JP3264982B2 - Wet buffing method - Google Patents
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は、被加工材の表面に、
砥粒を含有する研磨液を供給しながら回転駆動するバフ
を接触させて、被加工材の表面を研磨する湿式バフ加工
方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to
The present invention relates to a wet buffing method for polishing a surface of a workpiece by bringing a rotating buff into contact with a polishing liquid containing abrasive grains.
【0002】[0002]
【従来の技術】この種の湿式バフ加工方法においては、
バフに対する砥粒の供給は研磨液に添加して研磨液とと
もに行なわれるものである。2. Description of the Related Art In this type of wet buffing method,
The supply of the abrasive grains to the buff is carried out together with the polishing liquid in addition to the polishing liquid.
【0003】そして、バフによる研磨作用は、バフと被
加工物との接触領域で行なわれるので、砥粒を含有する
研磨液は種々の工夫により前記接触領域内の中央部分に
到達するようにその供給が行なわれている。[0003] Since the polishing action by the buff is performed in the contact area between the buff and the workpiece, the polishing liquid containing abrasive grains is moved by various means to reach the central portion in the contact area. Supply is taking place.
【0004】ところで、このようにして接触領域に供給
される砥粒は、研磨作用により摩滅するものであるの
で、研磨作用の効率等のため接触領域から適宜排出され
ることが必要であり、この種の摩滅した砥粒が多量に接
触領域内に残留すると、これに研磨による金属粉等が付
着して被加工物の表面に傷を付けたり,仕上むらを生じ
るおそれがある。Incidentally, the abrasive particles supplied to the contact area in this way are worn out by the polishing action, and therefore must be appropriately discharged from the contact area for the efficiency of the polishing action and the like. If a large amount of worn abrasive grains are left in the contact area, metal powder or the like by polishing may adhere to the abrasive grains, thereby damaging the surface of the workpiece or causing uneven finish.
【0005】そのため、従来においては、この種の湿式
バフ加工方法においては、適宜にバフ交換を行い、被加
工物の表面悪化を予防することとしている。[0005] Therefore, conventionally, in this type of wet buffing method, buffing is appropriately performed to prevent deterioration of the surface of the workpiece.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】かかる従来の技術によ
れば、その作業が面倒であるうえ、とくに被加工材の表
面を良好な仕上面とする場合には頻繁にその作業を行な
うこととなり、湿式バフ加工の効率が低下する。According to such a conventional technique, the work is troublesome, and especially when the surface of the workpiece is made to have a good finished surface, the work is frequently performed. The efficiency of wet buffing decreases.
【0007】この発明は、このような事情に基づいてな
されたもので、面倒なバフ交換の頻度を少なくすること
によって、被加工材の表面を良好な仕上面とする場合に
おいても湿式バフ加工を効率的に行えるようにすること
を目的とするものである。The present invention has been made in view of the above circumstances, and reduces the frequency of troublesome buff replacement so that wet buffing can be performed even when the surface of the workpiece has a good finished surface. It is intended to be able to perform efficiently.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に、請求項1記載の発明は、被加工材の表面に砥粒を含
有する研磨液を供給しながら、回転軸に取り付けたバフ
と接触させて、被加工材の表面を研磨する湿式バフ加工
方法において、前記バフによる被加工材の研磨工程中
に、前記バフと被加工材の表面との間を離間させるよう
に移動させ、この後、当該バフと被加工材の表面とを接
近させて、先と同様の押圧力で接触させるとともに、こ
の間前記研磨液の供給を継続し、且つ、前記被加工材を
正逆方向への回転駆動を可能とした回転テーブルに固定
し、この回転テーブルの回転駆動方向の反転に伴って、
被加工材の表面に対するバフの前記移動を行なうことを
特徴とする。In order to achieve this object, an invention according to claim 1 comprises a buff attached to a rotating shaft while supplying a polishing liquid containing abrasive grains to a surface of a workpiece. by contacting, in the wet buffing method of polishing a surface of the workpiece, during the polishing process of the workpiece by the buff is moved in so that is spaced between the buff and the surface of the workpiece, Thereafter, the buff is brought close to the surface of the workpiece, and brought into contact with the same pressing force as before, while the supply of the polishing liquid is continued , and the workpiece is removed.
Fixed to a rotary table that enables forward and reverse rotation drive
Then, with the reversal of the rotation driving direction of the rotary table,
The movement of the buff with respect to the surface of the workpiece is performed.
【0009】[0009]
【作用】請求項1記載の発明によれば、被加工材の表面
に対するバフの前記移動によりバフの被加工物への押圧
力が低下した状態で、バフと被加工物との間に研磨液が
供給されるので、それまでバフと被加工物との間に挟持
されていた摩滅した砥粒や金属粉等の拘束が緩み、この
研磨液による排除が促進される。According to the first aspect of the present invention, the polishing liquid is placed between the buff and the workpiece in a state where the buff presses the workpiece against the workpiece by the movement of the buff relative to the surface of the workpiece. Is supplied, the restraint of the worn abrasive grains, metal powder, etc., which has been held between the buff and the workpiece, is loosened, and the removal by the polishing liquid is promoted.
【0010】そのため、バフと被加工物との間に存在す
る摩滅した砥粒等が軽減し、被加工物の表面に傷を付け
たり,仕上むらを生じるおそれが軽減する。[0010] Therefore, worn abrasive grains and the like existing between the buff and the workpiece are reduced, and the possibility of scratching the surface of the workpiece and causing uneven finish is reduced.
【0011】したがって、面倒なバフ交換の頻度を少な
くすることができ、被加工材の表面を良好な仕上面とす
る場合においても湿式バフ加工を効率的に行うことがで
きる。また、回転テーブルの回転駆動方向の反転に伴っ
て、被加工材の表面に対するバフの移動を行なうように
することにより、上記効果を一層高めることができる。 Therefore, the frequency of troublesome buff replacement can be reduced, and the wet buffing can be efficiently performed even when the surface of the workpiece has a good finished surface. Also, with the reversal of the rotation drive direction of the rotary table,
To move the buff relative to the surface of the workpiece
By doing so, the above effect can be further enhanced.
【0012】[0012]
【実施例】以下、図面に示す実施例によりこの発明を説
明するが、この実施例はアルミニウム合金製の鋳造品で
ある自動車用ホイールのデザイン面について本願技術を
適用するものである。なお、デザイン面とは自動車用ホ
イールを自動車に装着した場合に、車体の外側に向き,
自動車の外観の一部を構成する面のことである。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below with reference to an embodiment shown in the drawings. In this embodiment, the present invention is applied to a design surface of an automobile wheel which is a cast product made of an aluminum alloy. In addition, when the wheel is mounted on a car, the design surface faces the outside of the car body,
A surface that constitutes a part of the appearance of a car.
【0013】まず、被加工物としての自動車用ホイール
素材1は、所要の形状に形成された鋳型内にアルミニウ
ム合金(例えば、AC4CH)の溶湯を注湯することによっ
て鋳造されたものである。First, an automobile wheel blank 1 as a workpiece is cast by pouring a molten metal of an aluminum alloy (for example, AC4CH) into a mold formed into a required shape.
【0014】このようにして得られた自動車用ホイール
素材1は、鋳型から取り出された後、堰等を除去すると
ともに、所要の位置に所定の機械加工を施し、自動車用
ホイールとしての寸法精度が確保された状態となってい
る。After the wheel material 1 for an automobile thus obtained is taken out of the mold, the weirs and the like are removed, and a predetermined position is machined at a required position, so that the dimensional accuracy of the automobile wheel is reduced. It is in a secured state.
【0015】なお、自動車用ホイール素材1において
は、デザイン的な要求からそのデザイン面2にはスポー
ク部3,透孔4,ハブ部5およびリム部6等により多数
の凹凸が形成されている(図2,3参照)。In the wheel material 1 for automobiles, a large number of irregularities are formed on the design surface 2 of the automobile wheel material 1 by a spoke portion 3, a through hole 4, a hub portion 5, a rim portion 6, etc. 2 and 3).
【0016】かかる自動車用ホイール素材1のデザイン
面2(本願発明の表面に該当する)は、所要の荒仕上お
よび中仕上をなされた後、以下の湿式バフ加工方法が行
なわれ、最終的にそのデザイン面2は光輝状態の良好な
仕上面に形成される。The design surface 2 (corresponding to the surface of the present invention) of the wheel material 1 for an automobile is subjected to a required rough finish and a medium finish, and then subjected to the following wet buffing method. The design surface 2 is formed on a good finished surface in a bright state.
【0017】すなわち、実施例の湿式バフ加工方法は、
次のようである(図2,3参照)。That is, the wet buffing method of the embodiment is as follows.
It is as follows (see FIGS. 2 and 3).
【0018】この湿式バフ加工方法においては、自動車
用ホイール素材1は回転テーブル11上にその中心を回
転テーブル11の回転中心Oと一致させて前記デザイン
面2が上向きの水平姿勢に固定し、これに上方から垂下
した回転軸12の下端部に装着したバフ13の下端面で
前記デザイン面2を研磨するものである。In this wet buffing method, the wheel material 1 for an automobile is fixed on a rotary table 11 such that the center of the wheel material 1 coincides with the rotation center O of the rotary table 11 so that the design surface 2 is in an upward horizontal position. The design surface 2 is polished with a lower end surface of a buff 13 attached to a lower end portion of a rotating shaft 12 hanging down from above.
【0019】前記回転テーブル11は加工時には低速で
回転駆動され、前記バフ13による加工部位を順次周方
向に変位させるものである。なお、この実施例の前記回
転テーブル11は適宜時間(例えば、30秒)毎にその回
転方向を逆転するものである。The rotary table 11 is rotated at a low speed at the time of machining, and sequentially displaces a portion to be machined by the buff 13 in a circumferential direction. The rotation direction of the turntable 11 of this embodiment is reversed at appropriate intervals (for example, every 30 seconds).
【0020】そして、前記バフ13は、従来のバフに較
べて極めて柔軟な素材により形成されたもので、この実
施例では発泡倍率の高い(例えば、3倍〜5倍),連続
気泡のスポンジ材で形成されたものである。なお、バフ
13としてはスポンジ材に限らず、これと同等程度に柔
軟であればその他の材料からなるバフを用いてもよい。The buff 13 is formed of a material which is extremely flexible as compared with the conventional buff. In this embodiment, the foaming ratio is high (for example, 3 to 5 times), and the open-cell sponge material is used. Is formed. The buff 13 is not limited to a sponge material, and a buff made of another material may be used as long as the material is as flexible as the sponge material.
【0021】そのため、このバフ13は、デザイン面2
に凹凸が存在するにもかかわらず、図2に示すように、
その下端面がデザイン面2上に確実に接触状態を維持で
きる。For this reason, the buff 13 is
Despite the presence of irregularities on the surface, as shown in FIG.
The lower end surface can reliably maintain the contact state on the design surface 2.
【0022】かかるバフ13のデザイン面2への押圧力
は、例えば1kgf/cm2以下の小さなものである。The pressing force of the buff 13 on the design surface 2 is as small as, for example, 1 kgf / cm 2 or less.
【0023】かかるバフ13を下端部に支持する前記回
転軸12は、油圧シリンダ等で構成された昇降装置15
に保持されて上下に移動可能となっており、前記回転軸
12は前記バフ13の回転速度が10m/sec以下の程度の
極めて低速度となるように、例えば300r.p.mで駆動する
ものであり、この実施例の場合には前記バフ13の回転
速度は例えば4m/secである。The rotating shaft 12 for supporting the buff 13 at the lower end is provided with an elevating device 15 composed of a hydraulic cylinder or the like.
The rotation shaft 12 is driven at, for example, 300 rpm so that the rotation speed of the buff 13 is extremely low, such as about 10 m / sec or less. In this embodiment, the rotational speed of the buff 13 is, for example, 4 m / sec.
【0024】これは、前記したバフ13を構成する柔軟
な素材が、前記デザイン面2の凹凸に対する接触状態を
維持しながらその凹凸に追従して確実に変形できるよう
にするためである。This is to ensure that the flexible material constituting the buff 13 can be deformed following the irregularities while maintaining the state of contact with the irregularities on the design surface 2.
【0025】そして、この回転軸12の回転方向は、前
記回転テーブル11の回転方向と一致する向きに回転駆
動されるようになっており、前記回転テーブル11の回
転方向が逆向きに反転する際には、前記昇降装置15に
より回転軸12が引き上げられ前記バフ13がデザイン
面2から上方に離間するとともに、この回転軸12の回
転方向も逆向きに反転駆動するようになっている。The rotating direction of the rotating shaft 12 is adapted to be driven to rotate in a direction coinciding with the rotating direction of the rotary table 11, and when the rotating direction of the rotary table 11 is reversed to the opposite direction. In the meantime, the rotating shaft 12 is lifted by the elevating device 15, the buff 13 is separated upward from the design surface 2, and the rotating direction of the rotating shaft 12 is reversely driven.
【0026】したがって、前記回転テーブル11の回転
方向の反転があっても、回転テーブル11の回転方向と
前記バフ13の回転方向とは常に同方向に維持される。Therefore, even if the rotation direction of the turntable 11 is reversed, the rotation direction of the turntable 11 and the rotation direction of the buff 13 are always maintained in the same direction.
【0027】このような回転軸12には軸穴12aが形
成されており、砥粒の添加された研磨液がこの軸穴12
aを通じてバフ13とデザイン面2との接触領域の中央
部に供給されるようになっている。A shaft hole 12a is formed in such a rotating shaft 12, and a polishing liquid to which abrasive grains are added is applied to the shaft hole 12a.
a to the center of the contact area between the buff 13 and the design surface 2.
【0028】この実施例では、この研磨液は粒径が10
μmのアルミナを砥粒として含有し、界面活性剤の添加
された水溶液である。In this embodiment, the polishing liquid has a particle size of 10
containing μm alumina as abrasive grains, it is the added aqueous solution of a surfactant.
【0029】また、この実施例においては、図3に仮想
線で示すように、前記と同一の研磨液をバフ13とデザ
イン面2との接触領域に向けて供給する研磨液ノズル1
6が設置されており、これにより前記バフ13とデザイ
ン面2の接触領域の周縁部側から新鮮な砥粒の供給を確
実に行なうようになっている。In this embodiment, as shown by the imaginary line in FIG. 3, the polishing liquid nozzle 1 supplies the same polishing liquid as described above toward the contact area between the buff 13 and the design surface 2.
6 is provided to ensure the supply of fresh abrasive grains from the peripheral edge side of the contact area between the buff 13 and the design surface 2.
【0030】なお、回転軸12の軸穴12aと研磨液ノ
ズル16とから供給される研磨液は例えば100cc/min以
上の程度である。The polishing liquid supplied from the shaft hole 12a of the rotary shaft 12 and the polishing liquid nozzle 16 is, for example, about 100 cc / min or more.
【0031】そして、前記回転軸12の軸穴12aおよ
び前記研磨液ノズル16からの研磨液の供給は、前記回
転テーブル11の回転方向の反転時にも継続するように
なっている。The supply of the polishing liquid from the shaft hole 12a of the rotary shaft 12 and the polishing liquid nozzle 16 is continued even when the rotation direction of the rotary table 11 is reversed.
【0032】この実施例における回転テーブル11の回
転,バフ13の回転,回転軸12の移動および研磨液の
供給は、図1のタイミングチャートに示すようである。The rotation of the rotary table 11, the rotation of the buff 13, the movement of the rotary shaft 12, and the supply of the polishing liquid in this embodiment are as shown in the timing chart of FIG.
【0033】図1において、横軸は時間軸を示し、時刻
t0は回転テーブル11が右回転中のある時刻である。
この時刻t0から回転テーブル11の右回転が停止する
時刻t1までの間には、バフ13を有する回転軸12
は、図2に実線で示す下降位置でバフ13を所定の押圧
力でデザイン面2に押圧した状態(図1中に「接」で示
す)を維持する。また、このバフ13は、前記回転軸1
2により所定の回転速度で右回転されている。そして、
この間において、研磨液は前記回転軸12の軸穴12a
および研磨液ノズル16を経てバフ13の下端部と前記
デザイン面2との接触領域に向けて供給されている。In FIG. 1, the horizontal axis indicates the time axis, and time t 0 is a certain time when the turntable 11 is rotating clockwise.
Between the time t 0 and the time t 1 at which the right rotation of the turntable 11 stops, the rotating shaft 12 having the buff 13
Maintains a state in which the buff 13 is pressed against the design surface 2 with a predetermined pressing force at the lowered position indicated by the solid line in FIG. 2 (indicated by “contact” in FIG. 1). The buff 13 is provided on the rotating shaft 1.
2 rotates clockwise at a predetermined rotation speed. And
During this time, the polishing liquid is applied to the shaft hole 12a of the rotary shaft 12.
The polishing liquid is supplied through a polishing liquid nozzle 16 toward a contact area between the lower end of the buff 13 and the design surface 2.
【0034】そのため、この時刻t0から時刻t1までの
間には、バフ13とデザイン面2との接触領域で前記研
磨液が含有する砥粒による研磨作用が行なわれる。Therefore, between the time t 0 and the time t 1 , the polishing action is performed by the abrasive grains contained in the polishing liquid in the contact area between the buff 13 and the design surface 2.
【0035】時刻t1になると、回転テーブル11およ
びバフ13の回転方向を反転するために回転テーブル1
1およびバフ13の回転が停止する。これとともに、前
記昇降装置15が回転軸12を引き上げ駆動して、バフ
13の下端面とデザイン面2とを離間した状態(図2に
仮想線で示す上昇位置であり、図1中に「離」で示
す。)とする。この状態においても、研磨液の供給は前
記と同様に行なわれている。At time t 1 , the rotation table 1 and the buff 13 are rotated to reverse the rotation direction.
1 and the buff 13 stop rotating. At the same time, the elevating device 15 pulls up and drives the rotating shaft 12 to separate the lower end surface of the buff 13 from the design surface 2 (the raised position indicated by the imaginary line in FIG. 2; ").) Also in this state, the supply of the polishing liquid is performed in the same manner as described above.
【0036】したがって、このようにバフ13がデザイ
ン面2から離間した状態で、接触領域であった部位に研
磨液が供給されるので、時刻t1までの間に接触領域内
に拘束されていた摩滅した砥粒や金属粉はその研磨液で
洗い流される。Therefore, the polishing liquid is supplied to the portion that was the contact region in a state where the buff 13 is separated from the design surface 2 as described above, so that the polishing liquid was confined in the contact region until time t 1 . The worn abrasive grains and metal powder are washed away with the polishing liquid.
【0037】なお、この状態は時刻t1から時刻2までの
短時間であり、例えば5秒程度である。[0037] Incidentally, this state is short from time t 1 to time 2, for example, about 5 seconds.
【0038】時刻t2においては、前記回転テーブル1
1の左回転が開始するとともに、前記回転軸12は昇降
装置15が下降することによって、先と同様に下降位置
でバフ13を所定の押圧力でデザイン面2に押圧した状
態で、バフ13が左回転を開始する。研磨液の供給は、
先と同様であるので、この時刻t2から時刻t3までの間
においても右回転の場合と同様に接触領域では研磨作用
が行なわれる。At time t 2 , the rotary table 1
1 starts rotating counterclockwise, and the rotating shaft 12 is lowered by the elevating device 15 so that the buff 13 is pressed against the design surface 2 with a predetermined pressing force at the lowered position as described above. Start left rotation. Supply of polishing liquid
It is the same as above, polishing action in the case of clockwise rotation as well as the contact region in the period from the time t 2 to time t 3 is performed.
【0039】この際、前記時刻t1から時刻t2の間に先
に生じていた摩滅砥粒や金属粉が排除されているので、
新たにな砥粒が接触領域中に分散されやすく、良好な研
磨作用が行なわれる。At this time, since the abraded abrasive grains and the metal powder generated earlier during the time t 1 to the time t 2 have been removed,
New abrasive grains are easily dispersed in the contact area, and a good polishing action is performed.
【0040】なお、この時刻t2から時刻t3までの時間
は例えば30秒程度であり、回転テーブル11等の右回
転動作の時間も同様である。The time from time t 2 to time t 3 is, for example, about 30 seconds, and the same applies to the time of the right rotation operation of the turntable 11 and the like.
【0041】時刻t3においては、回転テーブル11お
よびバフ13の回転方向を右回転に反転するために停止
する。At time t 3 , the rotation of the turntable 11 and the buff 13 is stopped to reverse the rotation direction to the right.
【0042】そして、前記昇降装置15により回転軸1
2を介して、バフ13の下端面とデザイン面2とを離間
した状態とし、研磨液の供給が継続していることは前記
時刻t1から時刻t2までと同様である。The rotating shaft 1 is moved by the elevating device 15.
2, the lower end surface of the buff 13 and the design surface 2 are separated from each other, and the supply of the polishing liquid is continued as in the case from the time t 1 to the time t 2 .
【0043】したがって、時刻t3までの間に接触領域
内に拘束されていた摩滅した砥粒や金属粉は研磨液で洗
い流され時刻t4から回転テーブル11およびバフ13
は右回転を開始し、前記した時刻t1から時刻t2までと
同様に機能する。Therefore, the worn abrasive grains and metal powder that have been confined in the contact area until time t 3 are washed away with the polishing liquid, and the rotating table 11 and the buff 13 are removed from time t 4.
Starts right rotation, function similarly to the time t 1 that the until time t 2.
【0044】このように回転テーブル11およびバフ1
3の回転・停止・反転を適宜時間に渡って繰り返すこと
により、前記デザイン面2は光輝状態の良好な仕上面と
しての研磨が完了する。As described above, the rotary table 11 and the buff 1
By repeating the rotation, stop and reversal of 3 over an appropriate period of time, the polishing of the design surface 2 as a finished surface in a bright state is completed.
【0045】この実施例においては、回転テーブル11
とバフ13の回転方向の反転に伴い、バフ13をデザイ
ン面2から離間するように引き上げ、先にバフ13と接
触していたデザイン面2上の部位にその状態で研磨液を
供給するから研磨作用中にバフ13とデザイン面2との
間に挟持されていた摩滅した砥粒等の異物の排除が確実
に行える利点がある。In this embodiment, the rotary table 11
With the reversal of the rotation direction of the buff 13 and the buff 13, the buff 13 is pulled up so as to be separated from the design surface 2, and the polishing liquid is supplied in that state to the portion on the design surface 2 that has been in contact with the buff 13 in advance, so There is an advantage that foreign substances such as worn abrasive grains sandwiched between the buff 13 and the design surface 2 during operation can be reliably removed.
【0046】そのため、バフ13を連続的に使用し得る
時間が長期化し、従来のように頻繁に交換することが不
要となるので、湿式バフ加工方法で良好な仕上面を得る
場合にその研磨作業を効率的に行なうことができる。As a result, the time during which the buff 13 can be used continuously becomes long, and it is not necessary to frequently replace the buff 13 as in the prior art. Can be performed efficiently.
【0047】以上説明した実施例においては、回転テー
ブル11等の反転の機会を利用して摩滅した砥粒等の排
除を行なうこととしたが、これに限らず、例えば図4に
示すようにしてもよい。In the above-described embodiment, worn abrasive grains and the like are eliminated by using the opportunity of reversing the rotary table 11 or the like. However, the present invention is not limited to this. For example, as shown in FIG. Is also good.
【0048】図4は前記図1に示したタイミングチャー
トに、摩滅した砥粒等の排除の機会P1,P2を追加して
設定したものであり、以下においてはこの点についての
み説明を行なう。FIG. 4 shows the timing chart shown in FIG. 1 in which opportunities P 1 and P 2 for eliminating worn abrasive grains and the like are additionally set. In the following, only this point will be described. .
【0049】これらの摩滅した砥粒等の排除の機会
P1,P2は、図4から明らかなように、前記の時刻t1
から時刻t2まで,あるいは時刻t3から時刻t4までに
設けられた場合より、回転軸12の昇降動作の高さが小
さく,かつその時間も短時間のものである。As can be seen from FIG. 4, the occasions P 1 and P 2 for eliminating the worn abrasive grains are determined at the time t 1.
From up to time t 2, the or than provided from time t 3 to time t 4, the height of the lifting operation of the rotary shaft 12 is small and also that time is of a short time.
【0050】すなわち、これらの機会P1,P2は、図4
から明らかなように、回転テーブル11およびバフ13
が左回転動作中に、回転軸12を短時間に僅かに昇降動
作することにより、バフ13とデザイン面2との間を拡
大するようにバフ13が移動するが、バフ13はデザイ
ン面2から離間するには至らず、バフ13による押圧力
を弱めるものである。That is, these opportunities P 1 and P 2 correspond to FIG.
As is clear from FIG.
By slightly raising and lowering the rotary shaft 12 in a short time during the left rotation operation, the buff 13 moves so as to enlarge the space between the buff 13 and the design surface 2. The pressing force by the buff 13 is weakened without being separated.
【0051】これによっても、バフ13とデザイン面2
との間に挟持された摩滅した砥粒等の拘束が弱まるの
で、その後の研磨液により摩滅した砥粒等の接触領域外
への流出および新たな砥粒の供給をある程度促進するこ
とができ、バフ13を連続的に使用し得る時間が長期化
できるので、バフ交換を軽減して湿式バフ加工方法によ
り良好な仕上面を得る場合にその研磨作業を効率的に行
なうことができる。In this way, the buff 13 and the design surface 2
Since the restraint of the worn abrasive grains and the like sandwiched in between is weakened, the outflow of the worn abrasive grains and the like to the outside of the contact region by the subsequent polishing liquid and the supply of new abrasive grains can be promoted to some extent, Since the time during which the buff 13 can be used continuously can be prolonged, the polishing operation can be efficiently performed when the buff replacement is reduced and a good finished surface is obtained by the wet buffing method.
【0052】また、このような摩滅した砥粒の排除およ
び新たな砥粒の供給の機会P1,P2の時間的間隔は例え
ば5秒程度の短時間とし、研磨工程中に継続的にバフ1
3の昇降動作を行わせれば、バフ13とデザイン面2と
の間に位置して研磨作用を行う砥粒を良好な状態に維持
することができる。Further, the time interval between the occasions P 1 and P 2 for removing such worn abrasive grains and supplying new abrasive grains is set to a short time of, for example, about 5 seconds, and is continuously buffed during the polishing process. 1
By performing the lifting / lowering operation of No. 3, the abrasive grains positioned between the buff 13 and the design surface 2 and performing the polishing action can be maintained in a good state.
【0053】そして、この場合にバフ13の動作をデザ
イン面2から離間するように行わせることとすれば、バ
フ13とデザイン面2との間に位置する砥粒の新たな砥
粒への新陳代謝が効果的に行われ、良好な砥粒による研
磨加工が確実に行われるので、比較的短時間の加工で良
好な仕上げ面を確実にうることができる。In this case, if the operation of the buff 13 is performed so as to be separated from the design surface 2, the metabolism of the abrasive grains located between the buff 13 and the design surface 2 to new abrasive grains is performed. Is effectively performed, and the polishing process with good abrasive grains is performed reliably, so that a good finished surface can be reliably obtained by processing in a relatively short time.
【0054】なお、以上説明した実施例において、回転
軸12はたて軸としたものであるが、本願発明はバフを
回転駆動する回転軸を横軸としたものにも同様に実施で
きることはいうまでもない。In the above-described embodiment, the rotating shaft 12 is a vertical shaft. However, it can be said that the present invention can be similarly applied to the case where the rotating shaft for driving and rotating the buff has a horizontal axis. Not even.
【0055】[0055]
【発明の効果】以上説明したように、請求項1記載の発
明によれば、被加工材の表面に対するバフの前記移動に
よりバフの被加工物への押圧力が低下した状態で、バフ
と被加工物との間に研磨液が供給されるので、それまで
バフと被加工物との間に挟持されていた摩滅した砥粒や
金属粉等の拘束が緩み、この研磨液による排除が促進さ
れる。As described above, according to the first aspect of the present invention, the buff and the workpiece are reduced in a state where the buff pressing force on the workpiece is reduced by the movement of the buff with respect to the surface of the workpiece. Since the polishing liquid is supplied between the workpiece and the workpiece, the restraint of the worn abrasive grains and metal powders which have been held between the buff and the workpiece is loosened, and the removal by the polishing liquid is promoted. You.
【0056】そのため、バフと被加工物との間に存在す
る摩滅した砥粒等が軽減し、被加工物の表面に傷を付け
たり,仕上むらを生じるおそれが軽減する。Therefore, worn abrasive grains and the like existing between the buff and the workpiece are reduced, and the possibility of scratching the surface of the workpiece and causing uneven finish is reduced.
【0057】したがって、面倒なバフ交換の頻度を少な
くすることができ、被加工材の表面を良好な仕上面とす
る場合においても湿式バフ加工を効率的に行うことがで
きる。また、回転テーブルの回転駆動方向の反転に伴っ
て、被加工材の表面に対するバフの移動を行なうように
することにより、上記効果を一層高めることができる。 Therefore, the frequency of troublesome buff replacement can be reduced, and the wet buffing can be efficiently performed even when the surface of the workpiece has a good finished surface. Also, with the reversal of the rotation drive direction of the rotary table,
To move the buff relative to the surface of the workpiece
By doing so, the above effect can be further enhanced.
【図1】実施例の湿式バフ加工方法のタイミングチャー
トである。FIG. 1 is a timing chart of a wet buffing method according to an embodiment.
【図2】図3のA−A線に沿う断面図である。FIG. 2 is a sectional view taken along line AA of FIG.
【図3】湿式バフ加工方法の説明用上面図である。FIG. 3 is a top view for explaining a wet buffing method.
【図4】変形例のタイミングチャートである。FIG. 4 is a timing chart of a modified example.
1 自動車用ホイール素材(被加工物) 2 デザイン面(表面) 11 回転テーブル 12 回転軸 13 バフ 15 昇降装置 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Automobile wheel material (workpiece) 2 Design surface (surface) 11 Rotary table 12 Rotary axis 13 Buff 15 Lifting device
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平4−93168(JP,A) 特開 平4−336954(JP,A) 特開 昭50−104491(JP,A) 特開 平3−234460(JP,A) 特開 平2−15970(JP,A) 実開 昭50−21194(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B24B 29/00 B24B 57/02 B24B 37/00 Continuation of the front page (56) References JP-A-4-93168 (JP, A) JP-A-4-336954 (JP, A) JP-A-50-104491 (JP, A) JP-A-3-234460 (JP) , A) JP-A-2-15970 (JP, A) JP-A-50-21194 (JP, U) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) B24B 29/00 B24B 57/02 B24B 37/00
Claims (3)
を供給しながら、回転軸に取り付けたバフと接触させ
て、被加工材の表面を研磨する湿式バフ加工方法におい
て、 前記バフによる被加工材の研磨工程中に、前記バフと被
加工材の表面との間を離間させるように移動させ、この
後、当該バフと被加工材の表面とを接近させて、先と同
様の押圧力で接触させるとともに、この間前記研磨液の
供給を継続し、 且つ、前記被加工材を正逆方向への回転駆動を可能とし
た回転テーブルに固定し、この回転テーブルの回転駆動
方向の反転に伴って、被加工材の表面に対するバフの前
記移動を行なう ことを特徴とする湿式バフ加工方法。1. A wet buffing method for polishing a surface of a workpiece by supplying a polishing liquid containing abrasive grains to the surface of the workpiece and bringing the polishing liquid into contact with a buff attached to a rotating shaft. during the polishing process of a workpiece according, to move to so that is spaced between the buff and the surface of the workpiece, after this, is brought closer to the said buff the surface of the workpiece, as in the previous And the supply of the polishing liquid is continued during this time , and the workpiece can be driven to rotate in the forward and reverse directions.
Fixed to the rotating table
As the direction is reversed, before the buff to the surface of the workpiece
A wet buffing method characterized by performing the movement .
て、前記回転テーブルの回転駆動方向の反転に伴って、
前記回転軸の回転方向の反転を併せて行い、前記回転テ
ーブルの回転方向と前記回転軸の回転方向とを同一方向
に維持することを特徴とする湿式バフ加工方法。2. The wet buffing method according to claim 1 , wherein the rotation driving direction of the rotary table is reversed.
A wet buffing method, wherein the rotation direction of the rotating shaft is also reversed, and the rotating direction of the rotary table and the rotating direction of the rotating shaft are maintained in the same direction.
供給しながら、回転軸に取り付けたバフと接触させて、
被加工材の表面を研磨する湿式バフ加工方法において、 前記バフによる被加工材の研磨工程中に、前記バフと被
加工材の表面との間を離間させるように移動させ、この
後、当該バフと被加工材の表面とを接近させて、先と同
様の押圧力で接触させるとともに、この間前記研磨液の
供給を継続し、 且つ、被加工材の表面に対するバフの離間に伴って、前
記回転軸の回転方向を反転させる ことを特徴とする湿式
バフ加工方法。3. While supplying a polishing liquid containing abrasive grains to the surface of a workpiece, it is brought into contact with a buff attached to a rotating shaft,
In wet buffing method of polishing a surface of the workpiece, during the polishing process of the workpiece by the buff is moved in so that is spaced between the buff and the surface of the workpiece, after this, the The buff is brought close to the surface of the workpiece and brought into contact with the same pressing force as before, while the supply of the polishing liquid is continued during this time , and with the separation of the buff from the surface of the workpiece,
A wet buffing method characterized by reversing the rotation direction of the rotating shaft .
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16923692A JP3264982B2 (en) | 1992-06-26 | 1992-06-26 | Wet buffing method |
| US08/082,295 US5491030A (en) | 1992-06-26 | 1993-06-28 | Surface finishing for metal moldings |
| US08/435,212 US5706567A (en) | 1992-06-26 | 1995-05-05 | Method of surface finishing of metal moldings |
| US08/787,109 US5792334A (en) | 1992-06-26 | 1997-01-22 | Method of surface finishing of metal moldings |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16923692A JP3264982B2 (en) | 1992-06-26 | 1992-06-26 | Wet buffing method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0691514A JPH0691514A (en) | 1994-04-05 |
| JP3264982B2 true JP3264982B2 (en) | 2002-03-11 |
Family
ID=15882764
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16923692A Expired - Fee Related JP3264982B2 (en) | 1992-06-26 | 1992-06-26 | Wet buffing method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3264982B2 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6486931B1 (en) | 1999-06-14 | 2002-11-26 | Nec Corporation | LCD optical guide plate with a roughened back surface having projections that support a reflecting sheet |
-
1992
- 1992-06-26 JP JP16923692A patent/JP3264982B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6486931B1 (en) | 1999-06-14 | 2002-11-26 | Nec Corporation | LCD optical guide plate with a roughened back surface having projections that support a reflecting sheet |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0691514A (en) | 1994-04-05 |
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