80-2.90(2H,m), 3.06-3.30(2H,m), 4.01-4.60
(7H,m), 5.00-5.50(2H,m), 5.71(1H,t,J=5.9 Hz), 5.97
(1H,dd,J=2.4,52.5 Hz), 6.06(1H,t,J=10.3 Hz), 9.56
(1H,d,J=9.3 Hz). 赤外吸収スペクトル ν max (ヌジョール) cm-1: 325
0, 1722, 1645, 1550。

【００８９】

【実施例２】(a) 6-Ｏ−ベンジルオキシカルボニル-2-
[(S)-3′-ベンジルオキシテトラデカノイルアミノ]-1,2
ジデオキシ-4- Ｏ−ジフェニルホスホリル-1- フルオロ
-3- Ｏ-[(R)-3″- テトラデカノイルオキシテトラデカ
ノイル]-α−Ｄ−グルコピラノサイド ジエチルアミノルファートリフルオライド(DAST)1.49 g
(9.2ミリモル) を乾燥塩化メチレン30 ml に溶解し、氷
冷下、1(j)で得られた、2- デオキシ-6- Ｏ−ベンジル
オキシカルボニル-2- [(S)-3′ −ベンジルオキシテト
ラデカノイルアミノ]-4-Ｏ-(ジフェニルホスホリル)-3-
Ｏ-[(R)-3″- テトラデカノイルオキシテトラデカノイ
ル]-Ｄ−グルコピラノサイド3.0 g(2.31ミリモル) の乾
燥塩化メチレン30 ml 溶液を徐々に添加した。添加後、
氷冷にて１時間、室温で３０分攪拌した。反応液を氷水
150 mlに注加し、塩化メチレン層を分取し、水層を塩化
メチレンで抽出し、塩化ナトリウム水で洗浄後、無水硫
酸マグネシウムで乾燥した。減圧濃縮して、残渣にシリ
カゲル（メルク社製No.9385)5 g 、塩化メチレン100 ml
を加えて、室温で一夜攪拌して、α，β−フルオロ化合
物をα−フルオロ化合物に変換した。シリカゲルを濾去
し、塩化メチレンを減圧濃縮して、残渣をシリカゲルフ
ラッシュクロマトグラフィー（シクロヘキサン：酢酸エ
チル=85:15）で精製すると、標記化合物が2.4 g(80%)得
られた。 赤外吸収スペクトル ν max (ヌジョール) cm-1: 339
0, 1740, 1650, 1590。

【００９０】(b) 1,2-ジデオキシ-4- Ｏ−ジフェニルホ
スホリル-1- フルオロ-2-[(S)-3′−ヒドロキシテトラ
デカノイルアミノ]-3-Ｏ-[(R)-3″−テトラデカノイル
オキシテトラデカノイル]-α−Ｄ−グルコピラノサイド 2(a)で得られた化合物1.82 gをテトラヒドロフラン12 m
l に溶解し、これに10% パラジウム炭素を1.8 g 添加
し、次いで、メタノール45 ml と蟻酸70 mg を加えて、
水素気流中、室温で５時間攪拌した。反応液からパラジ
ウム炭素をセライト濾過して除去し、濾液を減圧乾固し
た。残渣をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー
（シクロヘキサン：酢酸エチル=6:4) で精製すると標記
化合物が固形物として0.38 g(25%) 得られた。 赤外吸収スペクトル ν max (ヌジョール) cm-1 :
3600-3100, 1740, 1720, 1645,1590. 元素分析値(C60H99NO12FP として)

【００９１】(c) 1,2-ジデオキシ-1- フルオロ-2-[(S)-
3′−ヒドロキシテトラデカノイルアミノ]-3-Ｏ-[(R)-
3″−テトラデカノイルオキシテトラデカノイル]-α−
Ｄ−グルコピラノシル-4 ホスフェート 2(b)で得られた化合物80 mg を、乾燥テトラヒドロフラ
ン3 mlに溶解し、酸化白金16 mg を添加し、水素気流
中、室温で、４時間攪拌した。反応液を45℃に加温して
不溶物を溶解させ、セライト濾過した。溶媒を減圧留去
すると、標記化合物が固形物で60 mg(87%)得られた。 NMR スペクトル(270 MHz) (d5-ピリジン) δ ppm: 0.80-0.97(9H,m), 1.10-1.90(62H,m), 2.46(2H,t,J=7.3
Hz), 2.82(2H,d,J=5.9 Hz), 3.04-3.25(2H,m), 3.60-
3.70(1H,m), 3.80-3.70(1H,m) ;3.80-4.55(6H,m), 5.65
-7.77(1H,m), 6.00-6.10(1H,m), 6.10(1H,dd,J=2.9,53.
7 Hz),9.47(1H,d,J=9.3 Hz) . 赤外吸収スペクトル ν max (ヌジョール) cm-1: 355
0, 3300, 1730, 1650。

【００９２】

【実施例３】(a) アリル 2-[(R)-3′-ベンジルオキシ
テトラデカノイルアミノ]-2-デオキシ-6- Ｏ−t-ブチル
ジメチルシリル-3 Ｏ-[(R)-3″- テトラデカノイルオキ
シテトラデカノイル]-α−Ｄ−グルコピラノサイド 1(g)で得られた、アリル 2-[(R)-2′-ベンジルオキシ
テトラデカノイルアミノ]-2-デオキシ-3- Ｏ-[(R)-3′
−テトラデカノイルオキシテトラデカノイル]-α−Ｄ−
グルコピラノサイド0.49 g(0.5ミリモル）を乾燥塩化メ
チレン10 ml に溶解し、これにジメチルアミノピリジン
0.15 g(1.25 ミリモル）とt-ブチルジメチルシリルクロ
ライド0.11 g(0.75 ミリモル）を添加した。室温で４時
間攪拌し、塩化メチレンを減圧留去した。残留物を酢酸
エチルで希釈し、炭酸水素ナトリウム水で、塩化ナトリ
ウム水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減
圧濃縮して、残渣をシリカゲルフラッシュクロマトグラ
フィー（シクロヘキサン酢酸エチル=85:15) で精製する
無色油状物の標記化合物が0.53 g(97%) 得られた。 NMR スペクトル(270 MHz)(重クロロホルム) δ ppm: 0.08(6H,s), 0.82-0.94(18H,m), 1.16-1.67(62H,m), 2.
28(2H,t,J=7.6 Hz), 2.35(2H,d,J=5.9 Hz), 2.42-2.63
(2H,m), 3.30(1H,br.s), ;3.60-4.10(7H,m), 4.18-4.30
(1H,m), 4.49,4.54(2H,ABq,J=12.0 Hz), 4.77(1H,d,J=
3.9 Hz),5.04-5.22(4H,m),5.65-5.82(1H,m), 6.27(1H,
d,J=9.3 Hz), 7.22-7.35(5H,m). 赤外吸収スペクトル ν max (ヌジョール) cm-1: 3550
-3150, 1730, 1650 。

【００９３】(b) アリル 2-[(R)-3′-ベンジルオキシ
テトラデカノイルアミノ]-2-デオキシ-4- Ｏ−ジフェニ
ルホスホリル-6 Ｏ-t- ブチルジメチルシリル-3- Ｏ
[(R)-3″- テトラデカノイルオキシテトラデカノイル]-
α−Ｄ−グルコピラノサイド ３(a) で得られる化合物100 mg(0.09 ミリモル）とジメ
チルアミノピリジン34 mg(0.27ミリモル）を乾燥塩化メ
チレン2 mlに溶解し、これにジフェニルクロロホスフェ
イト70 mg(0.27ミリモル）の乾燥塩化メチレン1 ml溶液
を徐々に添加し、室温で１時間攪拌した。塩化メチレン
を減圧蒸発させ、残留物を酢酸エチルで希釈し、炭酸水
素ナトリウム水、塩化ナトリウム水で洗浄し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥した。減圧濃縮して、残渣をシリカ
ゲルフラッシュクロマトグラフィー（シクロヘキサン：
酢酸エチル=9:1) で精製すると、無色油状物の標記化合
物が110 mg(94%) 得られた。 NMR スペクトル(270 MHz)(重クロロホルム) δ ppm: 0.013(6H,s), 0.82-0.95(18H,m), 1.10-2.66(62H,m),
2.14(2H,t,J=6.3-8.3 Hz), 2.35(2H,d,J=5.9 Hz), 2.44
(2H,d,J=6.8 Hz), 3.65-4.12(7H,m), ,4.23-4.35(1H,
m), 4.53,4.57(2H,ABq,J=11.5 Hz), 4.67(1H,dd,J=9.3,
18.6 Hz), 4.80(1H,d,J=3.4 Hz),5.05-5.25(3H,m),5.43
(1H,dd,J=9.3,10.7 Hz),5.67-5.85(1H,m), 6.23(1H,d,J
=9.3 Hz)7.12-7.40(15H,m) . 赤外吸収スペクトル ν max (液膜) cm-1 : 3350, 17
40, 1675, 1590。

【００９４】(c) アリル 2-[(R)-3′ベンジルオキシテ
トラデカノイルアミノ]-2-デオキシ-4- Ｏ−ジフェニル
ホスホリル-3- Ｏ-[(R) -3″-テトラデカノイルオキシ
テトラデカノイル]-α−Ｄ−グルコピラノサイド 3(b) で得られた化合物100 mgをテトラヒドロフラン2 m
lに溶解し、これに３規定塩酸0.4 mlを添加し、室温で
３時間攪拌した。テトラヒドロフランを減圧蒸発させ、
残留物を酢酸エチルに溶解し、炭酸水素ナトリウム水、
塩化ナトリウム水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥した。減圧濃縮して、残渣をシリカゲルフラッシュク
ロストグラフィー（シクロヘキサン：酢酸エチル＝７：
３）で精製すると、固形の標記化合物が90 mg (95%) 得
られた。 赤外吸収スペクトル ν max (ヌジョール) cm-1 : 34
70, 3330, 1735, 1720, 1650, 1590. 元素分析値(C70H110O13NP として)

【００９５】(d) アリル 2-[(R)-3′-ベンジルオキシ
テトラデカノイルアミノ]-2,6-ジデオキシ-4- Ｏ−ジフ
ェニルホスホリル-6- フルオロ-3 Ｏ-[(R)-3″- テトラ
デカノイルオキシテトラデカノイル]-α−Ｄ−グルコピ
ラノサイド DAST40 mg(0.23ミリモル）の乾燥塩化メチレン0.8 ml溶
液に、3(c)で得られた化合物70 mg(0.06ミリモル）の乾
燥塩化メチレン0.7 ml溶液を氷冷下徐々に添加し、氷冷
にて３時間攪拌後、更に室温で30分攪拌した。反応液を
氷水40 ml に注加し、塩化メチレン層を分取し、水層を
塩化メチレンで抽出した。次いで、塩化ナトリウム水で
洗浄して、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧濃縮
して、残渣をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー
（シクロヘキサン：酢酸エチル=8:2）で精製すると、固
形の標記化合物が60 mg(87%)得られた。 NMR スペクトル(270 MHz)(重クロロホルム) δ ppm: 0.88(9H,t,J=7.3-7.8 Hz), 1.10-1.65(62H,m), 2.15(2
H,t,J=7.6 Hz), 2.34(2H,d,J=5.9 Hz), 2.42(2H,d,J=6.
3 Hz), 3.70-4.07(4H,m), 4.27-4.55(3H,m), 4.49,4.55
(2H,ABq,J=11.5 Hz), 4.69(1H,dd,J=9.3,19.0 Hz), 4.8
4(1H,d,J=3.9 Hz), 5.30-5.24(3H,m),5.43(1H,dd,J=9.
3,10.7 Hz),5.63-5.80(1H,m),6.25(1H,d,J=8.8 Hz), 7.
12-7.38(15H,m) . 赤外吸収スペクトル ν max (ヌジョール) cm-1 : 33
30, 1740, 1730, 1660, 1600。

【００９６】(e) 2-[(R)-3′-ベンジルオキシテトラデ
カノイルアミノ]-2,6-ジデオキシ-4- Ｏ−ジフェニルホ
スホリル-6- フルオロ-3 Ｏ-[(R)-3″- テトラデカノイ
ルオキシテトラデカノイル]-Ｄ−グルコピラノース 3(d)で得られた460 mg(0.37ミリモル）の乾燥テトラヒ
ドロフラン10 ml 溶液に、ビス（メチルジフェニルホス
フィン）シクロオクタジエンイリジウム(I) ヘキサフル
オロホスフェイト16 mg (0.019ミリモル）を添加し、水
素でイリジウム錯体を活性化した後、窒素気流中３時間
攪拌した。次に、反応液にヨウ素0.19 g(0.74 ミリモ
ル）、水1 ml、ピリジン0.12 g(1.48ミリモル）を添加
し、室温で30分攪拌した。減圧濃縮して、残留物を酢酸
エチル80 ml に溶解し、5%チオ硫酸ナトリウム水、炭酸
水素ナトリウム水、塩化ナトリウム水で洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、残渣をシリカゲル
フラッシュクロマトグラフィー（シクロヘキサン：酢酸
エチル=75:25) で精製すると、淡黄色固形の標記化合物
が370 mg(85%) 得られた。 NMR スペクトル(270 MHz)(重クロロホルム) δ ppm: 1.07-1.72(62H,m), 2.15(2H,t,J=7.6 Hz), 2.25-2.45(5
H,m), 3.82-4.25(3H,m), 4.39,4.62(2H,ABq,J=11.2 H
z), 4.42(2H,dd,J=2.4,46.9 Hz), 4.67(1H,dd,J=9.3,1
9.1 Hz), ,5.04(1H,d,J=3.4 Hz), 5.04-5.15(1H,m,),
5.41(1H,dd,J=9.3,10.7 Hz), 6.22(1H,d,J=8.8 Hz),7.1
2-7.40(15H,md) . 赤外吸収スペクトル ν max (ヌジョール) cm-1 : 34
40, 1740, 1720, 1665, 1590。

【００９７】(f) 2,6-ジデオキシ-4 Ｏ−ジフェニルス
ルホリル-6- フルオロ-2-[(R)-3′- ヒドロキシテトラ
デカノイルアミノ]-3-Ｏ-[(R)-3″−テトラデカノイル
オキシテトラデカノイル]-Ｄ−グルコピラノース 3(e)で得られた化合物370 mgをテトラヒドロフラン4 ml
に溶解し、これに10% パラジウム炭素0.37 gを添加し、
次いでメタノール24 ml 、蟻酸２滴を加えて、水素気流
中35℃に加温しながら３時間攪拌した。反応液をテトラ
ヒドロフランで希釈し、セライト濾過して、パラジウム
炭素を除き、濾液を減圧乾固した。残渣をシリカゲルフ
ラッシュクロマトグラフィー（シクロヘキサン：酢酸エ
チル=65:35）で精製すると、固形の標記化合物が220 mg
(65%) 得られた。 赤外吸収スペクトル ν max (ヌジョール) cm-1 : 34
50-3200, 1740, 1642, 1595. 元素分析値(C60H99N12FPとして)

【００９８】(g) 2,6-ジデオキシ-6- フルオロ-2-[(R)-
3′- ヒドロキシテトラデカノイルアミノ]-3-Ｏ-[(R)-
3″- テトラデカノイルオキシテトラデカノイル]-Ｄ−
グルコピラノシル-4- ホスフェート 3(f)で得られた化合物0.135 g を乾燥テトラヒドロフラ
ン8 mlに溶解し、これに酸化白金27 mg を添加して、水
素気流中室温で１時間攪拌した。反応液をテトラヒドロ
フランで希釈して不溶物を溶解し、白金を濾過して除去
した。濾液を減圧乾固すると固形の標記化合物が107 mg
(92%) 得られた。 NMR スペクトル(270 MHz)(d5- ピリジン) δ ppm: 0.80-0.98(9H,m), 1.12-1.95(62H,m), 2.47(2H,t,J=7.3
Hz), 2.77-2.92(2H,m), 2.97-3.36(2H,m), 3.62-3.70
(1H,m), 4.45-5.80(7H,m), ,6.24(1H,dd,J=8.8,10.7 H
z), 8.88(1H,d,J=9.8 Hz) . 赤外吸収スペクトル ν max (ヌジョール) cm-1 : 36
00-3200, 1730, 1640, 1380. 元素分析値(C48H91NO12FP として)

【００９９】

【実施例４】(a) アリル 2-[(S)-3′-ベンジルオキシ
テトラデカノイルアミノ]-2-デオキシ-6- Ｏ-t- ブチル
ジメチルシリル-3- Ｏ-[(R)-3″- テトラデカノイルオ
キシテトラデカノイル]-α−Ｄ−グルコピラノサイド 1(g)で得られた、アリル 2-[(S)-3′- べンジルオキシ
テトラデカノイルアミノ]-2-デオキシ-3- Ｏ-[(R)-3″-
テトラデカノイルオキシテトラデカノイル]-α−Ｄ−
グルコピラノサイド0.5 g(0.51ミリモル）を乾燥塩化メ
チレン10 ml に溶解し、ジメチルアミノピリジン(DMAP)
0.16 g(1.29ミリモル）とt-ブチルジメチルシリルクロ
ライド0.12 g(0.78 ミリモル）を添加し、室温で４時間
攪拌した。塩化メチルを減圧留去し、残留物を酢酸エチ
ルで希釈した。炭酸水素ナトリウム水、塩化ナトリウム
水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧濃
縮して、残渣をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィ
ー（シクロヘキサン：酢酸エチル=9:1）で精製すると、
無色油状物の標記化合物0.56(99%) 得られた。 赤外吸収スペクトル ν max (液膜) cm-1: 3600-3150,
1730, 1650. 元素分析値(C64H115NO10Siとして)

【０１００】(b) アリル 2-[(S)-3′-ベンジルオキシ
テトラデカノイルアミノ]-2-デオキシ-4- Ｏ−ジフェニ
ルホスホリル-6- Ｏ-t- ブチルジメチルシリル-3- Ｏ-
[(R)-3″- テトラデカノイルオキシテトラデカノイル]-
α−Ｄ−グルコピラノサイド 4(a)で得られた化合物0.56 g(0.51 ミリモル）とジメチ
ルアミノピリジン0.19 g(1.54 ミリモル）を乾燥塩化メ
チレン12 ml に溶解し、ジフェニルクロロホスフェイト
0.41 g(1.53 ミリモル）の乾燥塩化メチレン4 ml溶液
を、徐々に添加し、室温で４時間攪拌した。塩化メチレ
ンを減圧蒸発させ、残留物を酢酸エチルで希釈し、炭酸
水素ナトリウム水、塩化ナトリウム水で洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥した。減圧濃縮して、残渣をシリ
カゲルフラッシュクロマトグラフィー（シクロヘキサ
ン：酢酸エチル=9:1）で精製すると、無色油状物の標記
化合物が0.63 g(93%) 得られた。 赤外吸収スペクトル ν max (液膜) cm-1: 3350, 173
5, 1670, 1590. 元素分析値(C76H124NO13PSi として)

【０１０１】(c) アリル 2-[(S)-3′-ベンジルオキシ
テトラデカノイルアミノ]-2-デオキシ-4- Ｏ−ジフェニ
ルホスホリル-3- Ｏ-[(R)-3″- テトラデカノイルオキ
シテトラデカノイル]-α−Ｄ−グルコピラノサイド 4(b)で得られた化合物0.56 g(0.42 ミリモル）をテトラ
ヒドロフラン10 ml に溶解し、これに３規定酸塩2 mlを
添加し、室温で４時間攪拌した。テトラヒドロフランを
減圧蒸発し、残留物を酢酸エチルに溶解し、炭酸ナトリ
ウム水、塩化ナトリウム水で洗浄して無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した。減圧濃縮して、残渣をシリカゲルフラ
ッシュクロマトグラフィー（シクロヘキサン：酢酸エチ
ル=7:3）で精製すると、固形の標記化合物が0.45 g(89
%) が得られた。 赤外吸収スペクトル ν max (ヌジョール) cm-1 : 34
50, 3320, 1730, 1650, 1585. 元素分析値(C70H110NO13p として)

【０１０２】(d) アリル 2-[(S)-3′-ベンジルオキシ
テトラデカノイルアミノ]-2,6-ジデオキシ-4- Ｏ−ジフ
ェニルホスホリル-6 フルオロ-3 Ｏ-[(R)-3″- テトラ
デカノイルオキシテトラデカノイル]-α−Ｄ−グルコピ
ラノサイド ジエチルアミノサルファートリフルオライド(DAST)0.21
g(1.3ミリモル）の乾燥塩化メチレン4 ml溶液に、4(c)
で得られた化合物0.39 g(0.32 ミリモル）の乾燥塩化メ
チレン4 ml溶液を水冷下徐々に添加し、水冷にて３時間
攪拌後、更に室温で30分攪拌した。反応液を氷水40 ml
に注加し、塩化メチレン層を分取し、水層を塩化メチレ
ンで抽出した。次いで、塩化ナトリウム水で洗浄して無
水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧濃縮して、残渣を
シリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（シクロヘキ
サン：酢酸エチル=8:2）で精製すると、固形の標記化合
物が0.36 g(91%) 得られた。 赤外吸収スペクトル ν max (液膜) cm-1: 3350, 174
0, 1675, 1590. 元素分析値(C70H109O12NPFとして)

【０１０３】(e) 2-[(s)-3′-ベンジルオキシテトラデ
カノイルアミノ]-2,6-ジデオキシ-4- Ｏ−ジフェニルホ
スホリル-6- フルオロ-3−Ｏ-[(R)-3″- テトラデカノ
イルオキシテトラデカノイル]-Ｄ−グルコピラノース 4(d)で得られた化合物100 mg(0.08 ミリモル）の乾燥テ
トラヒドロフラン2 ml 溶液に、ビス（メチルジフェニ
ルホスフィン）シクロオクタジエンイリジウム(I) ヘキ
サフルオロホスフェイト3.6 mg(0.004ミリモル）を添加
し、水素でイリジウム錯体を活性化した後、窒素気流
中、室温で３時間攪拌した。次に、反応液にヨウ素40 m
g(0.17ミリモル）、水0.2 ml、ピリジン30 mg(0.33ミリ
モル）を添加し、室温で30分攪拌した。減圧濃縮して、
残留物を酢酸エチル20 ml に溶解し、5%チオ硫酸ナトリ
ウム水、炭酸水素ナトリウム水、塩化ナトリウム水で洗
浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、残渣
をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（シクロヘ
キサン：酢酸エチル=75:25）で精製すると、淡黄色固形
の標記化合物が90 mg(90%)得られた。 赤外吸収スペクトル ν max (ヌジョール) cm-1 : 34
00, 1735, 1720, 1665, 1590. 元素分析値(C67H105NO12PFとして)

【０１０４】(f) 2,6-ジデオキシ-4- Ｏ−ジフェニルホ
スホリル-6- フルオロ-2-[(S)-3′- ヒドロキシテトラ
デカノイルアミノ]-3-Ｏ-[(R)-3″- テトラデカノイル
オキシテトラデカノイル−Ｄ−グルコピラノース 4(e)で得られた化合物0.20 gをテトラヒドロフラン2 ml
に溶解し、これに10% パラジウム炭素0.2 g を添加し、
次いでメタノール12 ml 、蟻酸１滴を加えて、水素気流
中35℃に加温しながら５時間攪拌した。反応液をテトラ
ヒドロフランで希釈し、セライト濾過してパラジウム炭
素を除去し、濾液を減圧乾固した。残渣をシリカゲルフ
ラッシュクロマトグラフィー（シクロヘキサン：酢酸エ
チル=7:3）で精製すると、固形の標記化合物0.15 g(81
%) が得られた。 赤外吸収スペクトル ν max (ヌジョール) cm-1 : 3
600-3100, 1730, 1660, 1590. 元素分析値(C60H99NO12PF として)

【０１０５】(g) 2-デオキシ-6- フルオロ-2-[(S)-3′-
ヒドロキシテトラデカノイルアミノ]-4-Ｏ−ホスホノ-
3- Ｏ-[(R)-3″- テトラデカノイルオキシテトラデカノ
イル]-Ｄ−グルコピラノース 4(f)で得られた化合物72 mg を乾燥テトラヒドロフラン
4 mlに溶解し、これに酸化白金15 mg を添加して、水素
気流中室温で30分攪拌した。反応液をテトラヒドロフラ
ンで希釈し、45℃に加温して寒天状物質を溶解させた。
次いで白金を濾過して除き、濾液を減圧乾固すると固形
の標記化合物が62 mg(定量的）得られた。 NMR スペクトル(270 MHz)(d5- ピリジン) δ ppm: 0.80-0.97(9H,m), 1.10-1.90(62H,m), 2.45(2H,t,J=7.3
Hz), 2.84(2H,d,J=5.9 Hz), 3.11(1H,dd,J=6.4,16.3 H
z), 3.27(1H,dd,J=6.4,16.3 Hz), 3.62-3.70(1H,m), ,
4.38-5.50(7H,m), 6.25(1H,dd,J=9.3,10.9 Hz) . 赤外吸収スペクトル ν max (ヌジョール) cm-1 :
3600-3200, 1730, 1700, 1650. 元素分析値(C48H91NO12FP として)

【０１０６】

【実施例５】燐酸化合物のトリエチルアミン塩 1(m)、2(c)、3(g)、4(g)で得られたリン酸化合物の水溶
性トリエチルアミン塩を得る必要のある場合は、次の操
作を行う。30 mg のリン酸化合物を8 mlの0.1 規定塩酸
に懸濁し、更にクロロホルム- メタノール(1:2) 30 ml
を加えて超音波を当て溶解した。この溶液にクロロホル
ム10 ml と、0.1 規定塩酸10 ml を加えると二層に分離
するのでクロロホルム層を分取した。クロロホルムを減
圧下除き、0.1%トリエチルアミン水にて溶解し、この水
溶液を活性測定のための試料とした。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 平岡 哲夫 東京都品川区広町１丁目２番58号 三共 株式会社内 (72)発明者 小林 知雄 東京都品川区広町１丁目２番58号 三共 株式会社内 (72)発明者 赤松 穣 東京都杉並区清水１−26−21 (72)発明者 西島 正弘 神奈川県川崎市宮前区宮前平１−４−29 −Ａ−101 (56)参考文献 特開 昭62−108895（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) C07H 13/06 A61K 31/70 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一般式 【化１】 ［式中、 R1は水酸基又は保護された水酸基を示し、R4は弗素原子
   を示す。 R2及びR3は、同一又は異なって、置換されていてもよい
   炭素数6乃至20個の脂肪族アシル基（該置換基は、下記A
   群より選択される基を示す。）を示す。］で表わされる
   化合物及びその塩。 ［A群］ ハロゲン原子、アリール基、アラルキル基、水酸基及び
   炭素数6乃至20個の脂肪族アシルオキシ基。
2. 【請求項２】請求項１において、R2及びR3が、同一で、
   置換されていてもよい炭素数６乃至20個の脂肪族アシル
   基（該置換基は、下記Ａ群より選択される基を示す。）
   である化合物及びその塩。 ［Ａ群］ ハロゲン原子、アリール基、アラルキル基、水酸基及び
   炭素数６乃至２０個の脂肪族アシルオキシ基。