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JP3259797B2 - Multilayer printed wiring board - Google Patents
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JP3259797B2 - Multilayer printed wiring board - Google Patents

Multilayer printed wiring board

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JP3259797B2
JP3259797B2 JP30501393A JP30501393A JP3259797B2 JP 3259797 B2 JP3259797 B2 JP 3259797B2 JP 30501393 A JP30501393 A JP 30501393A JP 30501393 A JP30501393 A JP 30501393A JP 3259797 B2 JP3259797 B2 JP 3259797B2
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Landscapes

  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は多層プリント配線板に関
し、特に高精度、高密度な配線を有する多層プリント配
線板に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a multilayer printed wiring board, and more particularly to a multilayer printed wiring board having high-precision and high-density wiring.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、通信機器に代表されるように、高
速動作が必要な電子機器が広く使用されるようになって
きた。高速動作が求められるということは、信号の高速
な伝搬が要求されることはもちろんであるが、高い周波
数の信号に対し、正確なスイッチングが可能であるなど
多種な要求を含んでいる。そのような電子機器に対応す
るため、高速な動作に適したプリント配線板が求められ
ている。高速な動作を行うためには、配線の長さを短く
し、電気信号の伝搬に要する時間を短縮することが必要
である。配線の長さを短縮するために、配線の幅を細く
し、配線の間隙を小さくするという、いわゆる高密度配
線を行うことが要求されている。
2. Description of the Related Art In recent years, electronic devices requiring high-speed operation, such as communication devices, have been widely used. The need for high-speed operation includes not only the need for high-speed signal propagation, but also various requirements such as accurate switching of high-frequency signals. In order to cope with such electronic devices, there is a demand for a printed wiring board suitable for high-speed operation. In order to perform high-speed operation, it is necessary to reduce the length of wiring and the time required for transmitting an electric signal. In order to reduce the length of the wiring, it is required to perform so-called high-density wiring in which the width of the wiring is reduced and the gap between the wirings is reduced.

【0003】また、高密度配線を可能にするためには、
配線の間隙が保たれるよう、高い精度で配線が形成され
ていることが必要である。また、配線の幅、厚さは、プ
リント配線板の特性インピーダンス等に影響を与え、電
気的特性を左右するため、その点からも高精度な配線が
求められている。以上のような高密度、高精度配線、電
気的特性を考慮したプリント配線板が要求されている代
表的な例として、プリント配線板上に単数もしくは複数
の半導体チップを直接搭載し、樹脂封止等を行ってモジ
ュール化するという、シングルチップモジュール(SC
M)あるいはマルチチップモジュール(MCM)という
ようなものがあげられる。
In order to enable high-density wiring,
Wiring needs to be formed with high accuracy so that a gap between the wirings is maintained. Further, since the width and thickness of the wiring affect the characteristic impedance of the printed wiring board and affect the electrical characteristics, high-precision wiring is also required from this point. A typical example of the demand for a printed wiring board that takes into account the high density, high-precision wiring, and electrical characteristics described above is a typical example in which one or more semiconductor chips are directly mounted on the printed wiring board, and resin-sealed. Etc. to make a module, a single chip module (SC
M) or a multi-chip module (MCM).

【0004】プリント配線板には、片面のみに配線が形
成された片面プリント配線板、両面に配線が形成された
両面プリント配線板、さらには内層にも配線が形成され
たいわゆる多層プリント配線板等種々のものがある。そ
して、プリント配線板に要求される配線密度により、配
線の幅も勘案して配線の層の数が決定されている。プリ
ント配線板に用いられている絶縁基板は、ガラスクロス
に、エポキシ系、ポリイミド系等の樹脂を含浸させたも
の、あるいはセラミック系等の材料が用いられ、実用上
は、それらの片面もしくは両面に銅箔が貼着された銅張
積層板が使用されている。
[0004] Printed wiring boards include single-sided printed wiring boards having wiring formed only on one side, double-sided printed wiring boards having wiring formed on both sides, and so-called multilayer printed wiring boards having wiring formed on inner layers. There are various things. The number of wiring layers is determined based on the wiring density required for the printed wiring board in consideration of the width of the wiring. The insulating substrate used for the printed wiring board is made of glass cloth impregnated with an epoxy resin, a polyimide resin or the like, or a ceramic material or the like. A copper-clad laminate to which a copper foil is adhered is used.

【0005】そして、銅張積層板にドリル等の方法で穿
孔し、めっきにより穴の内壁にめっき等の方法により導
体を形成してバイアホールとし、エッチングを行い、配
線パターンを形成し、配線パターンを保護するためのソ
ルダーレジスト等のオーバーコート層を設けるというよ
うな方法で製造されている。なお、配線パターンの形成
にあたっては、上記のように全面にめっきを施した後に
エッチングにより配線パターンを形成するというサブト
ラクティブ法、配線パターンを形成する部分に選択的に
めっきを行うアディティブ法のどちらでもよい。また、
めっきによらず、蒸着等によって配線パターンとなる導
体を被着させてもよいが、一般的にはめっきが用いられ
ている。
[0005] Then, a hole is drilled in the copper-clad laminate by a method such as drilling, a conductor is formed on the inner wall of the hole by plating or the like to form a via hole, etching is performed, a wiring pattern is formed, and a wiring pattern is formed. It is manufactured by a method of providing an overcoat layer such as a solder resist for protecting the substrate. In forming the wiring pattern, either a subtractive method of forming a wiring pattern by etching after plating the entire surface as described above or an additive method of selectively plating a portion where the wiring pattern is formed as described above. Good. Also,
Instead of plating, a conductor serving as a wiring pattern may be adhered by vapor deposition or the like, but plating is generally used.

【0006】一方、上記のような高密度配線の要求に対
応するため、表面配線プリント配線板(SLC)が提案
され(以下、SLCという。)、用いられている(電子
材料、1991年4月号、第103〜108頁)。SL
Cを製造するにあたっては、一般にビルドアップ法と称
されている工法が用いられている。この方法はリジッド
基板上に配線パターンを形成し、その上に絶縁層を形成
し、さらにその上に配線パターンを形成し、さらに絶縁
層を形成するという工程を繰り返すことにより、プリン
ト配線板を形成するというものである。表層配線構造と
も呼ばれている。
On the other hand, in order to meet the above demand for high-density wiring, a surface wiring printed wiring board (SLC) has been proposed (hereinafter, referred to as SLC) and used (electronic material, April 1991). No. 103-108). SL
In manufacturing C, a construction method generally called a build-up method is used. In this method, a printed wiring board is formed by repeating a process of forming a wiring pattern on a rigid substrate, forming an insulating layer thereon, forming a wiring pattern thereon, and further forming an insulating layer. It is to do. It is also called a surface wiring structure.

【0007】なお本明細書では、硬質な材料からなる絶
縁基板を「リジッド基板」と呼び、少なくとも片側の面
に配線が形成されたリジッド基板を「リジッド配線板」
と呼び、ビルドアップ法によって形成される配線層を
「表層配線層」と呼ぶ。また導体層間の接続を行うため
に、プリント配線板を貫通して設けられ、壁面に金属を
析出させた穴のことを「スルーホール」呼び、部品を挿
入せず、導体層間の接続を行うために用いられ、壁面に
金属を析出させた穴のことを「バイアホール」呼ぶ。な
お、「バイアホール」にはプリント配線板を貫通しない
もの、一般に、ブラインドバイアホール、バリッドバイ
アホール、あるいはそれらを総称してインタースティシ
ャルバイアホールと呼ばれているものを含むものとす
る。
In this specification, an insulating substrate made of a hard material is referred to as a “rigid substrate”, and a rigid substrate having wiring formed on at least one surface is referred to as a “rigid wiring board”.
, And the wiring layer formed by the build-up method is referred to as “surface wiring layer”. In addition, in order to make connection between conductor layers, a hole provided through a printed wiring board and having metal deposited on the wall surface is called a "through hole", to connect between conductor layers without inserting components A hole in which a metal is deposited on a wall surface is called a "via hole". The “via holes” include those that do not penetrate the printed wiring board, generally include blind via holes, valid via holes, or those generally referred to as interstitial via holes.

【0008】具体的にSLCでは、絶縁層に感光性のエ
ポキシ樹脂を使用し、表層配線層の層間接続にはドリル
によるスルーホールではなくフォトバイアホールを用い
る。各層の配線パターン形成には、前述のサブトラクテ
ィブ法、及びアディティブ法が適用できることはいうま
でもない。そして、リジッド基板は、本質的に支持構造
体としての役割をもち、実際の配線は表層配線層の内部
で行われる。前記の文献(電子材料、1991年4月
号、第103〜108頁)には、両面銅張積層板を用
い、電源層を第一信号層とは反対面に移動し、表層配線
層を形成した後、ドリルによって穿孔を行い銅メッキに
よりスルーホールを形成するという構造も提案されてい
る。
Specifically, in the SLC, a photosensitive epoxy resin is used for an insulating layer, and a photo via hole is used for interlayer connection of a surface wiring layer instead of a through hole by a drill. It goes without saying that the above-described subtractive method and additive method can be applied to the formation of the wiring pattern of each layer. The rigid substrate essentially has a role as a support structure, and actual wiring is performed inside a surface wiring layer. In the above-mentioned document (Electronic Materials, April 1991, pp. 103-108), a double-sided copper-clad laminate is used, and a power supply layer is moved to a surface opposite to a first signal layer to form a surface wiring layer. Then, a structure has been proposed in which a hole is formed by drilling and a through hole is formed by copper plating.

【0009】SLCは、上述したような、銅張積層板に
穿孔し、バイアホール、配線を形成し、積層する、とい
う多層プリント配線板の製造方法における、高密度化等
の限界を打破するために提案されたものである。そし
て、高密度化に伴うクロストークノイズを回避するため
の絶縁層の薄型化にも対応し、かつ低コスト化について
も考慮されている。具体的には、次にあげるような問題
点を解消すべく提案されたものである。 (A)薄い銅箔を使用するためのコストの増加。 (B)絶縁層を薄くするためのコストの増加。 (C)小径スルーホールを加工するドリル径の限界。 (D)多層化による高アスペクト比スルーホールの信頼
性の限界。
[0009] The SLC is used to overcome the limitation of high density and the like in the method of manufacturing a multilayer printed wiring board in which a copper-clad laminate is punched, a via hole and a wiring are formed and laminated as described above. It is proposed in. In addition, the thickness of the insulating layer is reduced to avoid crosstalk noise accompanying the increase in density, and cost reduction is also considered. Specifically, it has been proposed to solve the following problems. (A) Increased cost for using thin copper foil. (B) Increase in cost for thinning the insulating layer. (C) Limit of drill diameter for processing small diameter through hole. (D) Limit of reliability of through holes with high aspect ratio due to multilayering.

【0010】ビルドアップ法を用いた従来のプリント配
線板の製造方法を、具体的に例をあげて、図5に従って
説明する。まず図5(a)のように、ガラスエポキシ基
板等のリジッドな材料からなる絶縁基板51上に配線パ
ターン52を形成する。この場合、両面銅張ガラスエポ
キシ基板を用いて、エッチングにより配線パターンを形
成するという方法が簡易でよい。続いて、図5(b)の
ように、感光性エポキシ樹脂を塗布して、絶縁層53を
形成し、バイアホールを形成する部分54の感光性エポ
キシ樹脂を露光、現像して取り除く。絶縁層の材料は感
光性エポキシ樹脂に限定されることはないが、バイアホ
ール部の加工を行いやすくするために、感光性の材料が
用いられる。
A conventional method for manufacturing a printed wiring board using the build-up method will be described with reference to FIG. First, as shown in FIG. 5A, a wiring pattern 52 is formed on an insulating substrate 51 made of a rigid material such as a glass epoxy substrate. In this case, a method of forming a wiring pattern by etching using a double-sided copper-clad glass epoxy substrate may be simple. Subsequently, as shown in FIG. 5B, a photosensitive epoxy resin is applied to form an insulating layer 53, and the photosensitive epoxy resin in a portion 54 where a via hole is to be formed is exposed, developed and removed. The material of the insulating layer is not limited to the photosensitive epoxy resin, but a photosensitive material is used to facilitate processing of the via hole.

【0011】また、絶縁層の材料の誘電率は配線層の信
号の伝播速度や、プリント配線板の特性インピーダンス
等の電気的特性を左右する重要なパラメーターであるた
め、そのような電気的特性を満足するような材料を選定
することが必要である。さらに、絶縁層の形成にあたっ
て、樹脂を塗布するという方法が、均一な厚さで絶縁層
を形成できるという点等からみて好ましく、塗布できる
ような材料を用いるのが一般的である。
Further, the dielectric constant of the material of the insulating layer is an important parameter that affects the electrical characteristics such as the signal propagation speed of the wiring layer and the characteristic impedance of the printed wiring board. It is necessary to select a material that satisfies. Further, in forming the insulating layer, a method of applying a resin is preferable in view of the fact that the insulating layer can be formed with a uniform thickness, and a material that can be applied is generally used.

【0012】塗布の方法としては、カーテンコート法や
スピンコート法が適用されている。そして、図5(c)
のように、絶縁層53上に無電解めっき、電解めっきに
よって銅箔を形成し、バイアホール55を設け、形成さ
れた銅箔をエッチングすることにより配線パターン56
を形成する。この際、無電解めっきは、絶縁層上に導電
性を付与し、電解めっきが可能となるようにするために
行うものであり、0.3μm程度の厚さで形成される。
電解めっきは所望の厚さの配線パターンを得るためのも
のであり、20μm程度の厚さで形成される。この厚さ
は、配線パターンの厚さとなるものであり、プリント配
線板に流れる電流の大きさ、要求される特性インピーダ
ンス等の電気特性等によって決定される。
As a coating method, a curtain coating method or a spin coating method is applied. Then, FIG.
, A copper foil is formed on the insulating layer 53 by electroless plating and electrolytic plating, a via hole 55 is provided, and the formed copper foil is etched to form a wiring pattern 56.
To form At this time, the electroless plating is performed to impart conductivity to the insulating layer so that the electrolytic plating can be performed, and is formed with a thickness of about 0.3 μm.
The electrolytic plating is for obtaining a wiring pattern having a desired thickness, and is formed with a thickness of about 20 μm. This thickness is the thickness of the wiring pattern, and is determined by the magnitude of the current flowing through the printed wiring board, required electrical characteristics such as characteristic impedance, and the like.

【0013】サブトラクティブ法によって配線パターン
を形成する場合には、製造上は、配線パターンの厚さが
薄いほうが微細なエッチングを行うことができて有利で
ある。また、アディティブ法による場合も、配線パター
ンの厚さが薄いほうがめっきのばらつきが少なく、有利
である。
In the case where a wiring pattern is formed by a subtractive method, it is advantageous in terms of manufacturing that a thinner wiring pattern can perform fine etching since it is thinner. Also in the case of the additive method, the thinner the wiring pattern, the smaller the variation in plating, which is advantageous.

【0014】次に、図5(d)に示すように、絶縁層5
7を全面に形成し、バイアホール部を露光現像する。形
成の方法は、図5(b)の工程で用いた方法と同様でよ
い。さらに、ドリルを用いてスルーホール用の貫通孔5
8を形成する。そして、図5(c)と同様の工程でめっ
きを行い、バイアホール59及びスルーホール60を形
成する(図5(e))。この場合、スルーホール60は
配線パターンの高密度形成の障害とならないように、な
るべく孔径が小さいほうがよい。しかし、孔径が小さい
スルーホールは、即ち高いアスペクト比の場合は、スル
ーホール内部に均一にめっきをつけることが困難であ
る。プリント配線板を量産する場合には、めっきのばら
つきを考慮し、信頼性を確保するために、例えば貫通孔
を形成する時点でのプリント配線板の厚さが1.2mm
程度で、スルーホール形成のためのドリルの径が0.3
mm程度の場合には、めっきの厚さを30μm程度は設
けることが望ましいと考えられている。
Next, as shown in FIG.
7 is formed on the entire surface, and the via holes are exposed and developed. The method of formation may be the same as the method used in the step of FIG. Further, a through hole 5 for a through hole is formed using a drill.
8 is formed. Then, plating is performed in the same process as in FIG. 5C to form via holes 59 and through holes 60 (FIG. 5E). In this case, it is preferable that the diameter of the through hole 60 is as small as possible so as not to hinder the formation of the wiring pattern at high density. However, in the case of a through hole having a small hole diameter, that is, in the case of a high aspect ratio, it is difficult to uniformly coat the inside of the through hole. When the printed wiring board is mass-produced, the thickness of the printed wiring board at the time of forming the through hole is, for example, 1.2 mm in order to secure the reliability in consideration of plating variations.
And the diameter of the drill for forming through holes is 0.3
In the case of about mm, it is considered that it is desirable to provide a plating thickness of about 30 μm.

【0015】続いて、エッチングにより配線パターン6
1を形成する。この際に表層配線層を形成した側と反対
の面の銅箔も同時にエッチングして、電源層のパターン
62とする。そして、配線パターン61、電源層のパタ
ーン62を保護するソルダーレジスト63を設けて、プ
リント配線板が完成する(図5(f))。
Subsequently, the wiring pattern 6 is etched by etching.
Form one. At this time, the copper foil on the surface opposite to the surface on which the surface wiring layer is formed is simultaneously etched to form the power supply layer pattern 62. Then, a solder resist 63 for protecting the wiring pattern 61 and the power supply layer pattern 62 is provided to complete the printed wiring board (FIG. 5F).

【0016】[0016]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の方法で
は次のような問題があった。
However, the above method has the following problems.

【0017】第一には、上記の(D)多層化による高ア
スペクト比スルーホールの信頼性の限界、という問題を
完全に解決したとは言えない、ということである。これ
は、リジッド配線板の厚さと表層配線層の厚さの和とな
る厚さに、ドリルによる穿孔を行い、スルーホールを形
成するため、アスペクト比が高くなり、スルーホールの
信頼性は低下する。
First, it cannot be said that (D) the problem of the limitation on the reliability of through holes having a high aspect ratio due to multilayering has been completely solved. This is because drilling is performed to a thickness that is the sum of the thickness of the rigid wiring board and the thickness of the surface wiring layer to form a through hole, so that the aspect ratio increases and the reliability of the through hole decreases. .

【0018】第二に、プリント配線板の最も外側となる
配線パターンの寸法精度及び密度が低下するという問題
である。即ち、アスペクト比が高くなるため、スルーホ
ールの信頼性を高めるためには、めっきを厚く形成せざ
るをえない。しかし、最も外側となる配線パターン61
以外の表層配線層を形成した後、ドリルによって穿孔を
行い、銅メッキにより、配線パターン61とスルーホー
ル60を同時に形成しているため、配線パターン61の
厚さを、スルーホール60内のめっきの厚さにあわせる
ことになり、配線が厚くなる。
The second problem is that the dimensional accuracy and density of the wiring pattern on the outermost side of the printed wiring board are reduced. That is, since the aspect ratio becomes high, in order to increase the reliability of the through hole, it is necessary to form a thick plating. However, the outermost wiring pattern 61
After forming the surface wiring layers other than the above, the wiring pattern 61 and the through hole 60 are formed simultaneously by drilling and drilling by copper plating. The thickness is adjusted to the thickness, and the wiring becomes thicker.

【0019】すると、サブトラクティブ法によって配線
パターンを形成する場合には微細なエッチングを行うこ
とが難しく、配線パターンの寸法精度が低下する。さら
に高密度な配線も形成しにくくなる。アディティブ法に
よって配線パターンを形成する場合にも、めっきのばら
つきが大きくなり、均一な寸法の配線パターンを形成す
ることが困難となり、特に厚さ方向の精度が低下する。
高密度な配線も形成しにくくなる。もし、スルーホール
60内にのみ厚くめっきを形成しようとすると、スルー
ホール60以外の部分にマスクを行い配線パターン61
上にめっきがつかないようにし、マスクを除去した後に
配線パターンめっきを改めて行う、等の工夫が必要とな
り、工程が増えコスト面で高くなってしまう。
Then, when a wiring pattern is formed by the subtractive method, it is difficult to perform fine etching, and the dimensional accuracy of the wiring pattern is reduced. Further, it is difficult to form a high-density wiring. Even when a wiring pattern is formed by the additive method, the variation in plating becomes large, and it becomes difficult to form a wiring pattern having a uniform dimension, and the accuracy particularly in the thickness direction is reduced.
It becomes difficult to form high-density wiring. If a thick plating is to be formed only in the through hole 60, a portion other than the through hole 60 is masked and the wiring pattern 61 is formed.
It is necessary to take measures such as preventing plating from being applied on the upper surface and re-applying wiring pattern plating after removing the mask, which increases the number of steps and increases the cost.

【0020】第三に、スルーホール60が表層配線層を
貫通しているため、表層配線層として配線可能な面積を
大きく消費することとなり、高密度配線の障害となる。
本発明は、上記従来の問題に鑑みてなされたものであ
り、その課題とすることはスルーホールの信頼性が高
く、高精度、高密度な配線が可能で、外部との接続も容
易に行える多層プリント配線板を提供することにある。
Third, since the through-holes 60 penetrate the surface wiring layer, a large area can be used for wiring as the surface wiring layer, which hinders high-density wiring.
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional problems, and it is an object of the present invention to provide a through-hole with high reliability, high precision, high-density wiring, and easy connection to the outside. It is to provide a multilayer printed wiring board.

【0021】[0021]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明のプリント配線板は、液状樹脂をガラスクロ
スに含浸させ硬化させた絶縁層を用い、かつ両面及び内
層に配線層が形成された多層構造のリジッド基板と、前
記リジッド基板の両面側に表裏同じ材質からなる液状の
樹脂を塗布し硬化させて得られる絶縁層を介して、めっ
きにより設けられる表層配線層と、リジッド基板に設け
られた配線層と表層配線層との間を、前記絶縁層を貫通
して接続し、かつリジッド基板を貫通しないように設け
られたバイアホールと、リジッド基板に設けられた配線
層の相互間を接続するバイアホールと、を有する多層プ
リント配線板であって、前記リジッド基板に設けられた
配線層の相互間を接続するバイアホールは、両面の表層
配線層を貫通しないことを特徴としている。また、前記
リジッド基板に設けられた配線層の相互間を接続するバ
イアホールの上部に、絶縁層が形成されていることを特
徴としている。
In order to solve the above-mentioned problems, a printed wiring board according to the present invention comprises a liquid resin made of glass cloth.
An insulating layer formed by curing impregnated with the scan, and a rigid substrate having a multilayer structure in which wiring layers are formed on both surfaces and the inner layer, is a liquid resin consisting of front and back the same material was coated hardened on both sides of the rigid substrate Through the insulating layer obtained by the above, a surface wiring layer provided by plating and a wiring layer provided on the rigid substrate and a surface wiring layer are connected through the insulating layer, and penetrate the rigid substrate. and via holes formed so as not to, a multilayer printed wiring board having a via hole, a connecting between the mutual wiring layer provided on the rigid substrate, mutual interconnection layer provided on the rigid substrate Are characterized in that they do not penetrate the surface wiring layers on both sides. Further, an insulating layer is formed above the via hole connecting the wiring layers provided on the rigid substrate to each other.

【0022】また、上記多層プリント配線板の周囲に端
子が設けられ、該端子に外部接続用のリードが電気的に
接続されていることを特徴としている。
Further, a terminal is provided around the multilayer printed wiring board, and a lead for external connection is electrically connected to the terminal.

【0023】[0023]

【作用】本発明によれば、リジッド基板に設けられた配
線層の相互間を接続するバイアホールは、表層配線層を
貫通しないため、アスペクト比を低下させることができ
る。
According to the present invention, since the via holes connecting the wiring layers provided on the rigid substrate do not penetrate the surface wiring layer, the aspect ratio can be reduced.

【0024】また、スルーホール内のめっき厚が表層配
線層の配線の厚さに影響を与えることがなく、表層配線
層の配線が厚くなることがない。
Further, the plating thickness in the through hole does not affect the thickness of the wiring of the surface wiring layer, and the wiring of the surface wiring layer does not become thick.

【0025】さらに、リジッド基板に設けられた配線層
の相互間を接続するバイアホールが表層配線層の配線可
能な面積を消費することがない。
Further, the via holes connecting the wiring layers provided on the rigid substrate do not consume the wirable area of the surface wiring layer.

【0026】[0026]

【実施例】以下、基本例及び実施例により本発明をさら
に詳細に説明する。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to basic examples and examples.

【0027】〔基本例〕基本例を図1に沿って説明す
る。まず、図1(a)に示すように、ガラスクロスにB
T樹脂(ビスマレイミド−トリアジン樹脂)を含浸させ
た厚さ1.0mmの基材1の両面に厚さ12μm程度の
銅箔2が貼着された、両面銅貼積層板3を用意し、直径
0.30mmのドリルを用いて穴あけを行い、穴内にめ
っきを厚さ25μmで行い、めっき層4を設け、バイア
ホール5を形成した。そして、図1(b)のように、両
面をエッチングして、配線パターン6を形成し、リジッ
ド配線板7を形成した。なお、図1(b)から(e)で
は、銅箔2とめっき層4は一体的に図示し、境界線は図
示していない。リジッド配線板は両面に配線が形成され
ていれば良く、内層にも配線が形成された多層構造のも
のを用いても良いことはもちろんである。
[Basic Example] A basic example will be described with reference to FIG. First, as shown in FIG.
A double-sided copper-clad laminate 3 having a copper foil 2 having a thickness of about 12 μm adhered to both sides of a substrate 1 having a thickness of 1.0 mm impregnated with a T resin (bismaleimide-triazine resin) was prepared. Drilling was performed using a 0.30 mm drill, plating was performed in the hole to a thickness of 25 μm, plating layer 4 was provided, and via hole 5 was formed. Then, as shown in FIG. 1B, both surfaces were etched to form a wiring pattern 6 and a rigid wiring board 7 was formed. In FIGS. 1B to 1E, the copper foil 2 and the plating layer 4 are shown integrally, and the boundaries are not shown. The rigid wiring board only needs to have wirings formed on both sides, and it is a matter of course that a multilayer wiring board having wirings formed on inner layers may be used.

【0028】そして、表層配線層の形成工程を行い、リ
ジッド配線板7の両面に表層配線層を形成した。先に述
べたように、プリント配線板の両面に半導体チップ等の
素子を搭載するためには、プリント配線板の両面にパタ
ーンが必要である。そして、より高密度な配線を行うた
めには、リジッド配線板7の両側の面に表層配線層を形
成すればよい。そのため、本基本例では、リジッド配線
板7の両側の面に表層配線層を形成している。
Then, a step of forming a surface wiring layer was performed to form a surface wiring layer on both surfaces of the rigid wiring board 7. As described above, in order to mount an element such as a semiconductor chip on both sides of the printed wiring board, a pattern is required on both sides of the printed wiring board. Then, in order to perform higher-density wiring, a surface wiring layer may be formed on both surfaces of the rigid wiring board 7. Therefore, in this basic example , surface wiring layers are formed on both surfaces of the rigid wiring board 7.

【0029】表層配線層の形成工程について述べる。The step of forming the surface wiring layer will be described.

【0030】まず、図1(b)の状態から、リジッド基
板上にエッチングにより形成された配線パターン6と、
その上に形成する絶縁層8との密着力を向上させるため
に、黒化処理を行った。黒化処理には例えば亜塩素酸ナ
トリウム水溶液、過硫酸カリウム水溶液等が用いられ
る。本基本例では、下記の条件で黒化処理を行った。
First, from the state of FIG. 1B, a wiring pattern 6 formed on a rigid substrate by etching,
A blackening treatment was performed to improve the adhesion to the insulating layer 8 formed thereon. For the blackening treatment, for example, an aqueous solution of sodium chlorite, an aqueous solution of potassium persulfate or the like is used. In this basic example , the blackening process was performed under the following conditions.

【0031】 処理液の組成:NaOH 21g/
l Na3 PO4 ・12H2 O 17g/l NaClO2 43g/l 処理液の温度:90℃ 処理時間 :270秒
Composition of treatment liquid: NaOH 21 g /
1 Na 3 PO 4 .12H 2 O 17 g / l NaClO 2 43 g / l Temperature of processing solution: 90 ° C. Processing time: 270 seconds

【0032】次に図1(c)に沿って説明する。上記の
黒化処理後、絶縁層8を形成した。絶縁層の材料として
は、高絶縁性、低誘電率のものが好ましく、また微細な
加工が容易に行えるということから、エポキシ樹脂、又
はポリイミド樹脂等で感光性の樹脂が好ましい。例え
ば、プロビマー52(日本チバガイギー(株)製;商品
名)が適用できる。形成方法としては、カーテンコート
法により塗布し、溶剤分をとばすために仮乾燥を行っ
た。
Next, description will be made with reference to FIG. After the above blackening treatment, the insulating layer 8 was formed. As the material of the insulating layer, a material having high insulation properties and a low dielectric constant is preferable, and a photosensitive resin such as an epoxy resin or a polyimide resin is preferable because fine processing can be easily performed. For example, Provimer 52 (manufactured by Ciba-Geigy Japan; trade name) can be applied. As a forming method, application was performed by a curtain coat method, and temporary drying was performed to blow off the solvent.

【0033】ここで、バイアホール上部9にも絶縁層を
形成しないと、その部分に表層配線層を形成することが
できなくなり、高密度配線の障害となる。孔の部分に絶
縁層を形成するには、粘度が高いソルダーレジストイン
キを用いてスクリーン印刷を行い、必要に応じて複数回
印刷を行うという方法がある。この方法を用いると孔に
テント状にインキの膜を形成することができ、例えば特
開昭64−22096号公報に記載されている。孔径が
小さい場合には、カーテンコート法を用いて、材料の粘
度を適切なものにすることによって達成することができ
る。粘度は、孔径が大きい場合ほど正確な設定が必要で
あるが、ドリル径が0.3mm程度の場合、カーテンコ
ート法では、300〜800ポイズ程度の粘度であれば
よい。また、絶縁層を形成する前に、リジッド配線板に
形成したバイアホールにスクリーン印刷等の方法を用い
て、ペースト等を充填しておく、という工程を行っても
よいことは勿論である。
Here, if an insulating layer is not formed also on the upper portion 9 of the via hole, it is impossible to form a surface wiring layer on that portion, which becomes an obstacle to high-density wiring. In order to form the insulating layer in the hole, there is a method in which screen printing is performed using a solder resist ink having high viscosity, and printing is performed a plurality of times as necessary. By using this method, a film of ink can be formed in a hole in a tent shape, which is described in, for example, JP-A-64-22096. When the pore size is small, it can be achieved by using a curtain coating method to make the viscosity of the material appropriate. The viscosity needs to be set more accurately as the hole diameter is larger. However, when the drill diameter is about 0.3 mm, the viscosity may be about 300 to 800 poise by the curtain coating method. In addition, before forming the insulating layer, it is a matter of course that a step of filling the via holes formed in the rigid wiring board with a paste or the like by using a method such as screen printing may be performed.

【0034】上記のように絶縁層8を形成した後、所望
のバイアホールのパターンを形成してあるマスクを重
ね、露光、現像を行い、バイアホール形成部の絶縁層を
取り除いた。取り除く手段は、露光、現像に限定される
ことはなく、例えば、炭酸ガスレーザー等のレーザーを
用いて加工を行ってもよく、レジストを形成して、ドラ
イエッチングを行うというような方法でもよい。そし
て、絶縁層を完全に硬化させるためにベーキングを行っ
た。その後、表面を研磨し、表面の凹凸をなくした。こ
の工程を行う理由は、絶縁層をカーテンコートすると、
その下地となる層の配線の存在部位と非存在部位で絶縁
層に凹凸が生じるが、ビルドアップ工程を繰り返すこと
により、この凹凸が積み重なり、配線パターンの形成工
程で、めっきやエッチングが行いにくくなるというよう
な障害がおきるためである。
After the insulating layer 8 was formed as described above, a mask having a desired via hole pattern formed thereon was overlaid, exposed and developed, and the insulating layer in the via hole forming portion was removed. The removing means is not limited to exposure and development. For example, processing may be performed using a laser such as a carbon dioxide laser or a method of forming a resist and performing dry etching. Then, baking was performed to completely cure the insulating layer. Thereafter, the surface was polished to eliminate surface irregularities. The reason for performing this step is that if the insulating layer is curtain-coated,
Irregularities occur in the insulating layer in the existing and non-existing portions of the wiring of the underlying layer, but by repeating the build-up process, the irregularities are accumulated, and plating and etching are difficult to perform in the wiring pattern forming process. This is because of such obstacles.

【0035】そして、55g/lの過マンガン酸カリウ
ム溶液で5分間浸漬処理を行い、絶縁層の表面の粗化を
行った。この工程は、絶縁層とめっき層との密着力を向
上させるための処理である。続いて、無電解めっきを行
い、絶縁層の全面に厚さ20μmの銅箔を形成した。こ
の際、露光、現像によって形成した、バイアホールとな
る凹部内にもめっき行うことはもちろんである。そし
て、通常、プリント配線板の配線形成工程と同様に、レ
ジストをコートし、露光、現像を行い、エッチングを行
うことによって銅箔に配線パターン10を形成した。
Then, the surface of the insulating layer was roughened by immersion treatment in a 55 g / l potassium permanganate solution for 5 minutes. This step is a process for improving the adhesion between the insulating layer and the plating layer. Subsequently, electroless plating was performed to form a copper foil having a thickness of 20 μm on the entire surface of the insulating layer. At this time, it is needless to say that plating is performed also in the concave portion which will be a via hole and is formed by exposure and development. Then, similarly to the wiring forming step of the printed wiring board, a resist was coated, exposed, developed, and etched to form a wiring pattern 10 on the copper foil.

【0036】表層配線層をリジッド配線板の両面に形成
するため、以上の工程を両面に対して行ったが、露光、
現像工程やめっき工程は両面の処理を同時に行うことが
できる。両面の絶縁層は、同じ材質のものを用いること
が、製造工程の上から好ましい。
In order to form a surface wiring layer on both surfaces of the rigid wiring board, the above steps were performed on both surfaces.
In the developing step and the plating step, the treatment on both sides can be performed simultaneously. It is preferable to use the same material for the insulating layers on both surfaces from the viewpoint of the manufacturing process.

【0037】このような工程で、リジッド配線板の両面
の配線とあわせて、四層の配線層が形成された。さら
に、上記の黒化処理工程以降の工程を繰り返すことによ
り、所望の層数の表層配線層を得ることができる。ま
た、プリント配線板の片面側の周囲には、外部接続に用
いる電極11を形成した。電極は、本基本例のように最
も外側となる配線層10を形成する際に同時に形成して
も、図1(b)の工程、即ち、基材1の両面に配線パタ
ーンを形成する際に形成し、表層配線層を電極の内側に
形成するようにしてもよい。電極11には、表面の保護
及び接続信頼性を高めるため、3〜5μm程度の厚さの
ニッケルめっき層を形成した後、0.3〜0.5μm程
度の厚さの金などの貴金属めっき層を形成することが好
ましい。
Through these steps, four wiring layers were formed together with the wiring on both surfaces of the rigid wiring board. Further, by repeating the steps after the above-described blackening step, a desired number of surface wiring layers can be obtained. An electrode 11 used for external connection was formed around one side of the printed wiring board. Even if the electrodes are formed at the same time as forming the outermost wiring layer 10 as in the basic example , the electrodes are formed at the time of the step of FIG. Alternatively, the surface wiring layer may be formed inside the electrode. After a nickel plating layer having a thickness of about 3 to 5 μm is formed on the electrode 11 to enhance surface protection and connection reliability, a noble metal plating layer such as gold having a thickness of about 0.3 to 0.5 μm is formed. Is preferably formed.

【0038】その後、図1(d)に示すように両面にソ
ルダーレジスト12を形成した。絶縁層と同じ材料でも
よく、例えば上記の例のプロビマー52(日本チバガイ
ギー(株)製;商品名)を適用することができ、絶縁層
と同様の方法で形成できるため、工程上も好ましい。こ
のような工程によって、プリント配線板を完成すること
ができた。なお外部との接続の都合上、電極11にリー
ドを接続してもよい。例えば、リード13と配線基板の
接続用端子11を、はんだを用いて接続した。接続の手
段は両者が電気的に接続されていれば特に限定されるこ
とはなく、ワイヤボンディング、熱圧着、レーザー接
合、導電性ペーストによる接続等が適用できる。
Thereafter, as shown in FIG. 1D, solder resists 12 were formed on both surfaces. The same material as the insulating layer may be used. For example, Provimer 52 (trade name, manufactured by Nippon Ciba Geigy Co., Ltd.) of the above example can be applied, and it can be formed by the same method as the insulating layer. Through such steps, the printed wiring board was completed. Note that a lead may be connected to the electrode 11 for connection to the outside. For example, the lead 13 and the connection terminal 11 of the wiring board were connected using solder. The means for connection is not particularly limited as long as the two are electrically connected, and wire bonding, thermocompression bonding, laser bonding, connection using a conductive paste, or the like can be applied.

【0039】なお、リード13には、従来の集積回路に
用いられているリードフレームと同材料が適用できる。
形状についても同様でよく、中央にプリント配線板を配
置できるようなものであればよい。リードフレームの、
プリント配線板との接続部分にあたるインナーリードに
は、ニッケルめっき等の下地めっきを形成した後、金、
銀、パラジウム等のめっきを施すことが好ましい。ま
た、その他の部分もはんだめっき等を施して酸化等に対
する耐性を増すことが好ましい。図1(e)は、上記の
ような工程で作成したプリント配線板に、半導体チップ
16を搭載し、金線14を用いてプリント配線上の配線
パターンと接続し、エポキシ樹脂等の封止樹脂15を用
いて樹脂封止をすることにより作成した半導体装置であ
る。
The lead 13 can be made of the same material as a lead frame used in a conventional integrated circuit.
The same applies to the shape, as long as the printed wiring board can be arranged at the center. Of lead frame,
After forming the base plating such as nickel plating on the inner lead corresponding to the connection part with the printed wiring board,
It is preferable to perform plating of silver, palladium or the like. In addition, it is preferable that the other parts are subjected to solder plating or the like to increase resistance to oxidation or the like. FIG. 1 (e) shows a semiconductor chip 16 mounted on a printed wiring board prepared in the above-described process, connected to a wiring pattern on the printed wiring using gold wires 14, and a sealing resin such as an epoxy resin. This is a semiconductor device produced by performing resin sealing using No. 15.

【0040】〔実施例1〕図2に参照して説明すると、
ガラスクロスにBT樹脂(ビスマレイミド−トリアジン
樹脂)を含浸させた厚さ0.3mmの基材の両面に厚さ
18μmの銅箔が貼着された、両面銅貼積層板を二枚2
1、22を用意し、それぞれに対して、直径0.30m
mのドリルを用いて穴あけを行い、穴内にめっきを厚さ
25μmで行いバイアホール23、24を形成した。そ
して、それぞれ片面側だけを露光、現像及びエッチング
して、配線パターン25、26を形成し、二枚の両面配
線基板を作成した。そして、二枚の両面配線基板の間に
プリプレグ29を挟み、積層を行った。この時点で、バ
イアホール23、24の中には溶融したプリプレグ29
が流れ込み、充填された。そして、0.35mmのドリ
ルを用いて穴あけを行い、穴内にめっきを厚さ25μm
で行いバイアホール30を形成した。さらに、両面を露
光、現像及びエッチングして、配線パターン27、28
を形成した。
Embodiment 1 Referring to FIG. 2,
Two double-sided copper-clad laminates each having 18 μm-thick copper foil adhered to both sides of a 0.3 mm-thick base material impregnated with BT resin (bismaleimide-triazine resin) in a glass cloth 2
Prepare 1, 22 and for each, 0.30m in diameter
Holes were drilled using a drill having a thickness of 25 μm, and via holes 23 and 24 were formed in the holes by plating with a thickness of 25 μm. Then, only one side was exposed, developed, and etched to form wiring patterns 25 and 26, thereby producing two double-sided wiring boards. Then, the prepreg 29 was sandwiched between the two double-sided wiring boards to perform lamination. At this point, the melted prepreg 29 is contained in the via holes 23 and 24.
Flowed in and filled. Then, a hole is drilled using a 0.35 mm drill, and plating is applied in the hole to a thickness of 25 μm.
To form a via hole 30. Further, both sides are exposed, developed and etched to form wiring patterns 27 and 28.
Was formed.

【0041】このようにして、図2の四層の配線層を有
するリジッド配線板31を作成した。そして、次に図3
に示すように、リジッド配線板31の片側に、基本例
同様の方法を用い、表層配線層32、電極33を形成し
た。そして、両面にソルダーレジスト34を形成した。
このようにして、プリント配線板を得ることができ
Thus, the rigid wiring board 31 having the four wiring layers shown in FIG. 2 was prepared. And then Figure 3
As shown in (1), a surface wiring layer 32 and an electrode 33 were formed on one side of a rigid wiring board 31 using the same method as in the basic example . Then, a solder resist 34 was formed on both surfaces.
In this way, a printed wiring board can be obtained.

【0042】〔実施例2〕実施例1で製造したプリント
配線板を用い、電極33にリード35を熱圧着により接
合した。このようにして図4に示すようなプリント配線
板を得ることができた。
Example 2 A lead 35 was joined to an electrode 33 by thermocompression bonding using the printed wiring board manufactured in Example 1 . Thus, a printed wiring board as shown in FIG. 4 was obtained.

【0043】[0043]

【発明の効果】本発明によれば、アスペクト比を低下さ
せることができるため、スルーホールの信頼性が向上す
る。また、表層配線層の配線が厚くなることがなく、リ
ジッド基板に設けられた配線層の相互間を接続するバイ
アホールが表層配線層の配線可能な面積を消費すること
がないため、高精度、高密度な配線が可能となる。さら
に、上記多層プリント配線板の周囲に端子が設けられ、
該端子に外部接続用のリードが電気的に接続されている
ため、外部との接続も容易に行うことができる。以上の
ような優れた効果を有する多層プリント配線板を得るこ
とができる。
According to the present invention, since the aspect ratio can be reduced, the reliability of the through hole is improved. In addition, the wiring of the surface wiring layer does not become thick, and the via holes connecting the wiring layers provided on the rigid substrate do not consume the wirable area of the surface wiring layer. High-density wiring becomes possible. Further, terminals are provided around the multilayer printed wiring board,
Since a lead for external connection is electrically connected to the terminal, connection to the outside can be easily performed. A multilayer printed wiring board having the above-described excellent effects can be obtained.

【0044】[0044]

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の基本例に係るプリント配線板、及びそ
れを用いた半導体装置を製造工程順に示す説明図。
FIG. 1 is an explanatory view showing a printed wiring board according to a basic example of the present invention and a semiconductor device using the same in a manufacturing process order.

【図2】本発明の実施例1に係るプリント配線板のリジ
ッド基板部の説明図。
FIG. 2 is an explanatory diagram of a rigid board portion of the printed wiring board according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施例1に係るプリント配線板の説明
図。
FIG. 3 is an explanatory diagram of the printed wiring board according to the first embodiment of the present invention.

【図4】本発明の実施例2に係るプリント配線板の説明
図。
FIG. 4 is an explanatory diagram of a printed wiring board according to a second embodiment of the present invention.

【図5】従来のビルドアップ法を用いたプリント配線板
の製造方法の一例を示す説明図。
FIG. 5 is an explanatory view showing an example of a method for manufacturing a printed wiring board using a conventional build-up method.

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】液状樹脂をガラスクロスに含浸させ硬化さ
せた絶縁層を用い、かつ両面及び内層に配線層が形成さ
れた多層構造のリジッド基板と、前記リジッド基板の両
面側に表裏同じ材質からなる液状の樹脂を塗布し硬化さ
せて得られる絶縁層を介して、めっきにより設けられる
表層配線層と、リジッド基板に設けられた配線層と表層
配線層との間を、前記絶縁層を貫通して接続し、かつリ
ジッド基板を貫通しないように設けられたバイアホール
と、リジッド基板に設けられた配線層の相互間を接続す
るバイアホールと、を有する多層プリント配線板であっ
、前記リジッド基板に設けられた配線層の相互間を接
続するバイアホールは、両面の表層配線層を貫通しない
ことを特徴とする多層プリント配線板。
1. A rigid substrate having a multilayer structure in which an insulating layer obtained by impregnating a liquid resin into a glass cloth and hardening is used, and a wiring layer is formed on both surfaces and an inner layer, and both surfaces of the rigid substrate are made of the same material on both sides. Through an insulating layer obtained by applying and curing a liquid resin, a surface wiring layer provided by plating, and a wiring layer provided on a rigid substrate and a surface wiring layer, penetrating the insulating layer. connect Te, and the via holes formed so as not to penetrate the rigid substrate, met multilayer printed wiring board having a via hole, a connecting between the mutual wiring layer provided on the rigid substrate
And a via hole for connecting the wiring layers provided on the rigid board does not penetrate the surface wiring layers on both sides.
【請求項2】前記リジッド基板に設けられた配線層の相
互間を接続するバイアホールの上部に、絶縁層が形成さ
れていることを特徴とする請求項1記載の多層プリント
配線板。
2. The multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein an insulating layer is formed above the via holes connecting the wiring layers provided on the rigid substrate.
【請求項3】上記多層プリント配線板の周囲に端子が設
けられ、該端子に外部接続用のリードが電気的に接続さ
れていることを特徴とする請求項1または請求項2記載
の多層プリント配線板。
3. The multilayer printed circuit according to claim 1, wherein a terminal is provided around the multilayer printed wiring board, and a lead for external connection is electrically connected to the terminal. Wiring board.
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